1.一种无损式自清洁硅片插片装置，包括用于承载相同硅片的大花篮(22)和小花篮(23)，大花篮(22)和小花篮(23)均具有开口向上的容纳腔，容纳腔内均等间隔分布有若干用于插设硅片的插槽(24)，大花篮(22)中相邻两个插槽(24)的间距与小花篮(23)中相邻两个插槽(24)的间距相等，其特征在于：还包括底座(1)，所述底座(1)上通过立柱(2)固定有层板(3)，所述层板(3)上通过侧板(4)固定有平台(5)，所述平台(5)上开设有与所述小花篮(23)相匹配的第一通孔(501)，所述层板(3)上开设有与第一通孔(501)相匹配的第二通孔(301)，所述第二通孔(301)位于第一通孔(501)的正下方，所述小花篮(23)开口端的前后两侧分别向外延伸有侧翼(23-1)，小花篮(23)前后两端的侧翼(23-1)分别支撑在平台(5)上位于第一通孔(501)的两侧，所述小花篮(23)开口端的左右两侧端面均嵌入有条形铁片(23-2)，所述小花篮(23)的开口端盖设有托板(6)，所述托板(6)的左右两侧均设置有用于与条形铁片(23-2)吸附的第一磁铁(7)，所述托板(6)的下表面设置有第二磁铁(8)，所述大花篮(22)的底面具有与托板(6)相匹配的缺口(22-1)；
所述层板(3)的上表面固定有推动气缸(9)，所述推动气缸(9)的伸出端与滑座(10)固定连接，所述滑座(10)滑动设置在层板(3)的上表面，所述滑座(10)上开设有与大花篮(22)相匹配的定位槽，所述定位槽的底面开设有第三通孔(10-1)，定位槽与第三通孔(10-1)之间形成台阶面；
所述底座(1)上固定有伸出端朝上的顶升气缸(11)，所述顶升气缸(11)的伸出端上固定有托杆(12)，所述托杆(12)依次穿过第二通孔(301)、第三通孔(10-1)及第一通孔(501)，所述托杆(12)的顶端固定有用于与第二磁铁(8)吸附的第三磁铁(13)，所述第二磁铁(8)与第三磁铁(13)之间的吸附力大于第一磁铁(7)与条形铁片(23-2)之间的吸附力；
所述层板(3)的下方设置有气泵(14)，所述气泵(14)的出气端连接有喷出管(15)，所述喷出管(15)位于第二通孔(301)的正下方，所述喷出管(15)的侧壁上沿其轴向方向等间隔分布有若干气孔，所述气孔的轴线与托杆(12)的轴线平行。
2.根据权利要求1所述的无损式自清洁硅片插片装置，其特征在于：所述平台(5)上设置有用于夹持小花篮(23)的夹持装置，所述夹持装置包括左固定板(16)、左活动板(17)及右固定板(18)，所述左活动板(17)与平台(5)滑动连接，所述右固定板(18)与平台(5)固定连接，所述左固定板(16)固定在平台(5)上位于左活动板(17)右侧的部位，所述左固定板(16)与左活动板(17)之间设置有弹簧(19)，所述左活动板(17)和右固定板(18)分别位于第一通孔(501)的左右两侧。
3.根据权利要求2所述的无损式自清洁硅片插片装置，其特征在于：所述滑座(10)上设置有定位座(20)，所述定位座(20)上开设有销孔，所述销孔内滑动设置有定位销(21)，所述大花篮(22)的侧面开设有与定位销(21)相匹配的定位孔，所述定位销(21)的轴线与推动气缸(9)的轴线平行。