技术总结
本实用新型公开了一种等离子体处理装置，包括腔体、设置在腔体中的顶部并喷出工作气体的上电极、以及设置在腔体中的与上电极相对的位置上的下电极，其中在下电极形成供工作气体流出的抽气通道。本实用新型将抽气通道与下电极集成在一起，大幅降低了电极结构的高度和腔体的整体尺寸，使电极结构更加轻便。并且，可以让等离子体基本分布在下电极上方，提高等离子体的利用率，使处理更加均匀。
技术研发人员：孙溯;彭帆;张二辉;
受保护的技术使用者：上海稷以科技有限公司;
技术研发日：2017.11.20
技术公布日：2018.08.14