成像装置的制作方法

文档序号:17349695发布日期:2019-04-09 21:04阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明涉及成像装置。该成像装置可包括:基板;基板中的第一、第二和第三光电转换区域,第二光电转换区域邻近于第一光电转换区域,第三光电转换区域邻近于第二光电转换区域;第一沟槽,位于第一和第二光电转换区域之间;以及第二沟槽,位于第二和第三光电转换区域之间,其中,在横截面上,第一光电转换区域的面积大于第二光电转换区域的面积,第一沟槽沿第一光电转换区域的第一侧壁延伸第一距离,第一距离是沿第一侧壁从第一光电转换区域的第一光接收表面至第一沟槽的端部测定的,第二沟槽沿第二光电转换区域的第二侧壁延伸第二距离,第二距离是沿第二侧壁从第二光电转换区域的第二光接收表面至第二沟槽的端部测定的,第一距离大于第二距离。

技术研发人员:柳田刚志;斋藤卓;小池薰
受保护的技术使用者:索尼公司
技术研发日:2014.03.27
技术公布日:2019.04.09
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