显示面板及显示面板制造方法与流程

本申请涉及显示领域，尤其涉及一种显示面板及显示面板制造方法。

背景技术：

随着科技的不断发展，利用有机材料薄膜层的电流来发光的有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，oled)显示器件得到了越来越广泛的应用。

在oled显示器件中，为便于用户观察屏幕以及提高显示效果，显示器件需要具有高对比度，以方便观察者看到显示光，而不是外界自然光。现有技术中，提高对比度的方式为在显示器件上层设置偏振片，外界光第一次通过偏振片变成偏振光，经过反射后，第二次通过偏振片时，无法继续透过，因此，外界自然光被偏振片所吸收，只有显示光出射，从而大幅提高对比度，观察者更容易看到显示光。

然而，显示器件中的偏振片会对柔性oled显示器件的柔韧性和可弯折性造成不利影响，同时降低显示器件所显示画面的对比度。

技术实现要素：

本发明提供一种显示面板及显示面板制造方法，具有较高的显示对比度，且柔韧性和可弯折性较好。

第一方面，本发明提供一种显示面板，包括衬底，以及在所述衬底上设置的第一电极、像素限定层、发光单元和第二电极，像素限定层包括开口区域和非开口区域，发光单元位于开口区域内，所述非开口区域的至少背离所述衬底的表面设置有吸光结构。

第二方面，本发明提供一种显示面板制造方法，包括如下步骤：

先在衬底上形成第一电极；然后在所述第一电极的背离所述衬底的表面形成像素限定层，其中，像素限定层具有开口区域和非开口区域，且所述非开口区域的背离所述衬底的表面具有吸光结构；再在所述像素限定层的开口区域内设置发光单元；最后在所述吸光结构和发光单元的背离所述衬底的表面形成第二电极。

本发明的显示面板及显示面板制造方法，显示面板具体包括衬底，以及在衬底上设置的第一电极、像素限定层、发光单元和第二电极等结构，像素限定层包括开口区域和非开口区域，发光单元位于像素限定层的开口区域内，非开口区域的至少背离衬底的表面设置有吸光结构。当外界自然光照射在吸光结构上时，就会被吸光结构所吸收或者散射，这样显示面板内不需要设置偏光片，而是通过吸光结构减少了显示面板内部对自然光的反射，提高显示面板的对比度，在保证显示效果的同时，具有较好的柔韧性和可弯折性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例一提供的显示面板的结构示意图；

图2是本发明实施例二提供的另一种显示面板的结构示意图；

图3是本发明实施例三提供的一种显示面板制造方法的流程示意图；

图4是本发明实施例三提供的另一种显示面板制造方法的流程示意图；

图5是本发明实施例三提供的第三种显示面板制造方法的流程示意图；

图6是本发明实施例三提供的第四种显示面板制造方法的流程示意图。

附图标记说明：

1-衬底；2-第一电极；3-像素限定层；4-发光单元；5-第二电极；61-薄膜封装层；62-滤光层；7-触控组件；8-第一涂覆层；9-第二涂覆层；

11-tft开关阵列；12-平坦化层；31-非开口区域；32-开口区域；41-第一吸光层；71-触控电极；72-第二吸光层；

311-吸光结构。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

图1是本发明实施例一提供的显示面板的结构示意图。如图1所示，本实施例提供的显示面板，具体包括衬底1，在衬底1上设置的第一电极2、像素限定层3、发光单元4和第二电极5等，像素限定层中包括有开口区域32和非开口区域31，发光单元4位于开口区域32内，非开口区域31的至少背离衬底1的表面设置有吸光结构311。

具体的，本实施例中的显示面板，可以为柔性或者非柔性显示面板，当显示面板为柔性显示面板时，可以实现弯曲、折叠等功能。在显示面板中的衬底1可以作为结构基础，让其它各层结构形成在衬底1上。其中，衬底1可以为聚酰亚胺等柔性材料制成，或者由玻璃等硬质材料制成。

在衬底1上可以设置有tft开关阵列11以及覆盖tft开关阵列11的平坦化层12，然后再设置第一电极2、像素限定层3、发光单元4和第二电极5等结构，其中，发光单元4可以为有机发光单元或者是量子点发光单元等，此处以发光单元4为有机发光单元为例进行说明。第一电极2和第二电极5可以分别为阴极和阳极，而本实施例中，以第一电极2为阳极，而第二电极5为阴极为例进行说明。当阴极和阳极之间通电时，位于阴极和阳极之间的发光单元4即可在电流的激发下电致发光。其中，第一电极2、第二电极5以及位于第一电极2和第二电极5之间的发光单元4的具体结构均为本领域技术人员所熟知的内容，此处不再赘述。示例性的，第二电极5为阴极，且第二电极5可以为透明电极，以避免影响发光单元4的正常出光。

为了在显示面板上界定或形成多个不同的像素区域，显示面板中还包括像素限定层3，像素限定层3包括有非开口区域31和开口区域32。具体的，像素限定层3中的非开口区域31主要覆盖第一电极2之间的间隔处，且非开口区域31可以形成挡墙式的结构，从而围成多个独立的开口区域32，而开口区域32之中即可填入有机发光材料，以形成一一对应设置在开口区域32内的发光单元4，每个发光单元4可以独立实现发光。

可以理解的是，每个发光单元4中，可以具体分为多个层叠的有机材料功能膜层，例如是空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层等，并通过电子和空穴的结合实现发光。

其中，位于发光单元4上方的结构一般为透明的结构，所以外界自然光照射至显示面板内部时，会直接照射至发光单元4处并被发光单元4所反射。然而发光单元4仅位于像素限定层3的开口区域32内，所以像素限定层3的非开口区域31会成为反射外界自然光的主要反光结构。为了避免外界的自然光照射进显示面板后，被像素限定层3的非开口区域31表面所反射而与显示光一同出射，从而影响显示面板在利用发光单元4进行画面显示时，所显示的图像画面的对比度，在非开口区域31的背离衬底1的一面，也就是朝向显示面板出光方向的一面上设置有可以吸收光线的吸光结构311。当外界自然光照射在吸光结构311上时，就会被吸光结构311所吸收或者散射，这样自然光不再会被非开口区域31的表面反射至显示面板的出光侧，从而减少了自然光的影响，提高了显示面板的对比度。

其中，吸光结构311至少位于非开口区域31的背离衬底1的一面上，即非开口区域31的背离衬底1的一面，也就是朝向显示面板出光方向的一面设置有吸光结构311。此外，可选的，除了非开口区域31的面向衬底1的面外的其它表面，例如是非开口区域31的侧方也可以具有吸光结构311。这样位于非开口区域31的不同表面上的吸光结构311即可吸收来自多个不同角度入射的外界自然光，提高对外界光线的吸收效果。

可以理解的是，吸光结构311可以和像素限定层3的非开口区域31为分体式结构，也可以和非开口区域31为一体成型。示例性的，本实施例中，像素限定层3中的非开口区域31和位于非开口区域31背离衬底1表面的吸光结构311为一体式结构。这样非开口区域31的制造工艺较为简单，像素限定层3的结构一致性较好。

具体的，吸光结构311可以为多种不同的形式或结构，例如通过吸光结构311本身的材料特性实现吸光，或者是在吸光结构311表面形成不利于光线反射的结构等。以下分别对于吸光结构311的各种可能实现形式进行具体介绍。

可选的，为了让吸光结构311的表面吸收外界光线，可以令吸光结构311的表面具有凹凸不平的形状。这样当外界光线照射在吸光结构311表面时，由于吸光结构311表面凹凸不平，就会将光线反射至不同方向，造成漫反射效果，从而有效降低了反射光的强度。

其中，吸光结构311表面为凹凸不平的形状时，可选的，可以在像素限定层3的非开口区域31表面形成多个孔槽或者凹坑，也可以是在非开口区域31的表面设置多个凸起，当光线照射至孔槽的内壁或者凸起上时，就会被反射至不同方向，无法形成方向统一的反射光线，从而实现对外界自然光的吸光效果。其中，位于非开口区域31表面的孔槽、凹坑或凸起可以在形成非开口区域31时，通过控制曝光剂量或者是蚀刻等手段而形成。

具体的，在非开口区域31表面所设置的凸起等结构可以为菱形、圆柱形等不同形状，其具体的形状和结构可以自由设定或者根据吸光结构311的形成工艺而定，此处不加以限制。此外，凹凸不平的形状也可以为弧形或者褶皱等，此处不再赘述。

此外，需要说明的是，当吸光结构311表面具有较高的粗糙度，从而形成粗糙面时，同样可以将其视为具有凹凸不平的形状，只是位于吸光结构311表面的孔槽或凸起的尺寸较小。此时，粗糙的吸光结构311表面同样能够对光线进行漫反射，降低反射光的强度。

而作为另一种可选的实施方式，还可以让非开口区域31的吸光结构311由深色材料构成。深色材料较浅色材料而言，具有较低的反射率，可以吸收多种波长的光线，因而同样可以减少对外界光线的反射，增强显示面板的对比度。

其中，为了让构成吸光结构311的材料具有较广的吸收波长，构成吸光结构311的材料可以为黑色材料。具体的，可以利用掺杂有黑色微粒的有机胶或者是其他成型材料来形成吸光结构311。示例性的，黑色微粒可以为炭黑微粒，此外也可以是镍、钨、铬、硅等材料或这些材料的组合。

而当像素限定层3的非开口区域31和吸光结构311为一体式结构时，可以直接利用掺杂有黑色微粒的有机胶等成型材料形成非开口区域31，此时，非开口区域31可以形成为黑矩阵。

而在一种可选的实施方式中，也可以让吸光结构311的表面具有凹凸不平的结构，且该吸光结构311同时由深色材料构成。这样，该吸光结构311可以同时利用漫反射以及深色材料反射率较低的特点，对进入显示面板的外界自然光产生较少的反射，从而增强显示面板的对比度。

这样通过在非开口区域31表面设置吸光结构311，能够有效减少非开口区域31的表面对外界自然光线的反射，降低反射光对显示光的影响，就可以提高显示面板的显示对比度；同时，显示面板不需要再利用偏振片的偏振作用减少反射光，所以显示面板可以实现较好的柔韧性和可弯折性。

此外，在第二电极5的上方还可以设置有薄膜封装层61、滤光层62等结构。其中，薄膜封装层61可以用于对第二电极5、像素限定层3、发光单元4以及第一电极2等结构进行封装，以保护薄膜封装层61下方的oled发光单元的结构，阻隔水氧侵蚀oled发光单元。一般的，薄膜封装层61常用氧化硅(siox)、甲基丙烯酸脂、氮化硅(sin)等材料制成。

而滤光层62可以包括有多个允许不同颜色光线透过的滤光片，以使发光单元透过滤光片出射的光具有与滤光片相对应的颜色。示例性的，滤光层62中可以包括有红色(red)、绿色(green)和蓝色(blue)等不同颜色滤光片。

为了让显示面板具有触摸操控等功能，作为一种可选的实施方式，显示面板中还可以包括触控组件7，触控组件7位于第二电极5的背离衬底1的一侧，具体的，可以使触控组件7位于滤光层62的背离衬底1的一侧；触控组件7中包括触控电极71，触控电极71的表面具有第二吸光层72。

具体的，为了实现触控操作，触控组件7中包括有由电极和电极线形成的触控电极71，而多个触控电极71共同形成触控阵列，当用户手指触摸阵列不同位置时，即可让对应该位置的触控电极产生相应的电信号，从而识别用户所触摸的区域并完成相应触控操作。为了保证对电信号的良好的传导，触控电极71通常采用银等导电性较好的金属制成。而银制的触控电极71在受到外界自然光照射时，仍可能产生较强的反射光，因此，需要在触控电极71的表面设置第二吸光层72，以吸收或散射照射至触控71表面的光线。

具体的，作为一种可选的实施方式，第二吸光层72可以包裹触控电极71的整个表面，也就是说，第二吸光层72覆盖触控电极71的背离衬底1的一侧表面，以及触控电极71的侧方表面。这样触控电极71的除了朝向衬底1的表面外均设置有第二吸光层72，因而触控电极71的正面和侧边均具有吸收光线的作用。

此外，作为另一种可选的实施方式，也可以是第二吸光层72仅覆盖触控电极71的背离衬底1的一侧表面，即触控电极71的正面。这样在让第二吸光层72保持较好的吸光效果的同时，也能够减少工序复杂性和制造成本。

其中，第二吸光层72可以具有较为粗糙的表面，或者是让第二吸光层72为深色材料层等。示例性的，可以让第二吸光层72为黑色材料层。这样只需要利用第二吸光层72本身的材料特性即可进行光线的吸收，而不需要对第二吸光层72表面进行处理，制造工艺较为简单，成本较低。

其中，可以利用炭黑等黑色材料形成覆盖触控电极71表面的第二吸光层72。炭黑等黑色材料可以通过丝网印刷或者是喷墨打印等方式覆盖触控电极71的表面，以形成可以吸收外界自然光的第二吸光层72。

在设置具有如上结构的触控组件7时，可选的，可以先在滤光层6上方设置一层第一涂覆层8，在将触控电极71设置在第一涂覆层8上方，然后在触控电极71表面制备第二吸光层72，最后在第二吸光层72以及第一涂覆层8的表面再设置第二涂覆层9，以保护触控组件7，避免外界水氧侵蚀触控电极71。

其中，第一涂覆层8和第二涂覆层9可以为有机或者无机材质，例如是特氟龙、聚酰亚胺、氧化硅，或者本领域技术人员常用的涂覆材料。

本实施例中，显示面板具体包括衬底，以及在衬底上设置的第一电极、像素限定层、发光单元和第二电极等结构，像素限定层包括有开口区域和非开口区域，发光单元位于开口区域内，像素限定层的非开口区域的至少背离衬底的表面设置有吸光结构。当外界自然光照射在吸光结构上时，就会被吸光结构所吸收或者散射，这样显示面板内不需要设置偏光片，而是通过吸光结构减少了显示面板内部对自然光的反射，提高显示面板在显示图像画面时的对比度，在保证显示效果的同时，具有较好的柔韧性和可弯折性。

实施例二

显示面板内部在受到外界自然光线入射时，由于发光单元上方的第二电极5一般为阴极)的表面仍然可能对入射光线形成反射。因此，在第二电极5上方也可以设置额外的吸光结构，防止阴极对外界光线的反射，进一步降低显示面板内部对于外界光线的反射。图2是本发明实施例二提供的另一种显示面板的结构示意图。如图2所示，和前述实施例一类似，本实施例中的显示面板，包括衬底1，以及设置在衬底1上的第一电极2、像素限定层3、发光单元4和第二电极5等结构，像素限定层3设置有开口区域32和非开口区域31，非开口区域31的背离衬底1的表面设置有吸光结构311，不同之处在于，本实施例中的显示面板，还包括设置在第二电极5的背离衬底1的表面的第一吸光层41，第一吸光层41在第二电极5上的正投影位于非开口区域31内。

具体的，本实施例中的显示面板，其整体结构以及位于非开口区域31上的吸光结构311均与前述实施例一中的类似，此处不再赘述。而本实施例的显示面板，由于第二电极5位于非开口区域31的吸光结构311的外侧，也就是靠近显示面板出光方向的一侧，因而当外界光线照射入显示面板内部时，照射在第二电极5上的光线无法被非开口区域31上的吸光结构311所吸收。因此，在第二电极5的背离衬底1的表面，也就是朝向显示面板出光方向的一侧还设置有第一吸光层41，第一吸光层41可以吸收或散射外界的自然光，减少反射光对显示光的影响，从而提高显示面板在显示图像画面时的显示对比度。其中，将第一吸光层41在第二电极5上进行投影时，第一吸光层41在第二电极5上的正投影，也就是垂直于第二电极5所在平面上的投影会位于像素限定层3的非开口区域31内，因而第一吸光层41所设置的区域为非显示区域，这样第一吸光层41不会对像素单元32的正常出光造成影响。

为了让第一吸光层41对光线具有吸收或漫反射光效果，和吸光结构311类似，第一吸光层41也可以为多种不同的形式或结构，例如通过第一吸光层41本身的材料特性实现吸光，或者是在第一吸光层41表面形成不利于光线反射的结构等。

可选的，为了让第一吸光层41的表面吸收外界光线，可以让第一吸光层41的表面具有凹凸不平的形状。这样当外界光线照射在第一吸光层41表面时，由于第一吸光层41表面凹凸不平，就会将光线反射至不同方向，造成漫反射效果，从而有效降低了反射光的强度。第一吸光层41表面的凹凸不平的形状可以为孔槽、凹坑或者凸起等，也可以是具有较高的粗糙度，其具体结构和非开口区域31上的吸光结构311类似，此处不再赘述。

此外，而作为另一种可选的实施方式，还可以让第一吸光层41由深色材料构成，以利用深色材料较低的反射率，减少对外界光线的反射，增强显示面板的对比度。

其中，构成第一吸光层41的材料可以为黑色材料。具体的，可以利用掺杂有黑色微粒的有机胶或者是其他成型材料来形成第一吸光层41。其中，第一吸光层41的具体材料组成仍可参照非开口区域31上的吸光结构311，此处不再赘述。

本实施例中，显示面板具体包括衬底，以及在衬底上设置的第一电极、像素限定层、发光单元和第二电极等结构，像素限定层包括有开口区域和非开口区域，发光单元位于开口区域内，非开口区域的背离衬底的表面设置有吸光结构；此外还包括设置在第二电极的背离衬底的表面的第一吸光层，第一吸光层在第二电极上的正投影位于非开口区域内。这样利用第一吸光层进一步降低了电极对外界光线的反射，从而提高显示面所显示图像画面的对比度。

实施例三

本实施例还提供一种显示面板的制造方法，以制造如上述实施例一或二中的显示面板。图3是本发明实施例三提供的一种显示面板制造方法的流程示意图。如图3所示，本实施例提供的显示面板制造方法，可以适用于前述实施例一和二中的显示面板，以下对显示面板制造方法进行说明时，可以参照前述图1和图2中的显示面板结构进行理解。具体的，显示面板制造方法具体包括如下步骤：

s101、在衬底上形成第一电极。

具体的，可以在衬底1上制备tft开关阵列11以及覆盖tft开关阵列11的平坦化层，然后在平坦化层上形成第一电极2。其中，第一电极2可以为多个，且多个第一电极2间隔排列在衬底1上。本实施例中，第一电极2为阳极。需要说明的是，该步骤的具体过程，可以为本领域技术人员常用的制备工艺流程。

s102、在第一电极的背离衬底的表面形成像素限定层，其中，像素限定层具有开口区域和非开口区域，且非开口区域的背离衬底的表面具有吸光结构。

形成第一电极2后，由于第一电极2之间间隔排列，所以可以在第一电极2的间隔处设置像素限定层3，且像素限定层3会有一部分搭接在第一电极2的两侧位置。即可在第一电极2上通过旋涂、曝光、显影等方式形成像素限定层3，并让像素限定层3形成开口区域32和非开口区域31。具体的，开口区域32对应第一电极2，在开口区域32内可以用于设置发光单元，并让发光单元与第一电极2电连接，而非开口区域31和相邻第一电极2之间的间隔区域相对应。而在非开口区域31的背离衬底1的表面设置吸光结构311。其中，吸光结构311的具体结构和功能可参照前述实施例一和二中的描述。

具体的，作为一种可选的实施方式，可以通过掺杂有黑色微粒的有机胶制备像素限定层3，这样像素限定层3的非开口区域31为黑色，具有较低发光反射率，并通过控制曝光时的剂量，在非开口区域31的背离衬底1的表面上形成微孔等凹凸不平的结构，这些微孔的凹凸不平的结构可以让照射在像素限定层3表面的光线形成漫反射，从而减少反光。而非开口区域31的位于阴极上方的区域则通过全曝光的方式去除，以使下方的阴极裸露出来并形成开口区域32。

示例性的，非开口区域31的厚度可以在1.5～2μm之间。

s103、在开口区域内设置发光单元。

像素限定层3的开口区域32，也就是显示区域中可以依次沉积发光材料，以在像素限定层3的开口区域32内形成发光单元。发光单元实质上位有机发光层，其可以具有本领域技术人员所熟知的有机发光层材料及组成，例如是包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层等。

s104、在吸光结构和发光单元的背离衬底的表面形成第二电极。

形成发光单元后，即可在发光单元以及非开口区域的远离衬底的一侧通过蒸镀等方式形成第二电极5。本实施例中，第二电极5为阴极，且第二电极5为透明电极，以避免遮挡发光单元4发出的光线。

此外，还可以在第二电极5上方制备薄膜封装层61以及滤光层62等结构。其中，薄膜封装层61可以通过气相沉积方式制备于第二电极5上方。示例性的，薄膜封装层61的厚度在1-3μm之间。而滤光层62可以通过转印等方式覆盖在薄膜封装层上方。

这样，通过在像素限定层3中非开口区域31的表面设置吸光结构311，可以让吸光结构311吸收来自外界照射入显示面板内部的自然光，从而减少显示面板对外界自然光的反射，提高显示面板的对比度。

可选的，由于第二电极5一般为透明电极，为了避免第二电极5对外界射入显示面板内部的光线造成反射，可选的，还可以在第二电极5上方设置能够吸收光线的结构。图4是本发明实施例三提供的另一种显示面板制造方法的流程示意图。如图4所示，步骤s101至步骤s103均如前述显示面板制造方法中所述，同时，在步骤s104之后，显示面板制造方法还包括：

s105、在第二电极的背离所述衬底的表面形成第一吸光层。

具体的，第一吸光层41的具体结构、工作原理和作用均可参照前述实施例一和二中的说明，此处不再赘述。本实施例中，示例性的，可以通过掺杂有黑色微粒的有机胶制备第一吸光层41。

当第二电极5制备完毕，并在第二电极5上方形成薄膜封装层61和滤光层62之后，为了实现显示面板的触控操作，作为一种可选的方式，还可以在显示面板上制备触控组件7。图5是本发明实施例三提供的第三种显示面板制造方法的流程示意图。如图5所示，在步骤s104之后，显示面板制造方法还可以包括：

s106、在第二电极的背离衬底的表面形成触控组件的触控电极。

具体的，可以先在滤光层62上方设置一层第一涂覆层8，再将触控电极71设置在第一涂覆层8上方。示例性的，第一涂覆层8的厚度可以在100μm左右。

而触控组件7的触控电极71可以为银等材料制成。示例性的，触控电极71可以以丝网印刷的方式制备在第一涂覆层8之上。

s107、在触控电极表面形成第二吸光层。

然后，即可在触控电极71表面制备第二吸光层72。第二吸光层72可以为炭黑材料层。示例性的，第二吸光层72可以通过喷墨打印方式设置在触控电极表面。

最后在第二吸光层72以及第一涂覆层8的表面再设置第二涂覆层9，以保护触控组件7，避免外界水氧侵蚀触控电极71。第一涂覆层8和第二涂覆层9具体可参照前述实施例一和二中第一涂覆层和第二涂覆层的材料，此处不再赘述。

示例性的，第一涂覆层和第二涂覆层的材料可以为氧化硅。

需要说明的是，上述步骤s106和s107也可以应用在第二电极上具有第一吸光层的结构上，此时，显示面板制造方法的具体流程可如图6所示，其中步骤s106和步骤s107位于步骤s105之后，而其余步骤均可以沿用前述图5中显示面板制造方法的步骤，此处不再赘述。

本实施例中，显示面板制造方法具体包括先在衬底上形成第一电极，然后在第一电极的背离衬底的表面上形成像素限定层，其中，像素限定层具有开口区域和非开口区域，且非开口区域的背离衬底的表面具有吸光结构；再在像素限定层的开口区域内设置发光单元，最后在吸光结构和发光单元的背离衬底的表面形成第二电极。这样显示面板内不需要设置偏光片，而是通过吸光结构减少了显示面板内部对自然光的反射，提高显示面板所显示图像画面的对比度，在保证显示效果的同时，具有较好的柔韧性和可弯折性。

本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等(如果存在)是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施例例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。