列基板和折射层的交界处时，也会尽量少的发生全反射现象，大多数光线都被折射出去，进而提高OLED显示装置的出光强度。
[0044]上述折射层的具体材料可以有多种，一种具体的实施方式中，折射层2的材料具体包括:15 %?25 %的玻璃粉，5 %?20 %的树脂，以及40 %?70 %的溶剂。
[0045]进一步的，玻璃粉包括:三氧化二铋和氧化硼。三氧化二铋和氧化硼是低熔点玻璃材料，具有阻止水气透过的功能；因此显示器件上设计这种材料的折射层既可以提高OLED显示装置的外部电子耦合效率，同时又可以阻止由于外部水气的透过引起的OLED显示装置寿命下降的问题。
[0046]更进一步的，上述树脂为纤维素树脂。具体的，纤维素树脂包括:甲基纤维素、乙基纤维素、羧乙基纤维素、羧甲基纤维素、羧甲基羟乙基纤维素中的一种或多种。即纤维树脂可以仅仅包括:甲基纤维素或乙基纤维素或羧乙基纤维素或羧甲基纤维素或羧甲基羟乙基纤维素中的一种，也可以包含:甲基纤维素或乙基纤维素或羧乙基纤维素或羧甲基纤维素或羧甲基羟乙基纤维素中的多种。
[0047]可选的，溶剂包括:松油醇、2，2，4-三甲基-1，3戊二醇单异丁酸酯、二甘醇丁醚醋酸酯、二丙醚、二乙二醇单丁醚、1，2丙二醇碳酸酯、乙二醇碳酸酯、邻二硝基苯、间二硝基苯、四甘醇二甲醚、乙二醇苯醚、磷酸三苯酯、磷酸三甲苯酯中的一种或多种。即上述溶剂可以仅仅包括:松油醇、2，2，4-三甲基-1，3戊二醇单异丁酸酯、二甘醇丁醚醋酸酯、二丙醚、二乙二醇单丁醚、1，2丙二醇碳酸酯、乙二醇碳酸酯、邻二硝基苯、间二硝基苯、四甘醇二甲醚、乙二醇苯醚、磷酸三苯酯、磷酸三甲苯酯中的一种，也可以包括:松油醇、2，2，4-三甲基-1，3戊二醇单异丁酸酯、二甘醇丁醚醋酸酯、二丙醚、二乙二醇单丁醚、1，2丙二醇碳酸酯、乙二醇碳酸酯、邻二硝基苯、间二硝基苯、四甘醇二甲醚、乙二醇苯醚、磷酸三苯酯、磷酸三甲苯酯中的多种。
[0048]如图4所示，图4本发明实施例提供的OLED显示装置的制备方法流程图，本发明还提供了一种OLED显示装置的制备方法，包括:
[0049]步骤S401:通过涂布工艺在阵列基板上形成折射层，其中，折射层的折射率大于阳极的折射率；
[0050]步骤S402:依次通过真空烘烤工艺和烧结工艺对折射层进行干燥和固化处理；
[0051]步骤S403:在折射层上形成OLED器件。
[0052]进一步的，上述步骤S402:依次通过真空烘烤工艺和烧结工艺对折射层进行干燥和固化处理具体包括:
[0053]以80?120°C的温度烘烤折射层10?30分钟使折射层干燥；
[0054]在氮气环境下，以400?450°C烧结折射层60?180分钟使折射层固化。
[0055]上述步骤S403:在折射层上形成OLED器件具体包括:
[0056]采用磁控溅射及刻蚀工艺制备阳极；
[0057]在阳极上制备平坦化层，上述平坦化层可以选择制作也可以不制作；
[0058]采用真空蒸镀工艺或涂抹打印工艺形成空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层以及阴极层；
[0059]完成上述工艺后，将显示器件进行封装、模组制作。
[0060]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种OLED显示装置，包括:阵列基板、设置在所述阵列基板上的OLED器件，所述OLED器件沿远离阵列基板的方向依次包括:阳极，有机发光层和阴极，其特征在于，还包括: 位于所述阵列基板和所述阳极之间的折射层，所述折射层的折射率大于所述阳极的折射率。
2.如权利要求1所述的OLED显示装置，其特征在于，所述折射层的折射率为1.55?2.55ο
3.如权利要求1或2所述的OLED显示装置，其特征在于，所述折射层的材料具体包括:15 %?25 %的玻璃粉，5 %?20 %的树脂，以及40 %?70 %的溶剂。
4.如权利要求3所述的OLED显示装置，其特征在于，所述玻璃粉包括:三氧化二铋和氧化硼。
5.如权利要求4所述的OLED显示装置，其特征在于，所述树脂为纤维素树脂。
6.如权利要求5所述的OLED显示装置，其特征在于，所述纤维素树脂包括:甲基纤维素、乙基纤维素、羧乙基纤维素、羧甲基纤维素、羧甲基羟乙基纤维素中的一种或多种。
7.如权利要求6所述的OLED显示装置，其特征在于，所述溶剂包括:松油醇、2，2，4-三甲基-1，3戊二醇单异丁酸酯、二甘醇丁醚醋酸酯、二丙醚、二乙二醇单丁醚、1，2丙二醇碳酸酯、乙二醇碳酸酯、邻二硝基苯、间二硝基苯、四甘醇二甲醚、乙二醇苯醚、磷酸三苯酯、磷酸三甲苯酯中的一种或多种。
8.一种OLED显示装置的制备方法，其特征在于，包括: 通过涂布工艺在阵列基板上形成折射层，其中，所述折射层的折射率大于所述阳极的折射率； 依次通过真空烘烤工艺和烧结工艺对所述折射层进行干燥和固化处理； 在所述折射层上形成OLED器件。
9.如权利要求8所述的OLED显示装置的制备方法，其特征在于，所述依次通过真空烘烤工艺和烧结工艺对所述折射层进行干燥和固化处理具体包括: 以80?120°C的温度烘烤所述折射层10?30分钟使所述折射层干燥； 在氮气环境下，以400?450°C烧结所述折射层60?180分钟使所述折射层固化。
10.如权利要求8或9所述的OLED显示装置的制备方法，其特征在于，所述通过涂布工艺在阵列基板上形成折射层具体包括: 通过旋涂或狭缝和旋涂工艺在阵列基板上形成折射层。
【专利摘要】本发明公开了一种OLED显示装置及其制备方法，用以降低微腔效应，提高OLED显示装置的出光强度。其中OLED显示装置包括：阵列基板、设置在阵列基板上的OLED器件，OLED器件沿远离阵列基板的方向依次包括：阳极，有机发光层和阴极，还包括：位于阵列基板和阳极之间的折射层，折射层的折射率大于阳极的折射率。上述OLED显示装置，通过设置折射层，且折射层的折射率大于OLED器件中的阳极的折射率，以减少光线照射在阵列基板上的全反射现象的发生，从而降低微腔效应，使得光线尽可能多的从阵列基板表面折射出，提高OLED显示装置发光强度。
【IPC分类】H01L51-54, H01L27-32, H01L51-56
【公开号】CN104637988
【申请号】CN201510106575
【发明人】杨久霞, 白峰
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司
【公开日】2015年5月20日
【申请日】2015年3月11日