制造有机发光显示设备的方法
【专利说明】制造有机发光显示设备的方法
[0001]本申请要求于2013年12月23日提交到韩国知识产权局的第10-2013-0161780号韩国专利申请的优先权和权益，通过引用将该申请的公开内容全部包含于此。
技术领域
[0002]本发明的一个或更多个实施例的各方面涉及一种制造有机发光显示设备的方法。
【背景技术】
[0003]有机发光显示设备与其他显示装置相比具有较宽的视角、较好的对比度特性以及较快的响应速度，因此作为下一代显示装置已经备受关注。
[0004]有机发光显示设备包括介于彼此面对的第一电极和第二电极之间的中间层，中间层包括发射层。可以使用(利用)各种方法来形成电极和中间层，其中一种方法是独立沉积法。当通过使用沉积法来制造有机发光显示设备时，具有与将要形成的有机层的图案相同的图案的精细金属掩模(FMM)被设置为与有机层等形成在其上的基底紧密地接触，并且朝向FMM沉积有机层材料以在基底上形成具有期望图案的有机层。
[0005]本背景部分中公开的信息对本发明的发明人而言在完成本发明之前是已知的，或者是在完成本发明的过程中获取的技术信息。因此，它可以包含不形成本领域普通技术人员在本国已经知晓的现有技术的信息。
【发明内容】
[0006]本发明的一个或更多个实施例的各方面涉及一种制造有机发光显示设备的方法。
[0007]另外的方面部分地将在以下的描述中阐述，部分地通过描述将是清楚的或者可以通过所提出的实施例的实施而明了。
[0008]根据本发明的实施例，一种利用用于在基底上形成有机层的沉积设备来制造有机发光显示设备的方法包括下述步骤:在装载单元中将基底固定到用于形成公共层的掩模组件或用于形成图案层的掩模组件；当沉积设备的沉积单元中的一个或更多个沉积组件与基底分离时，在通过第一传送单元使基底相对于所述一个或更多个沉积组件移动的同时，通过将从所述一个或更多个沉积组件排出的沉积材料沉积到基底上来形成中间层；在卸载单元中将完成了沉积的基底与用于形成公共层的掩模组件或用于形成图案层的掩模组件分离。
[0009]可以在装载单元中将基底固定到用于形成公共层的掩模组件，沉积材料可以在基底上形成为公共层。
[0010]形成中间层的步骤可以包括在基底上形成至少红色发射层(EML)、绿色EML和蓝色EML作为各个公共层。
[0011]可以在装载单元中将基底固定到用于形成图案层的掩模组件，沉积材料可以在基底上以图案形成。
[0012]形成中间层的步骤可以包括在基底上形成红色EML、绿色EML和蓝色EML作为各个图案层。
[0013]用于形成公共层的掩模组件或用于形成图案层的掩模组件可以结合到基底。
[0014]形成中间层的步骤可以包括:当将基底固定在用于形成图案层的掩模组件上时，在基底相对于所述一个或更多个沉积组件移动的同时，形成一个EML;将基底固定到的用于形成图案层的掩模组件返回到装载单元；在基底相对于所述一个或更多沉积组件移动的同时，在基底上形成另一个EML。
[0015]在一个EML形成的同时，遮蔽构件可以处于基底和包括用于形成不同的EML的沉积材料的所述一个或更多个沉积组件之间。
[0016]在返回掩模组件之后，可以将用于形成图案层的掩模组件相对于掩模组件在基底上的先前的位置偏移。
[0017]形成中间层的步骤可以包括:当将基底固定在用于形成公共层的掩模组件上时，在基底相对于所述一个或更多个沉积组件移动的同时，在基底上形成一个或更多个公共层；将基底与用于形成公共层的掩模组件分离，并将基底固定到用于形成图案层的掩模组件；当将基底固定到用于形成图案层的掩模组件时，在基底相对于所述一个或更多个沉积组件移动的同时，在基底上图案化红色EML、绿色EML和蓝色EML。
[0018]在基底上图案化EML的步骤可以包括:在基底上图案化一个EML之后，将用于形成图案层的掩模组件相对于掩模组件在基底上的先前的位置偏移。
[0019]所述方法还可以包括:在基底上图案化EML之后，将基底与用于形成图案层的掩模组件分离，并且将基底固定到用于形成公共层的掩模组件；当将基底固定到用于形成公共层的掩模组件时，在基底相对于所述一个或更多个沉积组件移动的同时，在基底上形成一个或更多个公共层。
[0020]形成中间层的步骤可以包括:在基底上的子像素区域处顺序地堆叠至少包括构造为发射具有一种颜色的光的EML的一个或更多个中间层；在基底上的子像素区域处顺序地堆叠至少包括构造为发射具有不同颜色的光的EML的一个或更多个中间层；在基底上的子像素区域处顺序地堆叠包括至少构造为发射具有不同颜色的光的EML的一个或更多个中间层。
[0021]所述方法还可以包括在基底上的其他子像素区域处堆叠红色EML、绿色EML和蓝色 EML。
[0022]形成中间层的步骤可以包括:在基底上形成一个或更多个公共层；在基底上的每个子像素区域处图案化EML ;在基底上形成一个或更多个公共层。
[0023]所述方法还可以包括:在将基底与掩模组件分离之后，将用于形成公共层的掩模组件或用于形成图案层的掩模组件在第二传送单元上返回到装载单元。
[0024]用于形成公共层的掩模组件或用于形成图案层的掩模组件可以在第一传送单元和第二传送单元之间移动。
[0025]用于形成公共层的掩模组件和用于形成图案层的掩模组件均可以包括:掩模，包括用于在基底上限定沉积区域的一个或更多个开口 ；掩模托盘，具有掩模安装在其上的表面；磁板，位于基底的与掩模安装在其上的表面背对的基底的表面上，磁板可以构造为向掩模施加磁力。
[0026]磁板可以构造为产生沿着从掩模朝向磁板的方向的磁力。
[0027]多个沉积组件可以处于沉积单元中以对基底顺序地执行沉积。
【附图说明】
[0028]通过以下结合附图对实施例的描述，这些和/或其他方面将变得清楚和更容易理解，在附图中:
[0029]图1是根据本发明的实施例的沉积设备的示意性平面图；
[0030]图2是图1中示出的沉积设备的沉积单元的示意性侧视图；
[0031]图3是通过图1中示出的沉积设备制造的有源矩阵有机发光显示设备的剖视图；
[0032]图4是图1中示出的沉积单元的示意性透视图；
[0033]图5是通过使用图4中示出的沉积设备制造的有机发光显示设备的中间层的剖视图；
[0034]图6是图1中示出的沉积单元的另一个实施例的示意性透视图；
[0035]图7是图6中示出的遮蔽构件的侧视图；
[0036]图8是图6中示出的沉积设备制造的有机发光显示设备的中间层的剖视图；
[0037]图9是图1中示出的沉积单元的另一个实施例的透视图；
[0038]图10是图9中示出的沉积单元制造的有机发光显示设备的中间层的剖视图；
[0039]图11是根据本发明的另一个实施例的通过沉积单元制造的有机发光显示设备的中间层的剖视图。
【具体实施方式】
[0040]现在将详细参照实施例，在附图中示出了实施例的示例，其中，同样的标号始终表示同样的元件。就这一点而言，当前实施例可以具有不同的形式，并且不应该解释为局限于这里阐述的描述。因此，仅通过参照附图在下文中描述实施例来解释当前描述的各方面。将理解的是，尽管在这里可使用术语“第一”、“第二”等来描述各种组件，但是这些组件不应该受这些术语的限制。这些术语仅是用来将一个组件与其他组件区分开来。如这里所使用的，除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个(种)”和“该(所述)”也意图包括复数形式。还将理解的是，当这里使用术语“包含”和/或“包括”时，说明存在所述特征、组件或层，但不排除存在或添加一个或多个其他特征、组件或层。为了解释方便，会夸大附图中的层或元件的尺寸。换言之，由于附图中的层和组件的尺寸和厚度是为了解释方便而任意地示出的，因此，以下的实施例不限于此。如这里所使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关所列项的任意组合和所有组合。当诸如“…中的至少一个(种)”的表述在一系列元件(要素)之后时，修饰整个系列的元件(要素)，而不是修饰系列中的个别元件(要素)。另外，在描述本发明的实施例时的“可以”的使用涉及“本发明的一个或更多个实施例”。
[0041]图1是根据本发明的实施例的沉积设备I的示意性平面图，图2是图1中示出的沉积设备的沉积单元的示意性侧视图。
[0042]参照图1和图2，根据本实施例的沉积设备I包括沉积单元100、装载单元200、卸载单元300和传送单元400。
[0043]在装载单元200中，基底500结合到用于沉积公共层的掩模组件(参照图4的610)或者用于沉积图案层的掩模组件(参照图6的620)(在下文中，将描述用于沉积公共层的掩模组件610作为不例)。例如，掩模托盘(参照图4的611)和掩模(参照图4的612)布置在装载单元200中，基底500安装在掩模托盘和掩模上。在本实施例中，磁板(参照图4的613)结合到基底500的上部(例如，上侧或上表面)。这里，磁板(图4的613)产生磁力(例如，磁场)以朝向磁板(图4的613)吸引掩模(图4的611)，因此，基底500和掩模(图4的61