导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板。
【背景技术】
[0002] 近年来，作为便携式电话机、便携式终端或个人计算机等各种电子设备，已使用在 显示面板安装透光性的触摸屏，一边通过触摸屏目视确认显示面板的显示，一边用手指等 对触摸屏的表面进行操作，由此能够对电子设备进行指示操作的电子设备。
[0003] 作为这样的触摸屏，已知例如在透明的基板上沿X方向形成了规定形状的透明电 极图案，并且沿Y方向（与X方向正交的方向）形成了同样的透明电极图案的静电电容型 触摸屏。
[0004] 上述触摸屏中所使用的透明电极图案，在形成有电极图案的区域（导电性区域） 和没有形成电极图案的区域（非导电性区域）中光学性质产生差别，因此有时能够视认到 电极图案的所谓"图案可见（骨見;I)"会成为问题。为了防止这样的"图案可见"，需要使 透明电极图案的交界的间隔极窄。例如，静电电容型触摸屏的情况下，需要X方向的电极图 案与Y方向的电极图案的间隔最大为50ym，优选为20ym以下，更优选为10ym以下，采用 印刷法难以实现这样的窄间距，因此采用光刻法进行图案化。
[0005] 作为光刻法的例子，例如下述非专利文献1中记载了以下工序。
[0006] (1)将含有金属纳米丝的导电性墨涂布于基板上的工序。
[0007] (2)进行烧成，形成透明导电层的工序。
[0008] (3)将具有感光性的抗蚀剂形成于上述透明导电层上的工序。
[0009] (4)通过与微细图案相应的适当的遮光掩模对抗蚀剂赋予光能量的工序。
[0010] (5)将所得到的抗蚀剂的潜像，通过使用适当的显像用溶液进行溶出（洗脱）而显 像的工序。
[0011] (6)采用适当的蚀刻方法将露出的被图案化膜（透明导电层）除去的工序。
[0012](7)采用适当的方法将残存的抗蚀剂除去的工序。
[0013] 另外，专利文献1中记载了以下工序。
[0014](1)将在水中分散的含有银纳米丝的导电性墨涂布于基板上的工序。
[0015](2)进行烧成，形成银纳米丝网层的工序。
[0016] (3)将含有预聚物的光固化型的基质材料形成于所述银纳米丝网层上的工序。
[0017] (4)通过与微细图案相应的适当的遮光掩模对基质材料赋予光能量的工序。
[0018] (5)将非固化区域通过用溶剂（乙醇）洗涤而除去的工序。或，使用胶带、粘着性 辊将非固化区域物理性地除去的工序。
[0019] 在先技术文献
[0020] 专利文献
[0021] 专利文献1 :日本特表2009-505358号公报
[0022] 非专利文献
[0023] 非专利文献I:Shih_HsiangLai，Chun-Yao0u，Chia-HaoTsai，Bor-Chuan Chuang，Ming-YingMa，andShuo-ffeiLiang；SIDSymposiumDigestofTechnical Papers，Vol. 39,Issue1，pp.1200-1202(2008)
【发明内容】
[0024] 但是，在上述非专利文献I和专利文献I的任一种方法中，都需要在包含金属纳米 丝的层上进一步形成用于图案形成的具有感光性的层的工序。另外，由于需要具有感光性 的层的显像工序，因此有时也需要显像液的废液处理。并且，有时在具有感光性的层的显像 和露出的包含金属纳米丝的层的除去后，也需要具有感光性的层的除去工序。因此，在光刻 法中存在需要好几个工序，而且使用的药液也多的问题。
[0025] 本发明的目的是提供导电性区域和非导电性区域的光学性质的差别很少，即使没 有如所述在先技术那样使导电性区域与非导电性区域的间距狭窄，也不会发生图案可见的 导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板。
[0026] 为达成上述目的，本发明的一实施方式是一种导电图案的制造方法，其特征在于， 具备：在基板的至少一个主面的全部或一部分上形成包含金属纳米丝的金属纳米丝层的工 序；和以规定图案对上述金属纳米丝层照射光，在上述规定图案的形状的区域将上述金属 纳米丝层中的金属纳米丝烧结的工序。
[0027] 上述金属纳米丝层可以包含金属纳米丝和粘合剂树脂。
[0028] 上述光可以使用隔着以上述图案的形状形成有透光部的掩模而照射的脉冲光等、 能够将上述金属纳米丝烧结的光，优选为脉冲光。
[0029] 上述金属纳米丝优选为银纳米丝。
[0030] 出于改良与基材的密着性的目的，可以通过对基板进行底涂而形成底涂层后，在 底涂层上形成上述金属纳米丝层。
[0031] 上述金属纳米丝层可以是将金属纳米丝墨涂布于基板的至少一个主面的全部或 一部分面上而形成的，所述金属纳米丝墨根据需要包含金属纳米丝、粘合剂树脂和分散介 质。
[0032] 上述金属纳米丝层可以是将金属纳米丝墨涂布于基板的至少一个主面的全部或 一部分面上而形成的，所述金属纳米丝墨是在能够使上述基板的材料溶解或溶胀的溶剂中 分散了金属纳米丝的墨。
[0033] 另外，本发明的另一实施方式是一种形成有导电图案的基板，其特征在于，在基板 的至少一个主面的全部或一部分上具有包含金属纳米丝的金属纳米丝层，上述金属纳米丝 层具备：上述金属纳米丝以规定的图案被烧结而成的导电性区域；和上述金属纳米丝未被 烧结的非导电性区域，该非导电性区域是上述金属纳米丝层的除了上述导电性区域以外的 区域。
[0034] 优选上述导电性区域的表面电阻为200Q/ □以下，上述非导电性区域的表面电 阻为IO3Q/ □以上。
[0035] 优选上述金属纳米丝的直径的平均值为Inm以上、500nm以下，长轴的长度的平均 值为Iym以上、100ym以下，纵横尺寸比的平均值为10以上。
[0036] 根据本发明，能够通过简易的工序实现窄间距的导电图案。
【附图说明】
[0037] 图1是用于说明实施方式涉及的导电图案的制造方法的工序的截面图。
[0038] 图2是用于说明脉冲光的定义的图。
[0039] 图3是用于说明实施方式涉及的导电图案的制造方法的变形例的工序的截面图。
[0040] 图4是表示在实施例1中印刷金属纳米丝层并干燥后的基板（七'才y7 (zeonor) 板）表面的SEM照片的图。
[0041] 图5是表示在实施例1、2中使用的掩模的构成的平面图。
[0042] 图6是表示在实施例3、5、7、8或实施例4、6中各自使用的具有开口部的掩模的构 成的平面图。
【具体实施方式】
[0043] 以下，根据附图对用于实施本发明的方式（以下称为实施方式）进行说明。
[0044] 图1(a)~（c)中示出了用于说明实施方式涉及的导电图案的制造方法的工序的 截面图。在基板的至少一个主面的全部或一部分上形成金属纳米丝层12。在基板10上形 成了的金属纳米丝层12中的金属纳米丝浓度（分布）在面内大致均匀。图1(a)中例示了 在基板10的一个主面的整个面上形成金属纳米丝层12的情况。关于金属纳米丝层12的 形成方法会在后面描述。
[0045] 接着，在图I(b)中，对金属纳米丝层12隔着以预定的图案形成有透光部14a的掩 模14从氙气式的脉冲式照射灯等照射脉冲光。由此，金属纳米丝层12之中被照射了脉冲 光的区域中所含的金属纳米丝以上述预定的图案被烧结，被赋予导电性。另一方面，没有被 照射脉冲光的金属纳米丝层12的区域中所含的金属纳米丝未被烧结，没有被赋予（没有体 现）导电性。其结果，如图1(c)所示，被照射了脉冲光的金属纳米丝层12的区域12c成为 导电性区域，除了导电性区域以外的区域、即没有被照射脉冲光的金属纳米丝层12的区域 12i成为非导电性区域，形成与上述掩模14上所形成的透光部14a的图案相似形状的导电 图案。
[0046] 再者，上述导电性区域的电阻可以根据使用目的适当确定，例如作为表面电阻优 选为200Q/ □以下。该表面电阻越低越好，无法特别规定下限值，但采用本实施方式的制 造方法，可以设为例如100Q/ □左右。另外，上述非导电性区域的表面电阻也只要能够确 保与使用目的相应的绝缘性即可，例如为IO3Q/ □以上，进一步优选为IO6Q/ □以上。
[0047]再者，上述透光部14a可以是形成于掩模14的图案形状的开口，也可以在掩模14 的一部分（图案）区域使用透光性材料形成。
[0048]作为在此使用的掩模，是在从近紫外到近红外透明的材料的基板上利用金属、黑 色颜料等遮光材料图案化而成的，一般被称为光掩模。作为透明的材料的基板大多使用采 用玻璃、合成石英并在其上以铬为遮光膜形成有绘制图形的基板，也可以使用被称为乳胶 掩模的在具有柔软性的透明的高分子薄膜上绘制图形而成的掩模。另外，不限于此，只要是 在透明的材料上绘制了遮光材料的图案的掩模就可以使用。
[0049] 另外，作为基板10,只要是片状、薄膜状的基板就不特别限制，可举出例如玻璃、氧 化铝等的陶瓷、聚酯树脂