且由其制备具有导电图案的树脂结 构。W与实施例1相同的方式确认金属核的形成。此外，使用该树脂结构实际制备具有导 电图案的产品，并且其照片表示在图13中。因此，可W确定，在聚碳酸醋树脂基底上形成 具有优异粘附性的导电图案，特别地，可W在用激光照射的区域上均匀地形成锻铜或锻儀/ 铜导电图案。 7]对比连施例1 :通过育接激化照射形成导由图案[010引除了使用化Ni02代替化化0 2作为非导电金属化合物，W及W3W的功率代替IOW 进行激光照射W外，W与实施例1相同的方式制备用于形成导电图案的组合物，并且由其 制备具有导电图案的树脂结构。
[0109]在激光照射之后，通过电镜和XRD分析并确认在聚碳酸醋树脂中含铜金属核的形 成，并且结果分别表示在图14和图15中。参照图14和图15,因为激光照射条件不合适，所W，即使在激光照射之后，非导电金属化合物也难W接触激光，并且非导电金属化合物对激 光的敏感度不足，因此没有来源于化等的金属种子（即，金属核）形成。
[0110] 然后，进行导电图案的电锻W与实施例1相同的方式形成导电图案，然后W与实 施例1相同的方式测量并评价导电图案对聚碳酸醋树脂基底的粘附性和它的完整性（参见 下面的实验实施例和表1)。因此，可W确定，在对比实施例1中在聚碳酸醋树脂基底上形成 的导电图案粘附性差。 。…]连輪连施俩I:树胎基底对激化的巧射率试輪巧导由图案的粘附忡试輪
[011引首先，在实施例1至3和对比实施例1中，使用UV可见-NIR分光仪测量激光照射 前瞬间的树脂基底对波长为l064nm的激光的反射率。测量结果总结在下面的表1中。
[0113] 参照表1，发现实施例1至3的基底对激光的反射率相对低，表明对激光的高吸收 和敏感性，然而对比实施例1的基底对激光的反射率高，W及低吸收和敏感性，表明与对比 实施例的组合物相比，使用实施例的组合物可W形成金属核和优异的导电图案。
[0114] 在实施例1至3和对比实施例1中的最终导电图案形成之后，根据IS02409标准 通过正交试验评价每个导电图案的粘附性，并且结果表示在表1中。
[0115] 根据表1，在实施例1至3中形成相对聚碳酸醋树脂表现优异粘附性的导电图案， 然而，在对比实施例1中形成的导电图案粘附性差，其很容易脱除。
[011引[表U
【主权项】
1. 一种通过电磁照射用于形成导电图案的组合物，包含 聚合物树脂，以及 包含第一金属和第二金属的非导电金属化合物， 其中，所述非导电金属化合物具有三维结构，该三维结构包括多个第一层，该第一层包 含第一金属和第二金属中的至少一种金属并且具有二维互相连接的共边八面体，以及 第二层，该第二层包含与第一层的金属不同的金属并且排列在相邻的第一层之间；并 且 其中，通过电磁照射，由所述非导电金属化合物形成包含第一金属或第二金属或其离 子的金属核。2. 根据权利要求1所述的组合物，其中，所述组合物对于波长为1000 nm至1200nm的激 光电磁波显不出25%以下的反射率。3. 根据权利要求1所述的组合物，其中，所述非导电金属化合物具有?或P63/mmc的 空间群。4. 根据权利要求1所述的组合物，其中，所述非导电金属化合物为包含第一金属和第 二金属和X (氧、氮或硫）的化合物，并且所述非导电金属化合物具有三维结构，该三维结构 包括多个第一层，在该第一层中，第一金属和第二金属中的至少一种金属和原子X形成以 二维连接结构排列的共边八面体，和 第二层，该第二层包含与第一层的金属不同的金属，其中，所述第二层的金属在相邻的 第一层之间与八面体的二维结构互相连接。5. 根据权利要求1所述的组合物，其中，所述非导电金属化合物包括选自CuCrO 2、 NiCrO2、AgCrO2、CuMoO2、NiMoO2、AgMoO 2、NiMnO2、AgMnO2、NiFeO2、AgFeO 2、CuWO2、AgWO2、NiWO2、 AgSnO2、NiSnOjP CuSnO 2中的一种或多种化合物。6. 根据权利要求1所述的组合物，其中，通过以5至20W的平均功率照射波长为1000 nm 至1200nm的激光电磁波形成所述金属核。7. 根据权利要求1所述的组合物，其中，所述聚合物树脂包括热固性树脂或热塑性树 脂。8. 根据权利要求7所述的组合物，其中，所述聚合物树脂包括选自ABS树脂、聚对苯二 甲酸亚烷基酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚丙烯树脂和聚邻苯二甲酰胺树脂中的一种或多种。9. 根据权利要求1所述的组合物，其中，相对于全部组合物，所述非导电金属化合物的 含量为1重量％至10重量％。10. 根据权利要求1所述的组合物，还包含选自热稳定剂、UV稳定剂、阻燃剂、润滑剂、 抗氧化剂、无机填料、颜料添加剂、冲击改性剂和功能改性剂中的一种或多种添加剂。11. 一种通过电磁照射用于形成导电图案的方法，包括以下步骤： 将权利要求1-10中任一项所述的用于形成导电图案的组合物模压成树脂产品或将其 涂敷至另一产品以形成树脂层； 向所述树脂产品或所述树脂层的预定区域照射电磁波，以由所述非导电金属化合物产 生包含第一金属或第二金属或其离子的金属核；以及 对产生所述金属核的区域进行化学还原或电镀以形成导电金属层。12. 根据权利要求11所述的方法，其中，在所述产生金属核的步骤中，以5至20W的平 均功率照射波长为1000 nm至1200nm的激光电磁波。13. 根据权利要求11所述的方法，其中，在所述产生金属核的步骤中，所述非导电金属 化合物的一部分暴露于所述树脂产品或树脂层的预定区域的表面上，并且由此产生所述金 属核，从而形成被活化以具有更高粘附性的粘附-活化表面。14. 根据权利要求13所述的方法，其中，通过化学还原所述金属核中包含的第一金属 或第二金属离子或者通过对其进行无电解镀，在所述粘附-活化表面上形成所述导电金属 层。15. 根据权利要求11所述的方法，其中，在所述还原或电镀步骤中，用包含还原剂的酸 或碱溶液处理产生金属核的区域。16. 根据权利要求15所述的方法，其中，所述还原剂包括选自甲醛、次磷酸盐、二甲胺 硼烷（DMAB)、二乙胺硼烷（DEAB)和肼中的一种或多种。17. -种具有导电图案的树脂结构，包括 聚合物树脂基底， 包含第一金属和第二金属并且分散在聚合物树脂基底中的非导电金属化合物， 其中，所述非导电金属化合物具有三维结构，该三维结构包括多个第一层，该第一层包 含第一金属和第二金属中的至少一种金属并且具有二维互相连接的共边八面体，以及 第二层，该第二层包含与第一层的金属不同的金属并且排列在相邻的第一层之间； 暴露在聚合物树脂基底预定区域的表面上的粘附-活化表面，该粘附-活化表面具有 含有第一金属或第二金属或其离子的金属核；以及 在所述粘附-活化表面上形成的导电金属层。18. 根据权利要求17所述的树脂结构，其中，形成所述粘附-活化表面和所述导电金属 层的预定区域与照射电磁波的聚合物树脂基底的区域相对应。
【专利摘要】本发明涉及一种用于形成导电图案的组合物，使用该组合物形成导电图案的方法以及具有该导电图案的树脂结构，所述组合物能够通过非常简单的工艺在各种聚合物树脂产品或树脂层上形成精美导电图案。所述用于形成导电图案的组合物包含聚合物树脂，以及包含第一金属和第二金属的非导电金属化合物，其中，所述非导电金属化合物具有三维结构，该三维结构包括多个包含第一金属和第二金属中的至少一种金属并且具有互相二维连接的共边八面体的第一层，和包含与第一层的金属不同的金属并且排列在相邻的第一层之间的第二层；以及通过电磁照射由非导电金属化合物形成包含第一金属或第二金属或其离子的金属核。
【IPC分类】H01B13/00, H01B1/22
【公开号】CN105190781
【申请号】CN201480023758
【发明人】朴致成, 朴哲凞, 田信姬, 郑相允, 郑汉娜
【申请人】Lg化学株式会社
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2014年4月17日
【公告号】EP2958112A1, US20160174370, WO2014175599A1