一种柔性显示装置及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示领域，特别是涉及一种柔性显示装置，以及该柔性显示装置的制备方法。
【背景技术】
[0002]与诸多显示器相比，OLED(Organic Light Emitting D1de,有机发光二极管)显示器具有主动发光、高对比度、无视角限制等诸多优点，尤其是柔性0LED显示器，其优势更明显。柔性0LED显示器不仅在体积上更加轻薄，功耗上也低于原有器件，有助于提升设备的续航能力，同时基于其可弯曲、柔韧性佳的特性，其耐用程度也大大高于以往屏幕，降低设备意外损伤的概率。因此，柔性0LED显示器现已被广泛应用于显示技术领域。
[0003]柔性0LED显示面板是通过封装的方式避免水氧侵入柔性0LED显示面板内、接触内部的0LED元件、对0LED元件的光电特性产生影响的，因此，封装的效果对于柔性0LED显示面板来说尤为重要。目前，对于柔性0LED显示面板封装工艺主要采用的是薄膜封装(thin film encapsulat1n，简称TFE)工艺，其通过无机层和有机层之间交替沉积镀膜对柔性0LED显示面板来防止水氧进入柔性0LED显示面板内部的显示区域、起到封装作用，并且提高其机械性能。然而由于采用柔性基板，由于可弯折，其边缘膜层界面处最容易出现裂纹或者其他缺陷，导致水氧入侵，降低了封装可靠近，从而导致显示器显示效果劣化。
【发明内容】
[0004]有鉴于此，本发明提供一种柔性显示装置，以及该柔性显示装置的制备方法。
[0005]本发明提供了一种柔性显示装置，包括:
[0006]柔性基板，包括显示区域和封装区域；
[0007]封装衬底，位于所述柔性基板的封装区域；
[0008]显示膜层，所述显示膜层包括至少一层位于所述封装衬底上的第一显示膜层，所述第一显示膜层在所述封装衬底上具有第一过孔，以暴露至少部分所述封装衬底；
[0009]薄膜封装层，覆盖所述显示膜层，并从所述显示区域延伸到所述封装区域，所述薄膜封装层的边缘比所述封装衬底更靠近所述显示区域；
[0010]边缘封装结构，沿所述薄膜封装层的边缘设置，覆盖所述薄膜封装层边缘区域和所述第一过孔，所述边缘封装结构通过所述第一过孔与所述封装衬底接触。
[0011]本发明还提供了一种柔性显示装置的制备方法，包括:
[0012]制备柔性基板，所述柔性基板包括显示区域和封装区域；
[0013]在所述柔性基板上的封装区域形成封装衬底；
[0014]在所述封装衬底上形成第一显示膜层，所述第一显示膜层覆盖所述封装衬底；
[0015]在所述第一显示膜层上形成第一过孔，以暴露至少部分所述封装衬底；
[0016]在所述第一显示膜层上形成薄膜封装层，所述薄膜封装层覆盖所述显示膜层，并从所述显示区域延伸到所述封装区域，所述薄膜封装层的边缘比所述封装衬底更靠近所述显示区域；
[0017]在所述薄膜封装层上形成边缘封装结构，所述边缘封装结构沿所述薄膜封装层的边缘形成，覆盖所述薄膜封装层边缘区域和所述第一过孔，通过所述第一过孔与所述封装衬底接触。
[0018]与现有技术相比，本发明至少具有如下突出的优点之一:
[0019]本发明实施例提供的柔性显示装置，由于在第一显示膜层下设置了封装衬底，并且在最终薄膜封装层的边缘处设置有边缘封装结构，并且边缘封装结构通过扩孔与封装沉底连接，形成栓状结构，提高了薄膜封装的边缘可靠性，进一步提高了水氧阻隔能力，保证显示装置的显示效果。
【附图说明】
[0020]图1是本发明实施例一中提供的一种柔性显示装置俯视结构示意图；
[0021]图2是图1中沿AA’截面的剖视结构示意图；
[0022]图3是本发明实施例二中提供的一种柔性显示装置俯视结构示意图；
[0023]图4是图3中沿BB’截面的剖视结构示意图；
[0024]图5是本发明实施例三中提供的一种柔性显示装置的制备方法的流程示意图；
[0025]图6A?6G是本发明实施例三中提供的一种柔性显示装置的制备方法的剖视结构示意图。
【具体实施方式】
[0026]为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面将结合附图和实施例对本发明做进一步说明。
[0027]需要说明的是，在以下描述中阐述了具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以多种不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广。因此本发明不受下面公开的【具体实施方式】的限制。
[0028]实施例一
[0029]请参考图1和图2，图1是本发明实施例一中提供的一种柔性显示装置俯视结构示意图，图2是图1中沿AA’截面的剖视结构示意图。本实施例提供的一种柔性显示装置包括:柔性基板100，包括显示区域PA和封装区域PB ;封装衬底110，位于柔性基板100的封装区域PB ;显示膜层，该显示膜层包括至少一层位于封装衬底110上的第一显示膜层102，第一显示膜层102在封装衬底110上具有第一过孔1021，以暴露至少部分封装衬底110 ;薄膜封装层108，覆盖显示膜层，并从显示区域PA延伸到封装区域PB，薄膜封装层108的边缘比封装衬底110更靠近显示区域PA ;边缘封装结构120，沿薄膜封装层108的边缘设置，覆盖薄膜封装层108边缘区域和第一过孔1021，边缘封装结构120通过第一过孔1021与封装衬底110接触。
[0030]具体地，请继续参考图1和图2，本实施例提供的柔性显示装置中，柔性基板100采用柔性树脂材料制备，例如聚酰亚胺、聚苯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对二甲苯、聚醚砜、聚萘二甲酸乙二醇酯等材料。柔性基板100包括显示区域PA和封装区域PB，封装区域PB围绕显示区域PA。通常在封装区域PB和显示区域PA之间还包括驱动电路区域等区域，本实施例仅对显示区域PA和封装区域PB做了示意性说明，不能以本实施例的结构作为对本发明的限定。
[0031]封装衬底110，位于柔性基板100的封装区域，结合参考图1和图2，本实施例中，封装衬底110采用左斜线图案填充表示，边缘封装结构120采用右斜线图案填充表示，在俯视图中，封装沉底110和边缘封装结构120的重叠区域表示为左右交叉斜线。本实施例中，在封装衬底110和柔性基板100之间，设置有至少一层第二显示膜层104，第二膜层104与第一膜层102均属于显示膜层的一部分。另外，在本实施例中，还设置有与封装沉底110同层设置的第三显示膜层106。
[0032]更具体地，本实施例提供的柔性显示装置为柔性有机发光显示装置，通常在柔性显示装置中，以多晶硅型TFT为例来说，在柔性基板上依次设置有水气阻隔层、缓冲层、半导体层、栅极绝缘层、栅极层、层间绝缘层、源漏极层、钝化层、有机平坦化层、阳极层、有机发光层、阴极层等膜层。对应到本实施例中，本实施例的第三显示膜层106为栅极层，封装沉底110为和第三显示膜层106，即栅极层同层设置的金属材料构成。由此，在形成第三显示膜层106的同时，形成封装沉底110，不需要增加额外的工序。另外，由于栅极层需要和各个像素电路导通，并且需要连接到外部电路，而封装衬底是为了加强封装效果而设置，不需要连接外部电路，为了避免封装衬底对显示区的影响，第三显示膜层106和封装衬底110间隔设置。本实施例中所说的至少一层第二显示膜层104则包括水气阻隔层、缓冲层、半导体层和栅极绝缘层等多层膜层。相应的，第一显示膜层102则为层间绝缘层、源漏极层、钝化层、有机平坦化层、阳极层、有机发光层、阴极层等膜层。
[0033]本实施例中，第一显示膜层102位于封装沉底110上，并且该第一显示膜层102