制环境载体的底部表面之间的间隙能将清洁干燥空气流引导穿过端口门和底部表面之间的密封件。
[0109]根据公开的实施例的一个或多方面，受控制环境接口模块限定通往清洁隧道的中入口或中间入口。
[0110]根据公开的实施例的一个或多方面，受控制环境接口模块位于清洁隧道的端部之间。
[0111]根据公开的实施例的一个或多方面，受控制环境接口模块包括可旋转端口门，其可移动到受控制环境接口模块的内部空间中，其中，端口门的旋转允许受控制环境载体自动以不同于所需的晶片堆叠定向的定向加载受控制环境载体。
[0112]根据公开的实施例的一个或多方面，受控制环境接口模块包括穿过式加载锁。
[0113]根据公开的实施例的一个或多方面，在受控制环境载体打开时，受控制环境载体的内部气氛与穿过式加载锁的内部气氛连通。
[0114]根据公开的实施例的一个或多方面，受控制环境接口模块为穿过式模块，其包括具有整体衬底支持件的端口门。
[0115]根据公开的实施例的一个或多方面，整体衬底支持件与端口门作为一个单元移动。
[0116]根据公开的实施例的一个或多方面，内部环境和处理工具的环境为公共环境，其延伸通过受控制环境接口模块。
[0117]根据公开的实施例的一个或多方面，流体阻隔密封件相对于内部环境的气氛为加压密封件。
[0118]根据公开的实施例的一个或多方面，受控制环境载体包括用于保持内部环境的壳体和用于密封性地封闭壳体的门，流体阻隔密封件包括通路，在门关闭时其形成在壳体和门之间的接口处。
[0119]根据公开的实施例的一个或多方面，受控制环境载体和受控制环境接口模块之间的接口包括流体端口，以独立于内部环境的气氛而装填流体阻隔密封件的流体。
[0120]根据公开的实施例的一个或多方面，受控制环境载体和受控制环境接口模块之间的接口包括流体端口，以独立于内部环境的气氛从流体阻隔密封件排空流体。
[0121]根据公开的实施例的一个或多方面，流体端口构造成在受控制环境载体和受控制环境接口模块中的一个或多个栗吸到真空气氛之前或与此分开而从流体阻隔密封件自动排空流体。
[0122]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底处理工具包括中心转移腔室和处理模块，处理模块可连通地联接到中心转移腔室的一个或多个侧部上，受控制环境接口模块连接到中心转移腔室上。
[0123]根据公开的实施例的一个或多方面，中心转移腔室包括至少一个转移机器人，以在受控制环境接口模块和处理模块之间转移一个或多个衬底。
[0124]根据公开的实施例的一个或多方面，中心转移腔室具有多边形形状。
[0125]根据公开的实施例的一个或多方面，中心转移腔室包括多个转移腔室，其联接到彼此上。
[0126]根据公开的实施例的一个或多方面，多个转移腔室至少通过受控制环境接口模块而联接到彼此上。
[0127]根据公开的实施例的一个或多方面，多个转移腔室通过线性运送隧道而联接到彼此上。
[0128]根据公开的实施例的一个或多方面，受控制环境接口模块设置在线性运送隧道的一个或多个端部处。
[0129]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底处理工具包括自动搬运系统，其用于将受控制环境载体转移到受控制环境接口模块。
[0130]根据公开的实施例的一个或多方面，处理工具包括装备前端单元，其不同于受控制环境接口模块。
[0131]根据公开的实施例的一个或多方面，提供一种密封衬底载体的方法。该方法包括提供具有内部环境和用于封闭内部环境的门的衬底载体壳体，在壳体和门之间的接口处提供流体阻隔密封件，其中，流体阻隔密封件围绕门的外周延伸并且具有与内部环境不同的气氛。
[0132]根据公开的实施例的一个或多方面，方法进一步包括提供第一密封件，其设置在内部环境和流体阻隔密封件之间的接口处，以及提供第二密封件，其设置在流体阻隔密封件和壳体外部的气氛之间的接口处。
[0133]根据公开的实施例的一个或多方面，方法进一步包括提供中间密封件，其设置在第一密封件和流体阻隔密封件之间。
[0134]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底加载器模块包括衬底载体与处理工具接口模块，其具有至少一个可关闭开口，衬底传送通过至少一个可关闭开口，并且至少一个可关闭开口构造成联接到处理工具的真空环境和处理工具的气氛环境中的一个或多个。衬底载体与处理工具接口模块包括真空接口，其构造成允许衬底载体的内部环境通往处理工具的真空环境，并且气氛接口构造成允许衬底载体的内部环境通往处理工具的气氛环境。
[0135]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底载体与处理工具接口模块构造成排空或装填位于衬底载体的门和衬底载体的壳体之间的衬底载体流体阻隔密封件。
[0136]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底载体与处理工具接口模块构造成排空或装填衬底载体的内部环境。
[0137]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底载体与处理工具接口模块包括Z轴驱动器，以使衬底载体的至少一部分沿横向于衬底的转移平面的方向移动到衬底载体中，以及移动出衬底载体。
[0138]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底载体与处理工具接口模块构造成分开衬底载体的壳与衬底载体的门，以暴露连接到门上的衬底支架。
[0139]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底载体与处理工具接口模块构造成用于联接到衬底处理工具的加载锁上。
[0140]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底载体与处理工具接口模块构造成用于联接到衬底处理工具的微环境。
[0141]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底处理工具包括其中具有气氛环境的带气氛式处理腔室、其中具有真空环境且连接到带气氛式处理腔室上的真空处理腔室，以及衬底载体与处理工具接口模块，衬底载体与处理工具接口模块具有至少一个可关闭开口，衬底传送通过可关闭开口，并且可关闭开口构造成联接到带气氛式处理腔室和真空处理腔室中的一个或多个上。衬底载体与处理工具接口模块包括真空接口和气氛接口，真空接口构造成允许衬底载体的内部环境通往真空处理腔室的真空环境，气氛接口构造成允许衬底载体的内部环境通往带气氛式处理腔室的气氛环境。
[0142]根据公开的实施例的一个或多方面，真空处理腔室包括加载锁，其中，衬底载体与处理工具接口模块连接到加载锁上。
[0143]根据公开的实施例的一个或多方面，带气氛式处理腔室包括微环境，其中，衬底载体与处理工具接口模块连接到微环境。
[0144]根据公开的实施例的一个或多方面，真空处理腔室包括加载锁，并且带气氛式处理腔室包括微环境，其中，衬底载体与处理工具接口模块连接到加载锁和微环境两者。
[0145]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底载体与处理工具接口模块构造成排空或装填位于衬底载体的门和衬底载体的壳体之间的衬底载体流体阻隔密封件。
[0146]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底载体与处理工具接口模块构造成排空或装填衬底载体的内部环境。
[0147]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底载体与处理工具接口模块构造成形成穿过式加载锁，穿过式加载锁连接到真空处理腔室和带气氛式处理腔室上，衬底载体与处理工具接口模块具有设置在至少一个可关闭开口中的一个下方的衬底支持搁架。
[0148]根据公开的实施例的一个或多方面，衬底载体与处理工具接口模块构造成使得衬底通过穿过式加载锁从带气氛式处理腔室运送到真空处理腔室中，并且使得衬底离开而进入联接到衬底载体与处理工具接口模块上的衬底载体的真空环境中。
[0149]根据公开的实施例的一个或多方面，带气氛式处理腔室是装备前端模块，其具有连接到真空处理腔室上的背部、与背部相反的BOLTS接口和在BOLTS接口和背部之间延伸的侧部，衬底载体与处理工具接口模块联接到背部、侧部和BOLTS接口中的一个上。
[0150]应当理解，前述描述仅说明公开的实施例的各方面。本领域技术人员可想出各种备选方案和修改，而不偏离公开的实施例的各方面。因此，公开的实施例的各方面意于包含落在所附权利要求的范围内的所有这样的备选方案、修改和变化。另外，实际上相互不同的从属权利要求或独立权利要求中叙述的不同的特征不表示不可有利地利用这些特征的组合，这种组合仍然在本发明的各方面的范围之内。
【主权项】
1.一种衬底运送系统，包括: 载体，其具有 壳体，其形成内部环境，所述内部环境具有开口，以保持至少一个衬底，以及 门，其用于使所述开口与外部气氛密封开，其中，在被密封时，所述内部环境构造成保持其中的内部气氛，所述壳体包括流体贮存器，其在所述内部环境外部且构造成容纳流体，从而在所述流体贮存器中形成与所述内部气氛不同的气氛，以形成流体阻隔密封件，其使所述内部环境与所述载体外部的环境密封开。2.根据权利要求1所述的衬底运送系统，其特征在于，所述流体贮存器构造成在所述第一环境被破坏时将流体释放到所述内部环境中。3.根据权利要求1所述的衬底运送系统，其特征在于，所述衬底运送系统进一步包括真空腔室，所述真空腔室具有载体接口，所述载体接口构造成支持所述载体，以在所述真空腔室中运送所述至少一个衬底。4.根据权利要求3所述的衬底运送系统，其特征在于，通过所述内部环境和所述真空腔室之间的动态压力平衡而释放所述门。5.根据权利要求3所述的衬底运送系统，其特征在于，所述真空腔室包括至少一个可密封开口，以将所述真空腔室联接到至少一个衬底处理模块上。6.根据权利要求3所述的衬底运送系统，其特征在于，所述载体接口包括冗余密封组件，其包括位于第一平面上的第一密封件和位于第二平面上的第二密封件，其中，所述第一平面和所述第二平面基本彼此垂直。7.根据权利要求3所述的衬底运送系统，其特征在于，所述衬底运送系统进一步包括将所述门保持到所述壳体上的被动门锁，其中，所述载体接口构造成释放所述被动门锁。8.根据权利要求3所述的衬底运送系统，其特征在于，所述载体接口包括吹扫端口，其构造成吹扫在所述门和所述载体接口之间的空间和在所述门和所述壳体之间的密封件中的至少一个。9.根据权利要求3所述的衬底运送系统，其特征在于，所述载体接口是被动接口。10.根据权利要求1所述的衬底运送系统，其特征在于，所述壳体和门中的至少一个包括冗余密封组件，所述冗余密封组件包括围绕所述开口的外周而设置的至少一个真空密封件和至少一个流体贮存器密封件。11.根据权利要求10所述的衬底运送系统，其特征在于，所述冗余密封组件的至少一个真空密封件包括位于第一平面上的第一密封件和位于第二平面上的第二密封件，其中，所述第一平面和所述第二平面彼此不同。12.根据权利要求10所述的衬底运送系统，其特征在于，所述冗余密封组件的密封件中的各个与所述壳体和门中的至少一个中的凹陷密封表面匹配。13.根据权利要求1所述的衬底运送系统，其特征在于，所述流体贮存器容纳压力高于所述内部气氛的压力的气体。14.根据权利要求1所述的衬底运送系统，其特征在于，所述流体贮存器容纳压力高于大气压力的气体。15.根据权利要求1所述的衬底运送系统，其特征在于，所述内部气氛处于低于大气压力的压力。16.根据权利要求1所述的衬底运送系统，其特征在于，所述载体的壳体构造成支持真空内部环境。17.根据权利要求1所述的衬底运送系统，其特征在于，所述壳体包括流体贮存器通道，其与所述流体贮存器处于连通，使得所述流体阻隔密封件设置在所述至少一个真空密封件的外侧，并且至少一个流体贮存器密封件围绕所述流体贮存器通道的外周设置。18.根据权利要求17所述的衬底运送系统，其特征在于，所述流体贮存器构造成在所述至少一个真空密封件被破坏时，通过所述流体贮存器通道将流体释放到所述内部环境中。19.根据权利要求1所述的衬底运送系统，其特征在于，所述门利用所述内部环境的真空力密封到所述壳体上。20.根据权利要求1所述的衬底运送系统，其特征在于，所述衬底运送系统进一步包括被动门锁，其构造成在失去所述真空力时，将所述门固持到所述壳体。21.根据权利要求20所述的衬底运送系统，其特征在于，所述被动门锁包括球锁销和球锁栓。22.—种衬底运送器，包括: 壳体，其形成内部环境，以将至少一个衬底容纳在第一气氛中，所述壳体包括 通往所述内部环境的开口， 流体贮存器，其形成流体阻隔密封件，所述流体阻隔密封件具有与所述第一气氛不同且在所述第一气氛外部的第二气氛， 构造成关闭所述开口的门，在所述开口关闭时，所述壳体构造成在所述内部环境内保持所述第一气氛，以及 设置在所述壳体和所述门中的至少一个上的冗余密封组件，所述冗余密封组件包括围绕所述开口的外周设置的至少第一密封件，以及至少第二密封件，其中，所述第二密封件设置在所述第一密封件和所述流体阻隔密封件之间。23.根据权利要求22所述的衬底运送器，其特征在于，所述壳体包括流体贮存器通道，其与所述流体贮存器处于连通，并且设置在所述第一密封件的外侧，所述衬底运送器进一步包括围绕所述流体贮存器通道的外周设置在外侧的流体贮存器密封件。24.根据权利要求22所述的衬底运送器，其特征在于，所述流体贮存器构造成在所述第一密封件和所述第二密封件中的一个或多个被破坏时，通过所述流体贮存器通道将流体释放到所述内部环境中。25.根据权利要求22所述的衬底运送器，其特征在于，所述门利用所述内部环境的真空力密封到所述壳体上。26.根据权利要求22所述的衬底运送器，其特征在于，所述衬底运送器包括被动门锁，其构造成在失去所述真空力时，将所述门固持到所述壳体上。27.根据权利要求26所述的衬底运送器，其特征在于，所述被动门锁包括球锁销和球锁栓。28.根据权利要求26所述的衬底运送器，其特征在于，所述被动门锁构造成被动地释放。29.根据权利要求22所述的衬底运送器，其特征在于，所述门构造成支持所述至少一个衬底。30.一种衬底运送器，包括: 壳体，其具有 内部环境，其构造成在第一气氛中保持至少一个衬底，所述第一气氛对于衬底处理气氛是公共的， 用于密封所述内部环境的门，以及 在所述门和所述壳体之间的流体阻隔密封件，所述流体阻隔密封件具有与所述第一气氛不同且与所述第一气氛隔开的第二气氛，其中，外部密封件将所述流体阻隔密封件与所述壳体外部的外部气氛隔开，而内部密封件则将所述流体阻隔密封件与所述第一气氛隔开，使得在所述流体阻隔密封件和所述第一气氛之间存在空隙。31.根据权利要求30所述的衬底运送器，其特征在于，所述衬底运送器进一步包括中间密封件，其构造成将所述流体阻隔密封件与所述内部密封件隔开。32.根据权利要求30所述的衬底运送器，其特征在于，所述流体阻隔密封件包括不同于所述内部环境且连接到所述壳体上的流体贮存器，以及流体通道。33.根据权利要求32所述的衬底运送器，其特征在于，所述流体通道将所述流体贮存器连接到所述壳体和所述门之间的接口上。34.根据权利要求30所述的衬底运送器，其特征在于，所述流体阻隔密封件是设置在所述外部气氛和所述第一气氛之间的加压密封件。35.一种衬底处理工具，包括: 带气氛式处理腔室，其在其中具有气氛环境； 真空处理腔室，其在其中具有真空环境，并且连接到所述带气氛式处理腔室上；以及 衬底载体与处理工具接口模块，其具有至少一个可关闭开口，衬底传送通过所述至少一个可关闭开口，并且所述至少一个可关闭开口构造成联接到所述带气氛式处理腔室和真空处理腔室中的一个或多个上，所述衬底载体与处理工具接口模块包括 真空接口，其构造成允许衬底载体的内部环境通往所述真空处理腔室的真空环境，以及 气氛接口，其构造成允许所述衬底载体的内部环境通往所述带气氛式处理腔室的气氛环境。36.根据权利要求35所述的衬底处理工具，其特征在于，所述真空处理腔室包括加载锁，其中，所述衬底载体与处理工具接口模块连接到所述加载锁上。37.根据权利要求35所述的衬底处理工具，其特征在于，所述带气氛式处理腔室包括微环境，其中，所述衬底载体与处理工具接口模块连接到所述微环境上。38.根据权利要求35所述的衬底处理工具，其特征在于，所述真空处理腔室包括加载锁，并且所述带气氛式处理腔室包括微环境，其中，所述衬底载体与处理工具接口模块连接到所述加载锁和所述微环境两者上。39.根据权利要求35所述的衬底处理工具，其特征在于，所述衬底载体与处理工具接口模块构造成排空或装填位于所述衬底载体的门和所述衬底载体的壳体之间的衬底载体流体阻隔密封件。40.根据权利要求35所述的衬底处理工具，其特征在于，所述衬底载体与处理工具接口模块构造成排空或装填所述衬底载体的内部环境。41.根据权利要求35所述的衬底处理工具，其特征在于，所述衬底载体与处理工具接口模块构造成形成连接到所述真空处理腔室和所述带气氛式处理腔室上的穿过式加载锁，所述衬底载体与处理工具接口模块具有设置在所述至少一个可关闭开口中的一个下方的衬底支持搁架。42.根据权利要求41所述的衬底处理工具，其特征在于，所述衬底载体与处理工具接口模块构造成使得衬底通过所述穿过式加载锁从所述带气氛式处理腔室运送到所述真空处理腔室中，以及使衬底离开而进入联接到所述衬底载体与处理工具接口模块上的衬底载体的真空环境中。43.根据权利要求35所述的衬底处理工具，其特征在于，所述带气氛式处理腔室是装备前端模块，其具有连接到所述真空处理腔室上的背部、与所述背部相反的BOLTS接口，以及在所述BOLTS接口和所述背部之间延伸的侧部，所述衬底载体与处理工具接口模块联接到所述背部、所述侧部和所述BOLTS接口中的一个上。
【专利摘要】衬底运送系统包括：载体，其具有壳体以及门，壳体形成内部环境，内部环境具有开口，以保持至少一个衬底，门用于将开口与外部气氛密封开，其中在被密封时，内部环境构造成保持其中的内部气氛，壳体包括流体贮存器，其在内部环境的外部且构造成容纳流体，从而在流体贮存器中形成与内部气氛不同的气氛，以形成流体阻隔密封件，其将内部环境与载体外部的环境密封开。
【IPC分类】H01L21/67, H01L21/673, H01L21/677
【公开号】CN105431933
【申请号】CN201480017533
【发明人】D.巴布斯, R.T.卡夫尼, R.C.梅, K.A.马查克
【申请人】布鲁克斯自动化公司
【公开日】2016年3月23日
【申请日】2014年1月22日
【公告号】EP2948980A2, US20140202921, WO2014116681A2, WO2014116681A3, WO2014116681A4