加热机台的制作方法
【技术领域】
[0001 ]本发明是关于一种制备显示装置的治具，特别是有关于一种加热机台。
【背景技术】
[0002]在显示器的基板制作过程中，往往需要涂布或者贴附多种层体/膜于基板表面，并经由加热烘烤等方式而使这些层体定型。举例而言，在光刻微影工艺中，可以在基板表面涂布光阻液体，并烘烤而形成光刻胶层，以进行后续的光刻微影工艺。
[0003]然而，在加热烘烤基板的过程中，容易因为基板的材料、基板上的层体图案的布设、基板内离子的分布、基板的相对表面温度差异等其它原因，导致基板受热翘曲。此基板暂时性翘曲容易使得基板上待烘烤定型的液体受热不均，而有部份区域没有完全定型而附着力欠佳，造成容易剥离或无法作用。
【发明内容】
[0004]根据本发明的一态样提供一种用于加热基板的加热机台，基板包含操作区与环绕操作区的非操作区。加热机台包含壳体、加热板以及加压机构。壳体具有容置腔以容置基板，其中壳体包含上盖。加热板安装于容置腔，用以承载并加热基板。加压机构固定于上盖上，用以在加热基板时施加压力于基板的非操作区的至少相对两侧。
[0005]于本发明的一或多个实施方式中，加压机构包含至少一对升降装置以及多个接触头。升降装置设置于上盖，每一升降装置包含推杆。接触头分别设置于推杆的一端，用以接触基板。
[0006]于本发明的一或多个实施方式中，接触头的直径实质上为I毫米。
[0007]于本发明的一或多个实施方式中，接触头的材料为聚醚醚酮(polyetheretherketone；PEEK)。
[0008]于本发明的一或多个实施方式中，上盖包含多个上盖孔洞，推杆经由通过上盖孔洞而使接触头接触于基板。
[0009]于本发明的一或多个实施方式中，至少一对升降装置的数量为二对，且该二对升降装置对称地设置。
[0010]于本发明的一或多个实施方式中，加热机台更包含固定板以及多个支撑销。固定板水平安装于壳体内且设置于加热板的下方。支撑销固定于固定板上，其中加热板包含多个加热板通孔，支撑销分别穿过加热板通孔，用以沿垂直于加热板的方向移动基板。
[0011]于本发明的一或多个实施方式中，加压机构包含多个接触头，用以接触基板，每一支撑销的顶面积小于每一接触头的顶面积。
[0012]于本发明的一或多个实施方式中，加热机台更包含移动机构，移动机构连接至加压机构，用以调整加压机构的位置。
[0013]于本发明的一或多个实施方式中，基板用以作为与显示器的主动元件阵列基板相对的对向基板。
[0014]于本发明的多个实施方式中，设计加热机台包含加压机构，其中加压机构能够在基板受热时提供压力，以抵制基板的暂时性翘曲，进而确保基板受热均匀与层体定型。
【附图说明】
[0015]图1A为根据本发明的一实施方式的加热机台于一操作阶段的立体示意图。
[0016]图1B为图1A的加热机台于另一操作阶段的立体示意图。
[0017]图2为图1A的基板的立体不意图。
[0018]图3A与图3B为根据本发明的一实施方式的加热机台与基板的侧视图。
[0019]图4为根据本发明的另一实施方式的加热机台于加压阶段的立体示意图。
[0020]其中，附图标记:
[0021]100:加热机台
[0022]110:壳体
[0023]112:容置腔
[0024]114:上盖
[0025]114a:上盖孔洞
[0026]120:加热板
[0027]122:加热板通孔
[0028]130:加压机构
[0029]132:升降装置
[0030]132a:推杆
[0031]134:接触头
[0032]140:固定板
[0033]150:支撑销
[0034]152:顶端
[0035]160:感测元件
[0036]170:计时元件
[0037]180:移动机构
[0038]200:基板
[0039]202:边缘
[0040]NA:非操作区
[0041]0A:操作区
[0042]DA:预定区域
[0043]D1:方向
【具体实施方式】
[0044]以下将以图式揭露本发明的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本发明。也就是说，在本发明部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些习知惯用的结构与元件在图式中将以简单示意的方式为之。
[0045]图1A为根据本发明的一实施方式的加热机台100于一操作阶段的立体示意图。加热机台100用于加热基板200，基板200包含操作区OA与环绕操作区OA的非操作区NA。加热机台100包含壳体110、加热板120以及加压机构130。壳体110具有容置腔112以容置基板200，其中壳体110包含上盖114。加热板120安装于容置腔112，用以承载并加热基板200。加压机构130固定于上盖114上，用以在加热基板200时施加压力于基板200的非操作区NA的至少相对两侧。
[0046]于本发明的一或多个实施方式中，加压机构130包含至少一对升降装置132以及多个接触头134。升降装置132设置于上盖114，升降装置132分别对应于基板200的非操作区NA的两侧设置，以在不碰触到操作区OA的状况下，确保基板200受力均匀。于此，升降装置132的数量为二对，且该二对升降装置132对称地设置。当然，本发明不以此为限，亦可以配置多对升降装置132，对应于基板200的非操作区NA设置。
[0047]于本发明的多个实施方式中，每一升降装置132包含推杆132a。接触头134分别设置于推杆132a的一端，用以接触基板200。升降装置132可以是气缸，并通过调整气缸内部气体压力来移动推杆132a。上盖114包含多个上盖孔洞114a，参照图1B，推杆132a经由通过上盖孔洞114a而使接触头134接触于基板200。
[0048]图2为图1A的基板200的立体示意图。于本发明的多个实施方式中，操作区OA位于基板的中央，操作区OA可包含多个预定区域DA，使基板200可以于后续工艺中切割为多个子基板，每一子基板具有一个预定区域DA，而作为显示器的基板使用。于此，预定区域DA指基板200预计作为显示器的基板的区域，其上可布设有电极、油墨、光刻胶或其它元件，预定区域DA可以视实际设计的显示器尺寸而调整大小。
[0049]于本实施方式中，非操作区NA指基板200由边缘202至操作区OA之间的区域，用以确保操作区OA离基板200的边缘202具有一定的距离，以使操作区OA受热均匀。且非操作区NA还提供加压机构130(参照图1A) —定的加压区域。举例而言，针对长宽为880毫米与680毫米的基板200，非操作区NA可以包含基板200从边缘202往内3至15毫米的区域，例如5毫米、10毫米、15毫米，加压机构130(参照图1A)可以施压于此部份非操作区NA。
[ΟΟδΟ] 于部分实施方式中，基板200可以是碱玻璃，例如钠I丐玻璃(soda lime glass)，钠钙玻璃未经退火纯化，相较于经退火纯化后的玻璃，碱玻璃具有与热膨胀系数较大的特性，且碱玻璃可因离子交换强化而具有抗摔的特性。
[0051]于部份实施方式中，触控感测装置可以以此未经回火的碱玻璃作为其载板。于其它实施方式中，显示器可以以无碱玻璃(例如无碱娃酸招玻璃(aluminosilicate glass))作为主动元件阵列基板，并以此未经回火的碱玻璃作为相对主动元件阵列基板的对向基板，而于后续工艺中安置彩色滤光元件、透明导电层或其它元件于其上。于部分实施方式中，相较于主动元件阵列基板，对向基板(碱玻璃)所经历的工序较少且负载的元件较少，以免因碱玻璃热膨胀系数较大而于工艺中毁损其上的元件。当然不应以此限制本发明的范围，于其它实施方式中，基板200亦可以是任何在加热过程中翘