；可以为聚合物材料:例如亚克力、泰富龙、聚酰亚胺等，该类材料可以通过打印、丝印、热沉积等方式制备。
[0049]本实施例的薄膜封装的OLED屏体的制备方法，包括下述步骤:
[0050]S1、在基板101上制作第一电极层102，再涂覆有机光刻胶层，曝光显影使其形成具有开口结构的像素限定层108;
[0051]S2、在像素限定层的上方通过涂胶、曝光、显影、刻蚀的工艺制备隔离柱105，采用蒸镀掩膜板在具有开口结构的像素限定层中沉积有机功能层103，在有机功能层103的上方沉积第二电极层104，所述的隔离柱105使相邻的所述第二电极层104彼此绝缘；
[0052]S3、在所述第二电极层104上方蒸镀无机材料形成平坦化层106，所述平坦化层106填充在所述隔离柱之间并覆盖所述隔离柱105后，其上端形成连续平面结构；或者通过打印、丝印、热沉积等方式制备亚克力、泰富龙、聚酰亚胺等材质的平坦化层106;
[0053]S4、在所述连续平面结构上方通过CVD沉寂Ium厚度的S i N形成薄膜封装层107。
[0054]本实施例的薄膜封装层是形成在所述平坦化层的连续平面的一侧，因此能够与平坦化层紧密贴合，且成膜连续性好，封装效果佳，且薄膜封装层不容易破损。此外，本实用新型采用的所述平坦化层采用有机材料和/或无机材料制备而成，优选透光率>70%，折射率为1.4-2.3的透明材料，可适用于透明屏体或背面发光层。
[0055]实施例2
[0056]如图2所示，本实施例的薄膜封装的OLED屏体结构同实施例1，其中平坦化层106填充在隔离柱105之间，其上端与所述隔离柱105的顶端共同形成连续平面结构，所述薄膜封装层107贴合设置在所述连续平面结构上。
[0057]其制备方法同实施例1的薄膜封装的OLED屏体，其中步骤S3为:
[0058]在所述第二电极层104上方在蒸镀无机材料形成平坦化层106，所述平坦化层106填充在所述隔离柱之间，其上端与隔离柱上端共同形成连续平面结构；或者通过打印、丝印、热沉积等方式制备有机材料材质的平坦化层106，其上端与隔离柱上端共同形成连续平面结构；
[0059]该实施例中所选无机材料为NPB、ALq3、TBD、PBD、CBP中的一种或多种，有机材料为亚克力、泰富龙、聚酰亚胺。所述封装膜107采用Sputter氧化招层制备。
[0060]本实施例的薄膜封装层是形成在所述平坦化层的连续平面的一侧，因此能够与平坦化层紧密贴合，且成膜连续性好，封装效果佳，且薄膜封装层不容易破损。此外，本实用新型采用的所述平坦化层采用有机材料和/或无机材料制备而成，优选透光率>70%，折射率为1.4-2.3的透明材料，可适用于透明屏体或背面发光层。
[0061 ] 实施例3
[0062]如图1所示，本实施例的薄膜封装的OLED屏体结构同实施例1，其中平坦化层106和薄膜封装层107是由聚氢硅氮烷类材料制备而成的一体结构。硅氮烷类材料分子式如[SiH2NH],该类材料通过湿法涂布或丝网印刷的方式制备第二电极层上，所述的聚氢硅氮烷类材料与空气的水分和氧反应变成固化膜，形成一体结构的平坦化层106。之后通过CVD的方式沉寂SiN或S1作为薄膜封装层107。
[0063]其中硅氮烷遇到水、氧气反应机理如下，最终缓冲材料为二氧化硅层。
[0064]-[SiH2NH]n-+02^Si02+NH3
[0065]and
[0066]-[SiH2NH]n-+H20^Si02+NH3+H2
[0067]本实施例的薄膜封装的OLED屏体的制备方法，包括下述步骤:
[0068]S1、在导电基板上制作涂覆有机光刻胶层，曝光显影使其形成具有开口结构的像素限定层108;
[0069]S2、在像素限定层的上方通过涂胶、曝光、显影、刻蚀的工艺制备隔离柱105，采用蒸镀掩膜板在具有开口结构的像素限定层中沉积有机功能层103，在有机功能层103的上方沉积第二电极层104，所述的隔离柱105使相邻的所述第二电极层104彼此绝缘；
[0070]S3、在所述第二电极层104上方湿法涂布或丝网印刷聚氢硅氮烷类材料或其衍生物，填充在隔离柱105之间并覆盖所述隔离柱105后，固化即可形成一体结构的平坦化层106。之后沉积无机薄膜封装层107。
[0071]本实施例的平坦化层106由聚氢硅氮烷类材料与空气中水、氧反应而成，最终产物是硅氧化物。这种一体结构具有优良的密封效果，延长器件的寿命。
[0072]实施例4
[0073]如图1所示，本实施例的薄膜封装的OLED屏体结构同实施例2，其中平坦化层106和薄膜封装层107是由聚氢硅氮烷类材料组合物制备而成的一体结构。所述聚氢硅氮烷类材料组合物包括下述组分:
[0074]二聚氢硅氮烷类衍生物材料100份为基数:
[0075]交联剂为二聚氢硅氮烷类衍生物材料的5wt%-50wt%、光引发剂为交联剂的5wt % -50wt % 质量份；
[0076]流平剂为树脂的0wt%_10wt% ;
[0077]所述交联剂较佳者为三丙烯酸三羟甲基丙酯，环氧乙烷改质的三丙烯酸三羟甲基丙酯或环氧丙烷改质之三丙烯酸三羟甲基丙酯，具体为季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、己内酯改质之二季戊四醇六丙烯酸酯、四丙烯酸二三羟甲基丙酯。
[0078]所述光引发剂为苯乙酮系化合物或二咪唑系化合物。
[0079]所述苯乙酬系化合物为对二甲胺苯乙酬(p-dimethylamino-acetophen-one)、a，a ’ 二甲氧基氧化偶氮苯乙酮(a，a，-dimethoxyazoxyacetophen-one)、2，2 ’ -二甲基-2-苯基苯乙酬(2，2’-dimethyl-2-phenylaceto-phen-one)、对甲氧基苯乙酬(p-methoxyacetophenone) 、2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)_2_吗啉代-1-丙酮(2-methy 1-1-(4-methylth1 phenyl )-2-morp-hoIino-propane-1-one)、2-节基-2_N,N-二甲胺-1-(4-吗啉代苯基)_1_丁酉同(2_benzyl_2_N,N-dimethylamino-1-(4-morphoIinophenyI )-1-butanone)。
[0080]二咪唑系化合物(biimidazole)为2，2’-双(邻-氯苯基)-4，4’，5，5’_四苯基二咪P坐[2，2'-bis(o-chlorophenyI)-4,4' ,5,5，-tetraphenyl-biimida-zole]、2，2，-双(邻甲基苯基)-4,4 ’，5，5’-四苯基二咪唑[2，2’-1^8(04111虹011161^1)-4，4’，5，5，_tetraphenyIbi imidazole]。
[0081]光引发剂优选2-苄基-2-N，N-二甲胺4-(4-吗啉代苯基)-卜丁酮和2，2’_双(2-氯苯基)-4，4’，5，5’_四苯基二咪唑的混合物，二者质量比为30-50 %: 50-70 %。
[0082]流平剂为丙烯酸改性氟碳流平剂(生产厂家为埃夫卡，型号为EFKA3600)。溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯或3-乙氧基丙酸乙酯。
[0083]本实施例的制备方法同实施例3，其中所述的步骤S3中的固化是采用紫外光照射引发聚氢硅氮烷类材料组合物的交联聚合反应形成一体结构的平坦化层(106)和薄膜封装层(107)。
[0084]本实施例的平坦化层106和封装层107是由聚氢硅氮烷类材料、其衍生物或聚氢硅氮烷类材料组合物制备而成的一体结构。这种一体结构具有优良的密封效果，延长器件的寿命O
[0085]显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。
【主权项】
1.一种薄膜封装的OLED屏体，包括导电基板和薄膜封装层(107)，所述的导电基板和所述薄膜封装层(107)形成的密闭空间内设置有机功能层(103)，所述的有机功能层(103)的上方设置有第二电极层(104)，相邻的第二电极层(104)彼此绝缘，其特征在于， 所述薄膜封装层(107)和所述第二电极层(104)之间设置有平坦化层(106)，所述平坦化层(106)远离所述第二电极层(104)的一侧形成连续平面结构，所述薄膜封装层(107)贝占合设置在所述连续平面结构上。2.根据权利要求1所述的薄膜封装的OLED屏体，其特征在于，相邻的所述第二电极层(104)之间通过隔离柱(105)实现彼此绝缘，所述平坦化层(106)的上端与所述隔离柱(105)的顶端共同形成连续平面结构，所述薄膜封装层(107)贴合设置在所述连续平面结构上。3.根据权利要求1所述的薄膜封装的OLED屏体，其特征在于，相邻的所述第二电极层(104)之间通过隔离柱(105)实现彼此绝缘，所述平坦化层(106)填充在隔离柱(105)之间并覆盖所述隔离柱(105)后，其上端形成连续平面结构，所述薄膜封装层(107)贴合设置在所述连续平面结构上。4.根据权利要求1-3任一项所述的薄膜封装的OLED屏体，其特征在于，所述导电基板包括基板(101)和设置在所述基板(101)上的第一电极层(102)，所述第一电极层(102)上设置有若干形成连续网格结构的像素限定层(108)，所述的网格结构中填充有机功能层(103)，所述像素限定层(108)上方设置有隔离柱(105)，所述隔离柱(105)将相邻有机功能层(103)上的第二电极层(104)彼此隔离绝缘。5.根据权利要求1所述的薄膜封装的OLED屏体，其特征在于，所述平坦化层(106)的透光率>70 %，折射率为1.4-2.3，所述的平坦化层(106)为有机材料层或无机材料层。6.根据权利要求5所述的薄膜封装的OLED屏体，其特征在于，所述的平坦化层为NPB、ALq3、TBD、PBD、CBP中的一种;或者为亚克力、泰富龙、聚酰亚胺中的一种。
【专利摘要】本实用新型涉及一种薄膜封装的OLED屏体，属于有机电致发光器件技术领域，薄膜封装的OLED屏体包括导电基板和薄膜封装层，所述的导电基板和所述薄膜封装层形成的密闭空间内设置有机功能层，所述的有机功能层的上方设置有第二电极层，相邻的第二电极层彼此绝缘，所述薄膜封装层和所述第二电极层之间设置有平坦化层，所述平坦化层远离所述第二电极层的一侧形成连续平面结构，所述薄膜封装层贴合设置在所述连续平面结构上。由于薄膜封装层是形成在所述平坦化层的相对连续平面的一侧，因此能够与平坦化层紧密贴合，厚度均一性好。不仅封装效果好，而且能够薄膜封装层不容易破损。
【IPC分类】H01L51/52, H01L51/56, H01L27/32
【公开号】CN205376530
【申请号】CN201521135518
【发明人】张国辉, 王静, 赵杨, 陈旭
【申请人】固安翌光科技有限公司
【公开日】2016年7月6日
【申请日】2015年12月31日