专利名称：有机el元件的制作方法
技术领域：
本发明涉及有机EL元件及其制造方法。
背景技术：
发光元件有其结构、发光原理等不同的各种发光元件。作为其中之一，现在正在进行有机EL (Electro Luminescence)元件的实用化。有机EL元件依次层叠支撑基板、阳极、包含有机物的发光层及阴极而构成。若向有机EL元件施加电压，则从阳极注入空穴的同时从阴极注入电子。进而，从各电极注入的空穴与电子在发光层结合从而产生发光。在上述的仅仅由阳极、发光层及阴极构成的有机EL元件中，难以得到期望的发光特性，因此通常在阳极与阴极之间设置发光层以外的规定的层。例如，在阳极与阴极之间设置空穴注入层、电子注入层等作为规定的层。空穴注入层是为了容易地从阳极注入空穴，而在阳极与发光层之间设置的。另外，电子注入层是为了容易地从阴极注入电子，而在阴极与发光层之间设置的。此类有机EL元件通过依次层叠支撑基板、阳极、空穴注入层、发光层、电子注入层及阴极而形成。电子注入层通常通过在大气中不稳定的电子注入材料构成。例如，电子注入层可通过Ba、BaO及NaF等构成，且通常在真空气氛中形成。进而，设置于电子注入层上的阴极，是为了抑制在大气中不稳定的电子注入层的劣化，而通常在真空气氛中形成的。因此，在现有技术中，为了形成电子注入层及阴极，需要导入真空气氛，但为了调制成真空气氛，而使装置变大，或工序 变复杂。例如，被认为作为简单地制造有机EL元件的方法之一的辊对辊法中，为了在真空气氛中形成电子注入层及阴极，需要在真空气氛中保持包括卷曲挠性膜的装置在内的全部装置，存在装置变大的问题(例如，参照专利文献I)。在此，为了能够在不导入真空气氛的情况下形成电子注入层，正在探讨大气中比较稳定且能够容易地从阴极注入电子的电子注入材料的开发。作为此类电子注入材料，提出了有机金属络合物，现有技术中，通过将该金属络合物涂布成膜来形成电子注入层(例如参照专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献I日本特开2007-149589号公报专利文献2日本特开2005-158489号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题但是，在常压程度的气氛中比较稳定且能够容易地从阴极注入电子的电子注入材料受到其种类的限制，目前还在针对作为有机EL元件能够实用的各种电子注入材料进行开发。
在此，本发明的目的就在于提供一种使用了在常压程度的气氛中比较稳定的新型电子注入材料所形成的有机EL元件。解决问题的方法本发明涉及一种有机EL元件，其依次具有支撑基板、阳极、发光层、电子注入层及阴极，其中，电子注入层是通过将含有离子性聚合物的墨液涂布并使其成膜而形成的，阴极是通过将含有形成所述阴极的材料的墨液涂布并使其成膜而形成的，或者是通过对形成所述阴极的导电性薄膜进行转印而形成的。本发明涉及阴极包含导电性填料的有机EL元件。另外，本发明涉及一种有机EL元件的制造方法，其是依次具有支撑基板、阳极、发光层、电子注入层及阴极的有机EL元件的制造方法，包括:通过涂布含有离子性聚合物的墨液并使其成膜来形成电子注入层的工序；及通过在电子注入层上转印导电性薄膜来形成阴极，或者通过涂布含有形成所述阴极的材料的墨液并使其成膜来形成阴极的工序。另外，本发明涉及通过辊对辊法形成电子注入层及阴极的有机EL元件的制造方法。发明效果根据本发明，通过使用在常压程度的气氛中比较稳定的新型电子注入材料，利用涂布法就能够形成有机EL元件的电子注入层，从而提供一种具有在不导入真空气氛的情况下所形成的电子注入层的有机EL元件。
图1为示意地表示有机EL元件的截面图。图2为示意地表示有机EL元件的制造方法的图。
具体实施例方式优选实施方式的有机EL元件为依次层叠支撑基板、阳极、发光层、电子注入层及阴极而构成的有机EL元件，其中，所述电子注入层是通过将含有离子性聚合物的墨液涂布并使其成膜而形成的，所述阴极是通过将含有形成所述阴极的材料的墨液涂布并使其成膜而形成的，或者是通过对形成所述阴极的导电性薄膜进行转印而形成的。有机EL元件可作为例如照明装置的光源、显示装置的背光灯使用。以下，参照图1对本实施方式的有机EL元件进行说明。图1为示意地表示本实施方式的有机EL元件的截面图。本实施方式的有机EL元件在支撑基板上依次至少层叠阳极、发光层、电子注入层及阴极而构成。予以说明，有机EL元件，在阳极与阴极之间除了设置发光层及电子注入层之外，还可根据需要设置规定的层。例如空穴注入层、空穴输送层及电子输送层等被设置于阳极与阴极之间。图1中，作为一个示例，示出依次层叠支撑基板2、阳极3、空穴注入层4、发光层5、电子注入层6及阴极7而构成的有机EL元件I。有机EL元件通过依次层叠各构成要素而形成。本发明中，电子注入层通过涂布含有离子性聚合物的墨液并使其成膜来形成。另外，阴极通过将含有形成所述阴极的材料的墨液涂布并使其成膜而形成，或者通过对形成所述阴极的导电性薄膜进行转印而形成。
如后述的实验例中确认的那样，本实施方式中，通过涂布含有离子性聚合物的墨液并使其成膜在大气中形成电子注入层，并在其上进一步形成阴极，从而可得到发光的有机EL元件。即，即使在大气中形成电子注入层，也可得到具有电子注入层功能的层。予以说明，现有技术中，形成包含Ba、BaO及NaF等的电子注入层后，若将其暴露在大气中，则电子注入层立刻会发生劣化。进而，即使试图在劣化后的电子注入层上形成阴极，也无法期待能够得到发光的有机EL元件。本实施方式中，阴极通过涂布含有形成阴极的材料的墨液并使其成膜而形成，或者通过对形成所述阴极的导电性薄膜进行转印而形成。上述阴极的形成可在大气中进行。由此，根据本实施方式，除了可形成电子注入层以外，还可在没有导入真空气氛的情况下形成阴极，因此可使有机EL元件的制造工序简化。予以说明，后述的实验例中，阴极的形成虽然在真空气氛进行，但是在形成电子注入层之后，直至开始形成阴极的期间，电子注入层都被暴露在大气中。由此，根据本实施方式，即使在暴露于大气中的电子注入层上形成阴极，也可得到发光的有机EL元件。因此，即使用在大气中形成阴极的方法来代替在该实验例的真空气氛中形成阴极的方法，也可得到发光的有机EL元件。以下，参照图2，说明通过辊对辊法(以下，有时称为R2R法)制造有机EL元件的方法。在R2R法中，配置至少一对卷芯11、12。在一对卷芯11、12中，分别卷绕有带状的挠性膜。挠性膜从一个卷芯11向另一个卷芯12的换卷通过从一个卷芯11送出的挠性膜被另一个卷芯12卷取来进行。该挠性膜进行换卷时，分别层叠有机EL元件的各结构要素。在本实施方式中，首先，准备在表面预先形成有阴极的支撑基板。然后，使用卷绕有该支撑基板的卷芯11，从一个卷芯11送出的支撑基板向另一个卷芯12在水平方向移动(在图2中，支撑基板向右方移动。)。在支撑基板的移动中，在支撑基板的阳极上涂布含有形成空穴注入层的材料的墨液进行成膜，形成空穴注入层。从涂布装置13供给包含形成空穴注入层的材料的墨液。一旦形成空穴注入层，接下来，在空穴注入层上涂布包含成为发光层的材料的墨液进行成膜，形成发光层。从涂布装置14供给包含形成发光层的材料的墨液。一旦形成发光层，接下来，在发光层上涂布包含形成电子注入层的材料的墨液进行成膜，形成电子注入层。从涂布装置15供给包含形成电子注入层的材料的墨液。一旦形成电子注入层，接下来，在电子注入层上涂布包含形成阴极的材料的墨液进行成膜，形成阴极。从涂布装置16供给包含形成阴极的材料的墨液。通过以上工序，形成有机EL元件。一旦形成阴极，接下来支撑基板被另一个卷芯12卷取。以上的工序可以在大气中进行。例如，可以在洁净室制造有机EL元件。另外，根据需要，也可以在非活性气氛中进行上述工序。这样不需要导入真空气氛，就可以通过R2R法形成有机EL元件，因此可简便地形成有机EL元件。作为上述涂布装置13、14、15、16,可列举如棒涂装置、毛细管涂布装置、狭缝涂布装置、喷墨装置、喷涂装置、喷嘴涂布装置以及印刷装置等。本实施方式中使用多个涂布装置13、14、15、16，它们可以全部是相同种类的装置，或者也可以根据墨液的种类分别使用最适的涂布装置。
图2中显示了从支撑基板的竖直方向的上方，向支撑基板上涂布墨液进行成膜的方式，作为其他实施方式，也可以从支撑基板竖直方向的下方，向支撑基板上涂布墨液进行成膜。图2中显示了在水平方向(图2中为左右方向)传送支撑基板的方式，也可以在竖直方向、从水平方向向竖直方向倾斜的方向传送支撑基板。图2中仅显示了涂布装置13、14、15、16，根据需要可以进一步设置清扫装置、干燥装置、除电装置等。清扫装置在最开始向从一个卷芯11送出的支撑基板涂布墨液之前的工序中，进行支撑基板的清扫，例如将支撑基板的表面(即阴极表面)改性。清扫装置可以举出例如低压水银灯、准分子灯以及等离子体清洗装置等。能够使用例如以5_ 15_左右间隔配置的波长184.2nm的低压水银灯，通过将照射强度5 20mW/cm2的光照射到支撑基板来进行清扫。另外，在等离子体清洗装置中，能够优选使用例如大气压等离子体，利用含有I 5体积％氧的気气，以频率IOOkHz 150M Hz、电压IOV 10kV、照射距离5 20_的条件进行清扫。在通过各涂布装置13、14、15、16、17来分别涂布墨液之前，优选对支撑基板实施除电处理。这样通过除电处理，可以防止污溃附着、绝缘破坏等。因此，除电装置在涂布墨液之前的工序或在涂布墨液之后的工序中，配置在进行支撑基板的除电处理的位置。除电装置例如通过生成空气离子的除电器来实现。通过除电装置而生成的空气离子被拽至带电体来补充相反极性的电荷。由此可以中和静电。对于进行涂布而成膜的墨液，根据需要而通过干燥装置进行干燥。该干燥装置在涂布墨液之后的工序中被配置于实施干燥处理的位置。作为干燥装置，例如举出加热装置、光照射装置。另外，在墨液使用通过施加能量而聚合的材料的情况下，能够通过使用加热装置、光照射装置施加能量来得到构成薄膜的材料的至少一部交联了的薄膜。在各涂布装置13、14、15、16之间，也可以设置调整支撑基板的移动速度的速度调整单元。通过设置该速度调整单元，能够吸收各涂布装置13、14、15、16的涂布速度的差异。速度调整单元通过所谓的蓄能器来实现。在本实施方式中，说明了通过涂布法形成阴极的方法，但是也可以通过转印形成该阴极的导电性薄膜的方法来形成阴极。即，除了对包含形成阴极的材料的墨液进行涂布而成膜的涂布装置16 (参照图2)，也可以配置所谓的层叠装置，通过层叠法转印形成阴极的导电性薄膜来形成阴极。另外，虽然对本实施方式中通过R2R法形成有机EL元件的方法进行说明，但是也可例如以纸页方式形成有机EL元件。此时，首先在切割成规定尺寸的支撑基板上通过适宜公知的涂布法依次涂布有机EL元件的各构成要素并使其成膜，由此可形成有机EL元件。接着，对有机EL元件的层构成及各层的构成材料进行详细说明。如前所述，有机EL元件可采用各种层构成。有机EL元件包含一对电极、和在这些电极之间设置的多个有机层而构成。在本实施方式中，作为多个有机层，至少具有电子注入层和I层的发光层。另外，有机EL元件除了有机层以外，还可以包含含有无机物和有机物的层、无机物层等。构成有机层的有机物可以是低分子化合物，也可以是高分子化合物，另外也可以是低分子化合物和高分子化合物的混合物。有机层优选包含高分子化合物，优选包含聚苯乙烯换算的数均分子量为IO3 IO8的高分子化合物。作为在阴极和发光层之间设置的层，能够举出电子注入层、电子输送层、空穴阻挡层等。在阴极和发光层之间设置了电子注入层和电子输送层这两个层的情况下，接近阴极的层成为电子注入层，接近发光层的层成为电子输送层。作为在阳极和发光层之间设置的层，能够举出空穴注入层、空穴输送层、电子阻挡层等。在设置了空穴注入层和空穴输送层这两个层的情况下，接近阳极的层成为空穴注入层，接近发光层的层成为空穴输送层。以下示出能够适用于本发明的有机EL元件的有机EL元件的层结构的一个例子。这些之中，(b)相当于在图1示出的有机EL元件。(a)支撑基板/阳极/发光层/电子注入层/阴极(b)支撑基板/阳极/空穴注入层/发光层/电子注入层/阴极(c)支撑基板/阳极/空穴注入层/空穴输送层/发光层/电子注入层/阴极(d)支撑基板/阳极/空穴输送层/发光层/电子注入层/阴极(这里，标号“/”表示夹着标号“/”的各层相邻接而层叠。)<支撑基板>对于支撑基板，使用表现光透过性的基板，或者表现不透光性的基板。另外，在所谓的底部发射型的有机EL元件的情况下，支撑基板使用表现光透过性的基板。另外，在所谓的顶部发射型的有机EL元件的情况下，支撑基板，并不限于表现光透过性的基板，还能够使用表现不透光性的基板。在此，所谓底部发射型的有机EL元件是指从发光层发射的光依次透过阳极、支撑基板射出至外界型的元件。另外，顶部发射型的有机EL元件是指从发光层发射的光透过阴极而射出至外界型的元件。作为支撑基板，可根据有机EL元件的用途、制法适当选择使用表现挠性的基板，或者不表现挠性的基板。例如，如上所述地利用R2R法形成有机EL元件时，支撑基板可使用表现挠性的基板。作为支撑基板，可使用玻璃板、金属板、塑料、高分子膜、硅板以及层叠了这些的部件等。另外，对于玻璃板以及金属板，通过将其厚变薄，还能够作为表现挠性基板使用。〈阳极〉在底部发射型的有机EL元件的情况下，对于阳极，使用表现光透过性的电极。作为表现光透过性的电极，能够使用电传导度高的金属氧化物、金属硫化物以及金属等薄膜，优选使用光透过率高的薄膜。例如使用由氧化铟、氧化锌、氧化锡、铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、金、钼、银、以及铜等形成的薄膜。在这些当中，优选使用由ITO、IZO或者氧化锡形成的薄膜。作为在支撑基板上制作阳极的方法，能够举出真空蒸镀法、溅射法、离子电镀法、镀敷法等。另外，作为阳极，也能够使用聚苯胺或者其衍生物、聚噻吩或者其衍生物等有机的透明导电膜。作为阳极，特别优选与包含导电性填料的阳极不同的阳极、即优选不包含导电性填料的阳极。例如，构成该阳极的材料优选针对所述阳极整体而言实质上均匀地成膜而成的平坦的阳极。例如，优选将上述阳极的材料通过真空蒸镀法、溅射法、离子电镀法以及镀敷法等成膜而成的阳极、或者通过涂布法将溶解或分散了导电性高分子的涂布液成膜而成的阳极。作为此类导电性高分子，可以举出例如聚苯胺或者其衍生物、聚噻吩或者其衍生物等
另外，在顶部发射型的有机EL元件的情况下，对于阳极，还能够使用反射光的材料，作为这样的材料，优选功函数3.0eV以上的金属、金属氧化物、金属硫化物。能够考虑光的透过性以及电阻等来适当选择阳极的膜厚。例如为IOnm 10 μ m，优选为20nm I μ m,更优选为50nm 500nm。<空穴注入层>作为构成空穴注入层的空穴注入材料，能够举出氧化钒、氧化钥、氧化钌以及氧化铝等氧化物，苯胺系、星爆型胺系、酞菁系、非晶碳、聚苯胺以及聚噻吩衍生物等。作为空穴注入层的形成方法，例如能够举出使用包含空穴注入材料的溶液而进行成膜的方法。作为使用了该溶液的成膜中使用的溶液的溶剂，只要是使空穴注入材料溶解的溶剂就没有特别的限定。可列举如氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等氯系溶剂，四氢呋喃等醚系溶剂，甲苯、二甲苯等芳香族烃系溶剂，丙酮、甲基乙基酮等酮系溶剂，乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙基溶纤剂乙酸酯等酯系溶剂、以及水。空穴注入层的膜厚，可以考虑电特性、成膜的容易性等来适当设定，例如为Inm Iym,优选为2nm 500nm,更优选为5nm 200nm。<空穴输送层>作为构成空穴输送层的空穴输送材料，可列举如聚乙烯咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、在侧链或主链具有芳香族胺的聚硅氧烷衍生物、吡唑啉衍生物、芳基胺衍生物、芪衍生物、三苯基二胺衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、多芳基胺或其衍生物、聚吡咯或其衍生物、聚(P-苯乙炔)或其衍生物、或者聚(2，5-噻吩乙炔)或其衍生物等。其中，作为空穴输送材料，优选聚乙烯咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、在侧链或主链具有芳香族胺化合物基的聚硅氧烷衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、多芳基胺或其衍生物、聚(P-苯乙炔)或其衍生物、或者聚(2，5-噻吩乙炔)或其衍生物等高分子空穴输送材料，更优选为聚乙烯咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、在侧链或主链具有芳香族胺的聚硅氧烷衍生物。对于空穴输送材料为低分子的情况下，优选使其分散到高分子粘合剂中来使用。作为空穴输送层的形成方法，没有特别限定，可列举如通过利用了溶液的成膜的方法。作为利用了溶液的成膜中使用的溶液的溶剂，只要为使空穴输送材料溶解的溶剂就没有特别限定，可以使用在使用溶液使空穴注入层成膜时使用的溶液的溶剂而示例的溶剂。作为在空穴输送材料中混合的高分子粘合剂，优选不极度损害电荷输送的粘合齐U，另外优选使用对可见光的吸收弱的粘合剂，例如聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酰甲酯、聚苯乙烯、聚氯化乙烯、聚硅氧烷等。对于空穴输送层的膜厚而言，考虑电特性、成膜的容易性等来适当设定。例如为Inm I μ m,优选为2nm 500nm,更优选为5nm 200nm。<发光层>发光层主要由发出荧光及/或磷光的有机物合构成，或者由这些有机物与辅助其的掺杂剂构成。掺杂剂是为了例如提高发光效率、改变发光波长而添加的。另外，有机物可以是低分子化合物也可以是高分子化合物，发光层优选含有聚苯乙烯换算的数均分子量为IO3 IO8的高分子化合物。作为构成发光层的发光材料，可列举如以下的色素系材料、金属络合物系材料、高分子系材料、掺杂剂材料。(色素系材料)作为色素系材料，可列举如环戊胺衍生物、四苯基丁二烯衍生物化合物、三苯胺衍生物、1I惡二唑衍生物、卩比唑喹啉衍生物、联苯乙烯苯衍生物、联苯乙烯芳(di styryIaryIene)衍生物、吡咯衍生物、噻吩环化合物、吡啶环化合物、紫环酮衍生物、茈衍生物、低聚噻吩衍生物、噁二唑二聚物、吡唑啉二聚物、喹吖啶酮衍生物、香豆素衍生物等。(金属络合物系材料)作为金属络合物系材料，可列举如下的金属络合物:在中心金属具有Tb、Eu、Dy等稀土类金属，或者Al、Zn、Be、Ir、Pt等，在配体具有噁二唑、噻二唑、苯基吡啶、苯基苯并咪唑、喹啉结构的金属络合物。可列举如铱络合物、钼络合物等具有来自三重激发状态的发光的金属络合物，喹啉铝络合物，苯并喹啉铍络合物，苯并噁唑锌络合物，苯并噻唑锌络合物，偶氮甲基锌络合物，卟啉锌络合物、菲咯啉铕络合物等。(高分子系材料)作为高分子系材料，可列举如聚对苯乙烯衍生物、聚噻吩衍生物、聚对苯衍生物、聚硅烷衍生物、聚乙炔衍生物、聚芴衍生物、聚乙烯咔唑衍生物，将上述色素系材料、金属络合物系发光材料高分子化后的材料等。上述发光性材料中，作为发出青色光的材料，可列举如联苯乙烯芳衍生物、噁二唑衍生物、以及它们的聚合物、聚乙烯咔唑衍生物、聚对苯衍生物、聚芴衍生物等。其中，优选高分子材料的聚乙烯咔唑衍生物、聚对苯衍生物、聚芴衍生物等。另外，作为发出绿色光的材料，可列举如喹吖啶酮衍生物、香豆素衍生物、以及它们的聚合物、聚对苯乙烯衍生物、聚芴衍生物等。其中，优选高分子材料的聚对苯乙烯衍生物、聚芴衍生物等。另外，作为发出红色光的材料，可列举如香豆素衍生物、噻吩环化合物、以及它们的聚合物、聚对苯乙烯衍生物、聚噻吩衍生物、聚芴衍生物等。其中，优选高分子材料的聚对苯乙烯衍生物、聚噻吩衍生物、聚芴衍生物等。(掺杂剂材料)作为掺杂剂材料，可列举如茈衍生物、香豆素衍生物、红荧烯衍生物、喹吖啶酮衍生物、方鎗衍生物、卟啉衍生物、苯乙烯系色素、丁省衍生物、吡唑啉酮衍生物、十环烯、吩噁酮(phenoxazone)等。另外,这样的发光层的厚度优选约2nm 200nm。作为发光材料的成膜方法，没有特别的限定，可以举出由溶液进行成膜的方法。作为制膜装置，如上所述，可以使用棒涂装置、毛细管涂布装置、狭缝涂布装置、喷墨装置、喷涂装置、喷嘴涂布装置以及印刷装置等。<电子输送层>作为构成电子输送层的电子输送材料，可以使用公知的材料，可列举如噁二唑衍生物、蒽醌二甲烧(anthraquinodimethane)或其衍生物、苯醌或其衍生物、萘醌或其衍生物、蒽醌或其衍生物、四氰基蒽醌二甲烷或其衍生物、芴酮衍生物、二苯基二氰基乙烯或其衍生物、二苯基醌衍生物、或者8-羟基喹啉或其衍生物的金属络合物、聚喹啉或其衍生物、聚喹喔啉或其衍生物、聚芴或其衍生物等。其中，作为电子输送材料，优选噁二唑衍生物、苯醌或其衍生物、蒽醌或其衍生物、或者8-羟基喹啉或其衍生物的金属络合物、聚喹啉或其衍生物、聚喹喔啉或其衍生物、聚芴或其衍生物，更优选2-(4-联苯基)-5-(4-t- 丁基苯基)-l，3，4-噁二唑、苯醌、蒽醌、三(8-喹啉合)铝、聚喹啉。作为电子输送层的成膜法可列举使用溶液的成膜。对于电子输送层的膜厚而言，考虑电特性、成膜的容易性等来适当设定。例如为Inm I μ m,优选为2nm 500nm,更优选为5nm 200nm。<电子注入层>电子注入层含有离子性聚合物。作为构成电子注入层的离子性聚合物，可列举如具有如下结构单元的聚合物，所述结构单元含有选自式(I)所示基团及式(2)所示基团的I种以上的基团。作为离子性聚合物的一个实施方式，可列举如下的聚合物:在全部结构单元中，具有15 100摩尔％的含有选自式(I)所示基团及式(2)所示基团的I种以上的基团的结构单元。这些基团可以直接结合到构成离子性聚合物的主链，也可以结合到与主链结合的取代基上。-(Q1)nl-Y1 (M1)al (Z1)bl (I)(式(I)中、Q1表示 2 价的有机基，Y1 表示-C02_、-S03_、-SO2'呼032_或-B (Ra) 3，M1表示金属阳离子或者具有取代 基或不具有取代基的铵阳离子，Z1表示F—、Cl—、Br—、Γ、0H_、RaSO3' RaCOO' CIO' ClO2' ClO3' ClO4' SCN' CN'NO3' SO42' HSO4'PO43'HPO42'H2PO4' BF4-或PF6-, nl表示O以上的整数，al表示I以上的整数，bl表示O以上的整数。其中，以式(I)所示基团的电荷为O的方式来选择al及bl，Ra表示具有取代基或者不具有取代基的碳原子数I 30的烷基，或者具有取代基或不具有取代基的碳原子数6 50的芳基，Q1、M1及Z1分别为多个的情况下，它们可以相同也可以不同。)-(Q2)n2-Y2(M2)a2(Z2)b2 (2)(式⑵中、Q2表示2价的有机基，Y2表示碳正离子、铵阳离子、膦酰阳离子(phosphonyl cation)或磺酰阳离子(sulfonyl cation)或碘鐵阳离子，M2表示F' Cl'Br' Γ、OH' RbSO3' RbCOO' CIO' ClO2' ClO3' ClO4' SCN' CN' NO3' SO42' HSO4' PO43' HPO42'H2PO4' BF4^或PF6_，Z2表示金属阳离子，或者具有取代基或不具有取代基的铵阳离子，n2表示O以上的整数，a2表示I以上的整数，b2表示O以上的整数。以使式(2)所示基团的电荷成为O的方式来选择a2及b2，Rb表示具有取代基或不具有取代基的碳原子数I 30的烷基，或者具有取代基或不具有取代基的碳原子数6 50的芳基，在Q2、M2及Z2分别具有多个的情况下，可以相同也可以不同。)作为本实施方式中使用的离子性聚合物的一个实施方式，例如还具有式(3)所示基团的聚合物。离子性聚合物具有式(3)所示基团的情况下，式(3)所示基团可以包含于离子性聚合物的结构单元中，可以包含于与含有选自式(I)所示基团及式(2)所示基团中的一种以上基团的结构单元相同的的结构单元内，也可以包含于与其不同的其他的结构单元内。再者，作为离子性聚合物的一个实施方式，可列举如在全部结构单元中，具有15 100摩尔％的如下结构单元的聚合物，该结构单元含有选自式(I)所示基团、式(2)所示基团及式⑶所示基团中的至少I种。
权利要求
1.一种有机EL元件，其依次具有支撑基板、阳极、发光层、电子注入层及阴极，其中， 所述电子注入层是通过涂布含有离子性聚合物的墨液进行成膜而形成的， 所述阴极是通过涂布含有将成为所述阴极的材料的墨液进行成膜而形成的，或者是通过对将成为所述阴极的导电性薄膜进行转印而形成的。
2.根据权利要求1所述的有机EL元件，其中， 所述阴极包含导电性填料。
3.一种有机EL元件的制造方法，其是依次具有支撑基板、阳极、发光层、电子注入层及阴极的有机EL元件的制造方法,包括: 通过涂布含有离子性聚合物的墨液进行成膜来形成电子注入层的工序；及通过在电子注入层上转印导电性薄膜来形成阴极，或者通过于电子注入层涂布含有将成为阴极的材料的墨液进行成膜来形成阴极的工序。
4.根据权利要求3所述的有机EL元件的制造方法，其中， 通过辊对辊法形成电子注入层及阴极。
全文摘要
本发明的目的在于在常压程度的气氛中使用比较稳定的新型的电子注入材料形成的有机EL元件。优选实施方式的有机EL元件依次具有支撑基板、阳极、发光层、电子注入层及阴极，其中，所述电子注入层是通过将含有离子性聚合物的墨液涂布并使其成膜而形成的，所述阴极是通过将含有形成所述阴极的材料的墨液涂布并使其成膜而形成的，或者是通过对形成所述阴极的导电性薄膜进行转印而形成的。
文档编号H05B33/26GK103119744SQ20118004521
公开日2013年5月22日 申请日期2011年7月20日 优先权日2010年7月21日
发明者美马祥司, 小野善伸 申请人:住友化学株式会社