技术特征：
技术总结
本发明提供一种双轴取向聚酯膜，所述双轴取向聚酯膜适于作为支撑膜使用，所述支撑膜在将电磁波屏蔽膜等转印膜转印至FPC或模块等构件时，可向表面赋予良好的消光外观，并且转印后的支撑膜剥离性优异。即，本发明的可通过下述的双轴取向聚酯膜实现，所述双轴取向聚酯膜是具有基材层和含有粒子的消光层的层叠聚酯膜，其中，消光层表面的中心线平均粗糙度为400～1000nm，十点平均粗糙度为4000～8000nm，该表面的光泽度（G60）为6～20，并且，表面的突起的破孔率为20%以下。
技术研发人员：森本晋太;渡边真哉
受保护的技术使用者：帝人薄膜解决有限公司
技术研发日：2015.10.30
技术公布日：2017.08.18