一种柔性制版机真空曝光装置的制作方法

本实用新型涉及制版机设备技术领域，尤其涉及一种柔性制版机真空曝光装置。

背景技术：

印刷行业对我国国民经济有着重要的影响行业，制版印刷技术在我国已经有两千年的悠久历史了，最早采用的是凸字刻板及活字印刷，目前印刷行业的出版方式有很多种，现在基本采用的是机器制版。

一般的柔性制版机的曝光装置只是简单的对版材进行曝光，但是将印版在空气中曝光会导致空气对印版的感光聚合造成不良影响，后来人们将曝光进行覆膜后进行曝光，但是覆膜机构较为简单，不能根据情况进行调节，适应性较差，且不具有将薄膜回收的功能，浪费了资源，也对环境造成污染。

技术实现要素：

为解决上述问题，本实用新型提供覆膜效率高，能调节覆膜机构使其覆膜效果更好，且具有薄膜回收功能的一种柔性制版机真空曝光装置。

本实用新型所采用的技术方案是：一种柔性制版机真空曝光装置，包括

机架；

进料机构，包括用于放置版材的进料平台和用于移动版材的输送辊；

覆膜机构，用于将真空膜覆盖在版材上，包括覆膜辊、用于安装薄膜的送料辊、改变薄膜移动方向的导膜杆和用于调节覆膜辊的微调单元；

曝光灯组件，用于对版材进行曝光，包括曝光灯、与曝光灯电连接的电子镇流器；

剥离机构，用于对曝光后的版材表面的薄膜进行剥离，包括剥离辊、用于使剥离辊贴合版材的弹性元件；

所述进料机构、覆膜机构、曝光灯组件和剥离机构均安装于机架上，沿着进料平台的进料方向依次设置覆膜机构、曝光灯组件和剥离机构。

本技术方案的进一步改进为，所述微调单元包括支架、滑块和丝杆，所述支架安装于机架，支架开设有安装孔，所述滑块滑设于安装孔内，所述丝杆与滑块螺纹连接，所述覆膜辊与滑块连接。

本技术方案的进一步改进为，还包括回收辊，所述回收辊设置于剥离机构上方。

本技术方案的进一步改进为，所述剥离辊表面设置有若干个吸气孔，所述若干个吸气孔连接有抽真空机。

本技术方案的进一步改进为，所述覆膜辊内安装有加热器。

本实用新型的有益效果为:

本实用新型结构简单，能对版材在曝光前进行覆膜，使版材在曝光的过程中不受到空气的影响，提高曝光的稳定性，提高生产版材的质量，曝光后进行揭膜，无须人工揭膜，生产效率更快，且覆膜机构包括有微调单元，能对覆膜辊进行调节，使其始终保持与版材贴合，保证覆膜过程将薄膜与版材之间的空气排出，提高了覆膜的质量。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型微调单元的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型作进一步的说明。

如图1～2所示，一种柔性制版机真空曝光装置，包括机架1、进料机构2、覆膜机构3、曝光灯41组件和剥离机构5，进料机构2、覆膜机构3、曝光灯41组件和剥离机构5均安装于机架1上，沿着进料平台11的进料方向依次设置覆膜机构3、曝光灯41组件和剥离机构5。本实用新型结构简单，能对版材在曝光前进行覆膜，使版材在曝光的过程中不受到空气的影响，提高曝光的稳定性，提高生产版材的质量，曝光后进行揭膜，无须人工揭膜，生产效率更快，且覆膜机构3包括有微调单元34，能对覆膜辊31进行调节，使其始终保持与版材贴合，保证覆膜过程将薄膜与版材之间的空气排出，提高了覆膜的质量。

进料机构2，包括用于放置版材的进料平台11和用于移动版材的输送辊12；

覆膜机构3，用于将真空膜覆盖在版材上，包括覆膜辊31、用于安装薄膜的送料辊32、改变薄膜移动方向的导膜杆33和用于调节覆膜辊31的微调单元34；

曝光灯组件4，用于对版材进行曝光，包括曝光灯41、与曝光灯41电连接的电子镇流器42；

剥离机构5，用于对曝光后的版材表面的薄膜进行剥离，包括剥离辊51、用于使剥离辊51贴合版材的弹性元件52；

微调单元34包括支架341、滑块342和丝杆343，支架341安装于机架1，支架341开设有安装孔，滑块342滑设于安装孔内，丝杆343与滑块342螺纹连接，覆膜辊31与滑块342连接，通过转动丝杆343带动滑块342运动，使连接于滑块342的覆膜辊31的辊面与版材平面相切，提高覆膜质量，从而提高曝光的稳定性。

还包括回收辊6，回收辊6设置于剥离机构5上方，将剥离后的薄膜进行回收，有利于节约资源，防止资源浪费，同时防止未回收的薄膜造成环境污染。

剥离辊51表面设置有若干个吸气孔，若干个吸气孔连接有抽真空机，结构简单，能有效使薄膜脱离版材，同时不会对薄膜造成损伤，剥离后的薄膜仍可回收利用，提高资源利用率。

覆膜辊31内安装有加热器，使薄膜能粘合在版材上，进一步提高薄膜与版材的贴合度，排出薄膜与版材之间的空气，提高曝光稳定性。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。