专利名称：研磨机的出料的制作方法
技术领域：
本公开说明涉及从研磨机例如离心研磨机中将研磨后的颗粒进行排出。
背景技术：
离心研磨机用于对例如矿石的固体颗粒进行磨碎。与滚磨机(其受重力加速度限制)相比，离心研磨机由于回转运动而为研磨机容纳物提供了离心加速度，大大提高了磨碎率。研磨机容纳物最终的较高速度更易于在排出时导致堵塞。
发明内容
在本公开说明中，首先提供了一种安装在研磨机室排出通道上的筛构件。所述排出通道在使用中定位成接收沿排出方向移动到其中的研磨后的颗粒。所述筛构件包括一个或多个限定在其上的开口，该开口的取向设置为使研磨后的颗粒沿相对于排出方向倾斜的方向从其中通过。
术语“倾斜的”或“倾斜地”在这里解释为包括以下情况研磨后的颗粒可沿相对于排出方向垂直的方向穿过一个或多个开口。
通过将一个或多个开口以一种与通道成倾斜方向的方式取向，可观察到可更好地便于研磨后的颗粒(即对研磨机进料研磨的结果)的排出，可减轻、改善或避免排出通道中的开口被例如研磨介质以及/或者过大的进料颗粒堵塞。此后，出现在排出通道内的任何研磨介质或者任何过大尺寸的进料颗粒将统一地称为“粗颗粒”。
在一个实施例中，一个或多个开口本身均相对于排出方向倾斜取向。
在另一个实施例中，筛构件的开口的尺寸加工成防止粗颗粒(包括研磨介质)从通道中被排出，而研磨后的颗粒允许从通道中排出。术语“磨细了的颗粒”指具有预定尺寸的颗粒，使其可用于随后使用以及/或者进一步分类。该预定尺寸可通过控制筛构件的开口的尺寸来调整。
在一个实施例中，筛构件上设置有多个开口。
在一个实施例中，所述筛构件包括至少一个可安装在排出通道上的环形板，而一排出通道支承板安装成与最远离所述室的环形板相邻但与其间隔开。一筛构件开口可限定在支承板和相邻环形板之间，以及/或者限定在所述室和与其相邻的环形板之间。在这个实施例中，多个环形板彼此相邻安装但彼此间隔开以在其间限定多个开口。另外，每个支承板和环形板大致是薄板状的。
在这个实施例中，为了限定支承板和所述室之间的筛构件，一个或多个环形板和支承板由一个或多个固定构件紧固在一起。一个或多个固定构件有效地夹紧一个或多个在支承板和研磨室壁之间的环形板组件，而所述支承板定位成相邻并且夹紧到最远离研磨室壁的环形板上。
例如，每个固定构件包括一个长形销或螺栓，其延伸通过一个或多个环形板以及所述支承板上的相应对准的孔，而每个销或螺栓的近端(例如头部)容纳在支承板上，并且每个销或螺栓的远端安装成容纳在与排出通道相邻的研磨机室外壁上。在这个方面，每个销或螺栓的远端制有外螺纹，以接合在与排出通道相邻的所述室壁上的相应螺纹凹部内。所述或每个固定构件可替换地包括夹具等等。
在这个实施例中，通过一个或多个相应间隔件——其在相邻环形板之间，以及/或者所述支承板和与其相邻的环形板之间，以及/或者所述室和与其相邻的环形板之间限定了一个或多个筛构件开口——一个或多个环形板彼此间隔，以及/或者所述支承板和与其相邻的环形板彼此间隔开。
在这个实施例中，所述间隔件与每个板一体地形成。在另一实施例中，一个或多个间隔件是在一个或多个环形板之间的空间内以及绕着一个或多个环形板的周边分离设置的多个垫圈。在这个方面，为了更便于间隔件的定位，每个间隔件(例如每个垫圈)定位在相应的长形销或螺栓上。然后每个间隔件夹紧在相邻板之间。
因此筛构件的长度可由环形板的数量以及/或者所述支承板和室壁之间的间隔件大小而确定。例如，间隔件加工成使其厚度规则地或不规则地改变，以对所述或每个筛构件开口大小的改变进行控制。
作为另一个变体，多个环形板构造成使其内径规则地或不规则地变化。例如，从所述室向外，多个环形板的内径逐步的减小，这可为筛模块的内通道提供一个斜坡，并且这个斜坡往往使得粗颗粒被迫回到研磨室内。
因此，可以实现筛构件内通道的多种形状，而选择这些形状以使研磨后的细颗粒最大程度地排出，并且使得粗颗粒最大程度地返回到研磨室。
另外，所述或每个环形板可由弹性或柔性材料形成，该材料在撞击的作用下会变形或弯曲，因此使得粗颗粒弹回到研磨室内。可变形或柔性环形板也能够在不拆卸筛构件的情况下实现堵塞的清除。
可选地或者另外地，间隔件以及/或者固定构件(例如螺栓或销)可由弹性或柔性材料形成，该材料在撞击的作用下引起变形或弯曲，又会使得粗颗粒弹回到研磨室内，并且能够在不拆卸的情况下实现堵塞的清除。
另外，在所述或每个环形板由弹性或柔性材料形成的情况下，所述板可根据由于研磨室在使用中的运动而施加在这些板上的动力变形或弯曲。这会引起所述或每个环形板上的振动效应，这有助于研磨后的颗粒运送通过筛构件的开口。此外，振动作用可阻止或防止个别粗颗粒陷入筛构件的开口，从而防止堵塞。
当采用多个环形板时，筛构件因此限定了一种具有一组开口的筛子，其中每个开口的取向设置成相对于排出方向倾斜。
可选地，支承板上可限定有一筛子，从而提供一个或多个其它开口。其它开口的取向设置成与横向方向倾斜或不倾斜。例如，其它开口可包括多个延伸通过支承板的管状开口。在任何情况下，在这个实施例中，一个或多个其它开口的尺寸使得研磨后的颗粒可从中释放但粗颗粒却不能。
在支承板上设置有另外的开口的情况下，这些开口可选择地构造成使得预定比例的沿大致平行于排出通道的延长轴线的方向移动的研磨后的颗粒通过排出通道而排出。在这个方面，附加的开口可用于允许一些沿排出方向移动的研磨后的颗粒排出。
例如，当研磨室具有一纵向轴线时，排出方向表示为相对于使用中所述室的轴线倾斜或大致垂直的向量。在另一实施例中，研磨室具有对称的纵向轴线，并且排出方向相对于使用中的这个对称轴线大致倾斜或垂直。
另外，所述或每个筛构件开口的取向设置成使得研磨后的颗粒相对于排出方向向量而倾斜地(例如垂直地)从中通过。例如，在排出通道限定有一个从中穿过的延伸轴线的情况下，排出方向向量一般与该轴线对齐，并且研磨后的颗粒沿与排出通道的延伸轴线倾斜(例如垂直)的方向穿过所述或每个筛构件开口。
此外，在排出通道限定有一延伸轴线的情况下，所述或每个环形板与支承板沿延伸轴线间隔开，以限定一组圆筒状的、关于延伸轴线对称的环形筛构件开口。
再次，在排出通道限定有一延伸轴线的情况下，环形板的径向厚度沿排出通道的延伸轴线向外而逐渐减小，因此，随着从排出通道的延伸轴线向往移动，筛构件开口的横向尺寸增大。
在一个实施例中，所述或每个排出通道的延伸轴线大致与研磨室的壁垂直。
其次在本公开说明中，提供了一个包括一个或多个如上限定的筛构件的研磨机。所述研磨机可为一离心研磨机，例如下面限定的离心研磨机。
第三，在本公开说明中还提供了一种研磨机，其包括一个研磨室；一个用于支撑研磨室的支撑件；一个与所述研磨室相通的进料通道，用于将待研磨的进料导入所述室内；至少一个排出通道，用于容纳沿排出方向而从研磨室来的进料颗粒，并且用于从其中排出该颗粒；一个驱动装置，其耦联为驱动研磨室，使得所述室内的任何研磨介质以及/或者进料来研磨进料并且产生磨细的进料颗粒；以及至少一个安装在排出通道上的相应的筛构件，所述筛构件包括一个或多个限定在其上的开口，该开口的取向设置成使得磨细了的进料颗粒沿相对于排出方向倾斜的方向从中通过。
所述一个或多个筛构件构造成如上限定的那样。此外，所述或多个筛构件安装在研磨室的外部并且绕排出通道的纵向轴线设置。所述一个或多个筛构件也构造成允许至少50％的研磨后的细颗粒沿大致垂直于排出通道轴线的方向从所述室中排出。
在一个实施例中，所述研磨机是一离心研磨机，并且所述研磨室具有纵向对称轴线。此外，所述研磨室安装到所述支撑件，使得当受到驱动时，该对称轴线绕关于研磨机相对固定的轴线进行章动运动，而两轴线相交于章动对成点。在这个实施例中，研磨室的轴线相对于所述室的转动轴线倾斜并与之相交，以进行章动运动。
在该说明书中，一机器构件相对于固定框架的章动运动定义为所述构件的轴线绕固定框架的固定轴线进行的运动，使得该轴线与一个圆锥表面相交并且描绘出该圆锥表面。在通常的情况下，章动构件具有相对于固定框架绕其轴线的净转动运动。章动运动的特殊情况是，章动构件绕其自身轴线的净转动运动。如下面描述的，这个特殊情况可以通过采用一转矩限制装置而实现。
在一个实施例中，研磨室包括一个约束装置，其具有与支撑件上的互补相对轴承表面接合的环形轴承表面。相对的轴承表面是关于章动对称点对称的，并且限制了章动运动的幅度。
在另一实施例中，所述驱动装置包括一个驱动轴杆，其具有一个大致与章动运动的固定轴线共线的轴线，而驱动轴杆的近端由一个与之连接的传动单元驱动。所述驱动轴杆设置有一个安装在其远端并且位于邻近研磨室的悬臂偏心短轴杆。所述短轴杆具有与研磨室的对称轴线大致共线的轴线。所述偏心短轴杆通过一个中间轴承构件而与研磨室接合，该中间轴承构件适于允许绕短轴杆和研磨室的所述室轴线进行相对转动运动。
第四，本公开说明提供了从研磨机室中排出颗粒的方法，颗粒最初从所述室中沿排出方向排出，该方法包括以下步骤当颗粒从所述室被排出时，将颗粒的方向该变成朝相对于排出方向倾斜的方向，并且然后排出颗粒。
在该方法中，通过将一个筛构件定位成邻近于颗粒开始从所述室中排出的位置，可改变颗粒的方向。所述筛构件适于容纳被排出的颗粒并且可以是一个如以上限定的构件。在该方法中，所述研磨机室构成了一种如上所述的研磨机的一部分。
现在将仅通过示例且参照附图对包括筛构件的离心研磨机进行描述，附图中图1和图2是两个公知的离心研磨机装置的示意性剖面视图；图3是根据第一实施例的一种离心研磨机的剖面视图；图4是图3中研磨机的约束和限制装置的一放大局部视图；图5是研磨室的一放大剖面视图，示出了一个适于从所述室中对最终产品进行排出的筛模块；
图6是通过筛模块的纵轴的放大剖面图；图7是图6中示出了筛模块在一个垂直于纵轴的平面——如截面X-X指示的平面上获得的截面图。
具体实施例方式
首先参考图1和图2，示出了两个公知的离心研磨机的剖面图。如下面描述的筛构件可用于图1和图2中描绘的任何一种研磨机，也可以用于其它研磨机装置。
图1和图2各示出了一个具有对称轴线102的研磨室104，其绕一固定轴线101转动，并且与之相交于章动对称点103。通过互补环形轴承表面对109和111以及108和110的接合，而所述轴承表面对一起形成了关于章动对称点103对称的轴承，该室被限制而进行章动运动。该轴承限制了章动运动的幅度。
典型形式为干燥粗颗粒物料131或悬浮于液体中的粗颗粒或为这些可选物组合的进料通过进料通道105而加入研磨室内，并且将细(精细)颗粒产品通过开口106从研磨室的相对端进行排出。如下面描述的筛构件装置用于任一开口106。
图1中示出的实施例中，研磨室104由多个活塞159驱动而绕固定轴线101进行章动运动，该多个活塞以一定的相序被驱动并且抵靠大致位于章动对称点103处的研磨室的凸缘延伸部。在图2示出的实施例中，研磨室由驱动轴杆114驱动而进行章动运动，该驱动轴杆一端耦联到电动马达115，并且通过连接到另一端的一偏心短轴杆119而与所述室104的端部接合。
通过将研磨室连接到所述支撑件的转矩限制装置，防止了研磨室绕其对称轴线的转动。例如，适当的相对齿轮板可设置在轴承表面108、110之间以及109、111之间，相对齿轮板啮合在一起，因此防止这样的转动。下面参考图4对这样一种装置进行描述。
通常，由所述的研磨机，粗的、中等粒度的产品需要使用研磨介质132。这个介质的典型尺寸是从5mm到20mm的球形(或有效)直径，其通常比所述室104壁上的排出通道106的尺寸大。因此研磨介质的颗粒与未磨过的或部分磨过的进料一起容纳在所述室内，并且仅有磨细了的进料物料颗粒、或磨损了的或小的研磨介质——其尺寸小于开口106——可以从所述室中排出。
很精细的产品——典型地有80％的产品小于40微米——的生产需要使用相应的精细研磨介质——其球形(或有效)直径通常为1到5mm——以消耗最少的能量。在研磨室104的周边上使用相对较小的排出通道106是不可行的。已发现用于离心研磨机——例如图1和图2中示出的那些研磨机——的公知排出通道不适合生产很精细的产品。例如，随着排出通道的尺寸减小，与排出通道的尺寸相反，被过大颗粒堵塞的可能性增大了。此外，作用在研磨室的内表面上的极高表面压力与极小的排出开口的结构或磨损要求不相兼容。
现在将参考图3到图7对有利的筛构件装置进行描述，其可应对堵塞、过压、小研磨介质等引起的问题，并且提供非常精细的产物。
图3示出了一个包括竖直旋转轴线1(即固定轴线)的离心研磨机。章动轴线2与轴线1相交于章动对称点3。一个关于轴线2对称的研磨室4在其上端与一进料通道5连接。进料通道5与研磨室内表面的上端部分相交，并且该相交限定了一个平面，该平面又限定了研磨室的上边界，这个边界位于章动对称点3的下方。
研磨室排出通道28延伸通过研磨室的周壁，并且每个通道具有一个筛构件装置，其以一筛模块35的形式安装到研磨室的外壁上并且邻近于所述通道。如下面描述的，每个模块35具有用于对细粒产物进行排出的排出开口6。
一个用于研磨室的支撑件包括一个或多个框架构件7，其适于支撑研磨机并且将研磨机产生的力和力矩传送到适当的底座。为了限定研磨室章动运动的形式，提供了如下形式的约束在相应的固定轴承表面10和11上滚动的环形章动轴承表面8和9，以及其中心分别与章动对称点3重合的章动和固定的半球形表面12和13。
一个驱动装置位于研磨室的下方，该驱动装置包括一个驱动轴杆14，该驱动轴杆14适于在其下端由电动马达15(或其它动力传送装置)通过一挠性传动联轴器16而被驱动。驱动轴杆14在其上端和下端分别由轴承17和18支撑，所述轴承安装在支撑壳体22内，该支撑壳体又安装到框架构件7上。驱动轴杆14连接到一偏心短轴杆19，该短轴杆的上端安装到研磨室4的底面。在这方面，通过所述短轴杆的上端与轴承21的接合，所述短轴杆的轴线20保持为与研磨室的章动轴线2重合，该轴承安装在研磨室4的下端。
如图4中最佳示出的，通过绕章动对称点3设置的相互啮合的锥齿轮29和30，限制了研磨室4绕竖直轴线1的转动。固定到研磨室4上的齿轮30作章动运动，并且与固定齿轮29接合以将扭矩从研磨室传递到固定框架7，并限制了该扭矩。
虽然在图3、5和6中示出的实施例中可以采用单一室的结构，研磨室4是包括上壳体构件23和24以及下室构件25的多个部件的组件，这些构件通过紧固件(例如螺栓)而固定在一起。上、下壳体构件23、24和25设置有内可更换衬垫26、27和46，其适于紧密地装配在壳体构件内，并且保护它们不受研磨介质、进料颗粒等的磨损。
另外，下室构件25本身是包括一外金属结构壳体33的复合构件，一弹性材料模制到该金属结构壳体上并且粘附结合在其上以形成一薄内层34。结构壳体33一般由薄壁金属形成，并且是关于轴线2对称的。所述壳体从其上边缘的大致圆柱体形状到其下端的垂直于轴线2的大致圆形平面形状具有均匀的截面形状过渡。由于壳体33的薄壁以及其制造方法，该构件的轮廓具有较高的制造公差。然后模制的弹性内层34紧密结合到构件33上，并且提供了准确的内表面轮廓47以与可更换的室内部衬垫46均匀接合。
构件23、24和25是结构构件，其需要承受和传递由研磨室容纳物32的反作用导致的静载荷和动载荷、驱动载荷、以及由于章动运动导致的惯性载荷。另一方面，衬垫26、27和46是非结构构件，而选择为抵抗磨损，以及保护结构壳体构件23、24和25免遭磨损，并且提供吸收冲击的功能。
现在参考图6和图7，示出了排出通道28和筛模块35的剖面图。筛模块35安装到研磨室4的外壁上，并且接合在研磨壁上的开口40内。通常，该模块构造成使其纵向轴线与排出通道28的轴线重合。在研磨室4的每个排出通道28均安装有一个筛模块35。
筛模块35包括管形的插入件36，其形状适于密合地定位在开口40内。插入件36的长度使得其从研磨室4的外壁突出出来，以提供一个由衬垫构件46至所述室的外部的直线形的排出通道。
定位成顺次邻接插入件36的是多个类似环形盘37形式的环形板。该环形盘夹(夹紧)在插入件36和一个端板38形式的支承板之间，并且由多个间隔件41彼此间隔，以在其间限定相应的排出口6。因此多个排出口具有环形的圆筒状。
从开口6排出的磨细了的产品的最大颗粒尺寸由每个排出口6的轴向尺寸确定。因此，通过改变排出口6的轴向尺寸可以实现产品颗粒尺寸的改变。这可以通过将环形盘37替换成适当几何形状的盘或者通过改变间隔件41的尺寸而实现。另外，通过改变安装在筛模块35内的环形盘37的数目或者通过改变间隔件41的尺寸，可以对排出口6的总面积进行调节。
间隔件41包括限定在环形盘37上(或与之为一体)的圆形突出部。可选地，间隔件41设置成位于相邻环形盘37之间的单独的分离构件，并且是圆形环状的(例如垫圈)。在任一情况下，间隔件41提供了环形盘37的轴向间隔，以限定排出口6，并且使得这些开口具有严格控制(可控制的)的轴向尺寸。在这个方面，间隔件尺寸可以规则或不规则地改变，以对排出口6的尺寸进行改变，因而轴向地改变排出的颗粒(以及颗粒尺寸)。这种改变甚至使得排出通道具有一个弯曲的轮廓。
另外，间隔件41由弹性或柔性材料形成，当颗粒撞击在环形盘37或端板38上时该弹性或柔性物料会变形或弯曲。这个变形或弯曲可以使得过大的颗粒被弹回到研磨室，并且它可以使得环形盘振动或运动使得排出口6的堵塞可以清除(即不需要拆下模块)。
为了便于夹住(夹紧)环形盘37，以及为了将模块固定到一起并且固定到所述室壁上，提供了四个均匀隔开的螺栓39(或销)形式的紧固件。螺栓39接合并且延伸通过端板38、环形盘37和插入件36上的相应对准的孔，并且延伸进入研磨室4的外壁内。在这个方面，每个螺栓的螺纹端39A容纳在所述室壁的内螺纹凹部42内，而螺栓头(或螺母)43压紧端板38。该螺栓可以外置夹具等代替。
螺栓39以及/或环形盘37也可以由弹性或柔性材料形成，当颗粒撞击在环形盘37或端板38上时该弹性或柔性物料会变形或弯曲，并且这又导致盘振动，这使得过大尺寸的颗粒弹回到研磨室内并且清除排出口6的任何堵塞。
图6和图7中描绘的每个环形盘37具有沿径向向外而减小的厚度。如图6中所示，这会在相邻环形盘之间产生从轴线A径向向往移动地增加的空隙，当颗粒开始通过开口6(即向外张开的开口造成的压降以及因此的部分真空可将颗粒抽吸出开口6)时，这个增加的空隙有助于研磨后的颗粒从筛模块中的释出。然而，一些或所有环形盘面可以是平面的并且与相邻的环形盘面平行。
图6也示出了本体插入件36的端部表面50和端板38的内表面52，这些表面具有与相邻盘的那些表面呈镜像的锥形轮廓。或者，这些端部表面和内表面可以是平面的。
在一个可选实施例中，可设置穿过端板38的第二排出口，以允许精磨后的颗粒从筛模块沿与其纵向轴线大致平行的方向排出。所述第二排出口可以是管状的，并且通过改变这些第二开口的开口尺寸而可以实现排出的产品颗粒大小的改变。作为另一个可选实施例，端板38可以是有孔的或筛子状的。第二排出开口允许排出沿平行于轴线A行进的一部分细颗粒，然而于是也有堵塞的附带问题。
其它实施例可以结合对图6和图7中所示实施例进行的设计改动而不影响其操作原理或性能。例如，虽然图6示出了穿过相邻环形盘的开口具有恒定的尺寸(内径)，这个开口尺寸可以规则或不规则地改变。例如，从所述室向外，相邻接的环形盘的开口尺寸逐步的减小可为筛模块的内通道提供一个斜坡，并且这个斜坡往往使得过大颗粒被迫回到研磨室内。通过具有交替的较大和较小开口尺寸，可导致不同的盘振动性能，这也有助于颗粒的排出。
因此可以选择和优化筛模块内通道形状的改变，以使研磨后的颗粒最大程度地排出并且使得过大尺寸颗粒返回到研磨室。应说明的是，通过设置圆筒形的筛模块内通道形状，内通道表面(即排出口6位于其上)因此大致平行于研磨室容纳物(即研磨了不同程度的进料以及任何研磨介质)的排出方向。因此(内通道表面上的)表面压力以及相关的磨损效应得以最小化。
由于在筛模块35内可设置有较多数量的排出口6，特别是可以实现对小尺寸产品的有利研磨并且可以采用相对狭窄的开口6而不会损害产品的排出。公知的筛网已包含一个占据了名义上与排出通道的直径相对应面积的筛板(即具有安装成横穿排出通道的筛子)。在过去，细粒研磨需要在这些筛子上具有很小的开口，导致该室的排出装置不具有高机械强度并且往往会堵塞。
筛模块35允许增加排出的可用面积而不会损害机械强度。另外，与筛模块35相关的较小的表面压力导致了磨损效应的降低。
此外，所述室的章动运动的惯性效应有助于细粒产物通过开口6的排出，该章动运动可以以增加的速度运转以将材料从筛模块35的内部动态地排出。这导致筛模块35具有较高的单位流量。
在图3中示出的离心研磨机的运转中，驱动轴杆14由马达15可转动地驱动，并且这个转动由偏心端轴杆19而转换成研磨室4的章动运动，而该章动运动由相对的并且绕章动对称点3设置的轴承表面8和10以及9和11限制。
作为该章动运动的结果，章动组件的惯性力通过固定的轴承表面10和11而传递到支撑框架7。位于研磨室4的下方的驱动组件通过轴承21的弹性安装而与这些惯性力隔离。
现在将固体进料颗粒31加入到进料通道5内，此处其在重力的作用下落入研磨室4内。进料颗粒与研磨介质32的松散固体颗粒及其它进料的粗颗粒相互作用(碰撞)，通过研磨室4的章动运动，旋转和滚动作用分配给所有的颗粒。这使得进料颗粒破裂(磨碎；粉碎)成更小尺寸的碎片。在一些研磨应用中，不使用另外的研磨介质32颗粒，并且颗粒破裂成较小的尺寸是通过颗粒之间以及颗粒与壁之间的相互作用而实现的。
进料颗粒31的小尺寸碎片被迫从研磨室4沿排出方向(近似平行于排出轴线A)进入到排出通道28内，并且最终该研细的颗粒通过筛模块35上的排出口6排出。
因此，小于排出口6的尺寸的该研磨后的物料从其中通过，而比排出口6的尺寸粗的物料保持在(或通常返回到)研磨室4内，在研磨室内该粗粒物料经受进一步的尺寸减小。
图3中所示的研磨机可用作湿研磨机，其中通常为水的液体作为与固体进料颗粒31的混合物也加入到研磨室4内。因此，细粒产物从筛模块35以灰浆形式排出，并且排出到一个在驱动轴杆14周围的中心贮槽22内，灰浆从该中心贮槽流到排出管42。
离心研磨机适用于干研磨。在这种情况下，气体——通常为空气——与进料颗粒31一起加入到研磨室内，并且排出的产品以气体中的细颗粒悬浮物或细颗粒流的形式从开口6中流出。
驱动机构、轴承以及其它运动部件被有效地密封，以防止被湿的或干的排出产品污染。
在所描述的实施例中，轴承17、18和21的润滑是由在位于包括轴杆14和19的转动构件中的互连通道中连续循环的润滑剂来提供的。循环润滑剂提供了冷却以移除轴承中产生的任何过多热量，并且也避免了轴承磨损以及外来颗粒进入所导致的污染。从轴承排出的润滑剂随后被过滤以去除污染物，并且在将其再循环到轴承之前，根据需要由热量交换设备进行冷却。
应当注意，筛模块可以用于除离心研磨机之外的其它研磨机的研磨室，也可以用于绕其轴线(即轴线2)自由转动的研磨室。在一个可选的应用中，这样一种研磨室绕其轴线的转动速度是一离心研磨机的章动速度的很小比例(例如约百分之二)。
应当注意，如本领域内普通技术人员可以理解的，可以对所描述的
权利要求
1.一种筛构件，用于安装在一研磨机室的排出通道上，所述排出通道定位成在使用中接收沿排出方向移动到其中的研磨后的颗粒，所述筛构件包括一个或多个限定在其上的开口，该开口的取向设置为使得研磨后的颗粒沿相对于该排出方向倾斜的方向从其中通过。
2.如权利要求1所述的筛构件，其中该一个或多个开口中的每一个本身的取向均设置成相对于排出方向倾斜。
3.如权利要求1或2所述的筛构件，其中所述筛构件开口的尺寸设置成防止粗颗粒从通道中排出，而允许研磨后的细颗粒从通道中排出。
4.如前述任一权利要求所述的筛构件，其中，在所述筛构件上设置有多个开口。
5.如上述权利要求中任一项所述的筛构件，所述筛构件包括至少一个可安装在该排出通道上的环形板，而一排出通道支承板安装成与最远离所述室的环形板相邻但间隔开，以便在该支承板和相邻的环形板之间，以及/或者在所述室和与其相邻的环形板之间限定一筛构件开口。
6.如权利要求5所述的筛构件，其中多个环形板彼此相邻安装但彼此间隔，以在其间限定多个筛构件的开口。
7.如权利要求5或6所述的筛构件，其中每个该支承板和环形板大致是薄板状的。
8.如权利要求5到7中任一项所述的筛构件，通过使用一个或更多个固定构件将一个或多个环形板和支承板紧固在一起而将筛构件限定在支承板和所述室之间，而所述一个或多个固定构件将一个或多个环形板夹紧在支承板和研磨室的壁之间。
9.如权利要求8所述的筛构件，其中每个固定构件包括一个长形销或螺栓，其延伸通过一个或多个环形板以及所述支承板上的相应对准的孔，而每个销或螺栓的近端置于支承板上，并且每个销或螺栓的远端安装成容纳在与排出通道相邻的该室的外壁上。
10.如权利要求9所述的筛构件，其中每个销或螺栓的远端制有外螺纹，以与邻近排出通道的所述室壁上的相应螺纹凹部接合。
11.如权利要求5到10中任一项所述的筛构件，其中通过一个或多个相应间隔件，一个或多个环形板彼此间隔，以及/或者所述支承板和与其相邻的环形板彼此间隔；该各个间隔件在相邻环形板之间，以及/或者所述支承板和与其相邻的环形板之间，以及/或者所述室和与其相邻的环形板之间限定了一个或多个筛构件开口。
12.如权利要求11所述的筛构件，其中该一个或多个间隔件与每个板一体地形成，或者该一个或多个间隔件是设置在一个或多个环形板之间的空间内以及绕着一个或多个环形板的周边分离设置的多个垫圈。
13.如权利要求12所述的筛构件，其中每个垫圈定位在相应的长形销或螺栓上，并夹紧在相邻板之间。
14.如权利要求11到13中任一项所述的筛构件，其中所述间隔件设置成其厚度规则地或不规则地改变，以对所述或每个筛构件开口的大小进行控制和/或进行改变。
15.如权利要求5到13中任一项所述的筛构件，其中具有多个环形板，并且构造成其内直径规则地或不规则地变化。
16.如权利要求15所述的筛构件，其中从所述室向外，多个环形板的内径逐步的减小，从而为该筛构件的内通道提供了一个斜坡。
17.如权利要求5到16中任一项所述的筛构件，其中所述或每个环形板可由在撞击的作用下会变形或弯曲的弹性或柔性材料制成。
18.如权利要求5到17中任一项所述的筛构件，其中所述或每个环形板根据由于该研磨室在使用中的运动而施加在这些板上的动力而变形或弯曲，这引起所述或每个环形板上的振动效应。
19.如权利要求11到18中任一项所述的筛构件，其中该间隔件(具有时)以及/或者固定构件(具有时)由弹性或柔性材料形成，该材料在颗粒撞击的作用下引起变形或弯曲。
20.如权利要求5到19中任一项所述的筛构件，其中所述支承板包括多个从其中延伸通过的管状开口，并且研磨后的颗粒可从中释放但粗颗粒却不能。
21.如上述权利要求中任一项所述的筛构件，其中该研磨室具有一纵向轴线，并且当排出方向表示为一向量时，该向量相对于工作中的所述室的纵向轴线是倾斜的或大致垂直的。
22.如权利要求21所述的筛构件，其中所述或每个筛构件开口的取向设置成使得研磨后的颗粒相对于排出方向向量垂直地从中通过。
23.如权利要求22所述的筛构件，其中排出通道限定了一个穿过该通道的延伸轴线，研磨后的颗粒沿与该排出通道的延伸轴线大致垂直的方向穿过所述或每个筛构件开口。
24.如权利要求23所述的筛构件，其中所述或每个环形板与支承板沿该排出通道的延伸轴线间隔开，以限定一组圆筒状的、关于该延伸轴线对称的环形筛构件开口。
25.如权利要求23或24所述的筛构件，其中该环形板的径向厚度沿该排出通道的延伸轴线向外而减小，从而该筛构件开口的横向尺寸增大。
26.如权利要求23到25中任一项所述的筛构件，其中所述或每个排出通道的延伸轴线大致与该研磨室的壁垂直。
27.一种研磨机，其包括一个或多个如上述权利要求中任一项所述的筛构件。
28.如权利要求27所述的研磨机，其是一个离心研磨机。
29.一种研磨机，包括一个研磨室；一个用于支撑该研磨室的支撑件；一个与所述研磨室相连通的进料通道，用于将待研磨的进料导入所述室内；至少一个排出通道，用于容纳沿排出方向而从该研磨室来的研磨后的进料颗粒，并且用于从其中排出该颗粒；一个驱动装置，其耦联为以这样的方式驱动该研磨室，使得所述室内的任何研磨介质以及/或者该进料来研磨该进料，并且产生该研磨过的进料颗粒；以及至少一个安装在该排出通道上的相应的筛构件，所述筛构件包括一个或多个限定在其上的开口，该开口的取向设置成使得该研磨后的进料颗粒可沿相对于该排出方向倾斜的方向从中通过。
30.如权利要求29所述的研磨机，其中至少一个筛构件是如权利要求1到26中任一项所限定的筛构件。
31.如权利要求29或30中所述的研磨机，其为离心研磨机，其中所述研磨室具有纵向对称轴线。
32.如权利要求31所述的研磨机，其中所述研磨室安装到所述支撑件，使得被驱动时，该对称轴线绕关于研磨机的相对固定的轴线进行章动运动，而两轴线相交于章动对称点。
33.如权利要求32所述的研磨机，其中所述研磨室的轴线相对于所述室的转动轴线倾斜并与之相交，以进行章动运动。
34.如权利要求32或33所述的研磨机，其中所述研磨室包括一个约束装置，其具有与支撑件上的互补相对轴承表面相接合的环形轴承表面，该相对的轴承表面关于章动对称点对称，并且适于限制章动运动的幅度。
35.如权利要求32到33中任一项所述的研磨机，其中所述驱动装置包括一个驱动轴杆，其具有一个大致与章动运动的固定轴线共线的轴线，而驱动轴杆的近端由一个与之连接的传动单元驱动。
36.如权利要求35所述的研磨机，其中所述驱动轴杆设置有一个安装在其远端并且位于邻近研磨室的悬臂偏心短轴杆，所述短轴杆的轴线与研磨室的对称轴线大致共线，而所述偏心短轴杆通过一个中间轴承构件而与该研磨室接合，该中间轴承构件适于允许绕该短轴杆和该研磨室的所述室轴线的相对转动运动。
37.一种自研磨机室中排出颗粒的方法，其中颗粒最初从所述室中沿一排出方向排出，该方法包括以下步骤一旦颗粒被从所述室中排出之后，就将该颗粒的方向改变为与该排出方向相倾斜的一方向，并且然后排出该颗粒。
38.如权利要求37所述的方法，其中通过将一个筛构件设置在邻近于颗粒最初从所述室中排出的位置来改变该颗粒的方向，所述筛构件适于容纳排出的颗粒并且是如权利要求1到26中任一项所述的筛构件。
39.如权利要求37或38所述的方法，其中该研磨机室构成了如权利要求29到36中任一项所述的研磨机的一部分。
全文摘要
一个筛构件(35)，其可安装在研磨机室(4)的一排出通道(28)上。所述排出通道定位成在工作时收纳沿排出方向移动到其中的研磨后的颗粒。所述筛构件包括一个或多个限定在其上的开口(6)，该开口的取向设置成使得研磨后的颗粒沿相对于该排出方向倾斜的方向从中通过。所述研磨机的室可构成一离心研磨机的一部分。
文档编号B02C23/10GK1798613SQ200480014938
公开日2006年7月5日 申请日期2004年5月28日 优先权日2003年5月29日
发明者詹姆斯·威廉·亨特 申请人:希科姆国际有限公司