专利名称：除草剂化合物的制作方法
除草剂化合物本发明涉及6，6- 二氧-6-硫杂-1，4- 二氮杂萘衍生物、涉及制备这些化合物的工艺过程和中间体、涉及由这些化合物构成的除草剂合剂、涉及使用这些化合物控制植物生长的方法。一些3，4- 二氢-2，2- 二氧-1H-2-苯并硫吡喃类是在美国专利号4，904，300中作为除草剂披露的。一些7，8-二氢-6，6-二氧-5H-硫吡喃并W，3-b]吡啶类是在美国专利号4，824，474中作为除草剂披露的。令人吃惊的是，目前已发现6，6- 二氧-6-硫杂-1，4- 二氮杂萘衍生物具有除草剂性质。因此，本发明提供具有化学结构式(I)的化合物
权利要求
1.化学结构式(I)的一种化合物
2.根据权利要求1，其中R1是氢、卤素或C1-C8烷基的一种化合物。
3.根据权利要求1或权利要求2的一种化合物，其中R2是氢、卤素或C1-C8烷基。
4.根据权利要求1-3的一种化合物，其中R3a是氢、卤素、C1-C8烷基、C1-C8卤烷基或 C2-C8块基。
5.根据权利要求1-4的一种化合物，其中Ra是氢、卤素、C1-C8烷基、C1-C8卤烷基或 C2-C8块基。
6.根据权利要求1-5的一种化合物，其中R4是苯基或一至五个R6取代的苯基、或杂芳基或一至五个R6取代的杂芳基(其中杂芳基是吡啶基、嘧啶基、吡唑基、三唑基、苯硫基、异恶唑基、恶二唑基或噻唑基)。
7.根据权利要求1-6之一的一种化合物，其中R5是羟基或R8-氧基，且其中R8是C1-C8 烷基、C2-C8烯基、C2-C8炔基、芳基-C1-C4烷基或芳基基团为一至五个R9取代的芳基-C1-C4 烷基、C1-C8烷基羰基、C1-C8烷氧羰基、C1-C8烷硫羰基或C1-C8烷基磺酰基；和其中每个R9是独立的卤素、氰基、硝基、C1-C8烷基、C1-C8卤烷基、C1-C8烷氧基或C1-C8卤烷氧基。
8.化学结构式(6)的一种化合物
9.控制植物的方法包括对植物或其局部施用除草有效量的、如权利要求1-7之一所声明化学结构式(I)的化合物。
10.除草剂合剂由除草有效量的、如权利要求1-7之一所声明化学结构式(I)的化合物构成。
全文摘要
除草剂化合物，本发明涉及化学结构式(I)的6，6-二氧-6-硫杂-1，4-二氮杂萘衍生物其中R1、R2、R3a、R3b、R4和R5如权利要求1所规定；或其盐或N-氧化物。此外，本发明涉及制备化学结构式(I)的化合物的工艺过程和中间体、涉及由化学结构式(I)的化合物组成的除草剂合剂、涉及使用化学结构式(I)的化合物控制植物生长的方法。
文档编号A01N43/60GK102421783SQ201080020857
公开日2012年4月18日 申请日期2010年5月6日 优先权日2009年5月14日
发明者A·J·埃弗里, N·J·威尔茨, N·P·马尔霍兰的, P·A·沃辛顿 申请人:辛根塔有限公司