专利名称：一种用于纳米材料的砂磨装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及砂磨装置，特别是涉及一种用于纳米材料的砂磨装置。
背景技术：
砂磨装置是将物料和筒体内的研磨介质一起被高速旋转的分散器搅动，从而使物料中的固体微粒和研磨介质相互间产生更加强烈的碰撞、摩擦、剪切作用，达到加快磨细微粒和分散聚集体的目的。目前，应用于纳米材料的砂磨装置主要存在的不足之处为物料研磨分散不均匀，研磨细度很难达到纳米级细度要求，产品质量较差，研磨效率低，能耗大。
实用新型内容本实用新型主要解决的技术问题是提供一种研磨分散高均匀性，研磨细度高，研磨效率高，能耗低的用于纳米材料的砂磨装置。为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是提供一种用于纳米材料的砂磨装置，包括研磨筒，所述研磨筒内设置有旋转轴，所述旋转轴的一端设置有研磨转子，另一端设置有混料转子，所述研磨筒内还设置有筛分装置，所述筛分装置设置于所述混料转子的正下方，所述筛分装置与出料口相连通。在本实用新型一个较佳实施例中，还包括机座，所述研磨筒固定于所述机座上。在本实用新型一个较佳实施例中，所述研磨筒还设置有进料口，所述进料口与所述研磨转子的一端相连通。在本实用新型一个较佳实施例中，所述研磨筒和所述旋转轴上均设置有冷却装置。在本实用新型一个较佳实施例中，所述研磨筒内还设置有机械活塞装置。本实用新型的有益效果是本实用新型研磨分散高均匀性，研磨物料的细度可达到纳米级，研磨效率高，能耗低。
图1是本实用新型用于纳米材料的砂磨装置一较佳实施例的结构示意图；附图中各部件的标记如下1、研磨筒，2、旋转轴，3、研磨转子，4、混料转子，5、筛分装置，6、出料口，7、机座，8、进料口。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。请参阅图1，本实用新型实施例包括一种用于纳米材料的砂磨装置,包括研磨筒1，所述研磨筒I内设置有旋转轴2,所述旋转轴2的一端设置有研磨转子3，另一端设置有混料转子4，所述研磨筒I内还设置有筛分装置5，所述筛分装置5设置于所述混料转子4的正下方，所述筛分装置5与出料口 6相连通。所述用于纳米材料的砂磨装置研磨分散高均匀性，研磨物料的细度可达到纳米级，研磨效率高，能耗低。还包括机座7，所述研磨筒I固定于所述机座7上。所述研磨筒I还设置有进料口8，所述进料口 8与所述研磨转子3的一端相连通。所述研磨筒I和所述旋转轴2上均设置有冷却装置，较好的冷却效果，保证研磨的正常进行。所述研磨筒I内还设置有机械活塞装置，可调节研磨腔的容量，也可调控产品质量。本实用新型用于纳米材料的砂磨装置的工作过程将物料送入研磨筒I内，物料在研磨筒I内和加入的研磨介质被高速转动的研磨转子3强烈研磨，混料转子4强烈搅动，研磨后的物料在混料转子4产生的离心力作用下经筛分装置5后顺利排出。以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
权利要求1.一种用于纳米材料的砂磨装置，其特征在于，包括研磨筒，所述研磨筒内设置有旋转轴，所述旋转轴的一端设置有研磨转子，另一端设置有混料转子，所述研磨筒内还设置有筛分装置，所述筛分装置设置于所述混料转子的正下方，所述筛分装置与出料口相连通。
2.根据权利要求1所述的用于纳米材料的砂磨装置，其特征在于，还包括机座，所述研磨筒固定于所述机座上。
3.根据权利要求1所述的用于纳米材料的砂磨装置，其特征在于，所述研磨筒还设置有进料口，所述进料口与所述研磨转子的一端相连通。
4.根据权利要求1所述的用于纳米材料的砂磨装置，其特征在于，所述研磨筒和所述旋转轴上均设置有冷却装置。
5.根据权利要求1所述的用于纳米材料的砂磨装置，其特征在于，所述研磨筒内还设置有机械活塞装置。
专利摘要本实用新型公开了一种用于纳米材料的砂磨装置，包括研磨筒，所述研磨筒内设置有旋转轴，所述旋转轴的一端设置有研磨转子，另一端设置有混料转子，所述研磨筒内还设置有筛分装置，所述筛分装置设置于所述混料转子的正下方，所述筛分装置与出料口相连通。本实用新型研磨分散高均匀性，研磨物料的细度可达到纳米级，研磨效率高，能耗低。
文档编号B02C17/16GK202860638SQ2012205439
公开日2013年4月10日 申请日期2012年10月23日 优先权日2012年10月23日
发明者岳亚娟 申请人:常州诺瑞格纳米科技有限公司