本实用新型涉及农业种植技术领域，尤其涉及一种石斛种植系统。
背景技术：
石斛又名石斛兰，属名Dendrobium，为希腊语dendron(树木)与bios(生活)二字结合而成，意为附生在树上。石斛兰属是兰科植物中最大的一个属，原产地主要分布于亚洲热带和亚热带，澳大利亚和太平洋岛屿，全世界约有1000多种。中国约有76种其中大部分分布于西南、华南、台湾等地。
石角斗具有益胃生津，滋阴清热的功效，常用于阴伤津亏，口干烦渴，食少干呕，病后虚热，目暗不明。
常生长于海拔480～1700米的林中树干上或岩石上。喜温暖。湿润和半阴环境，不耐寒。生长适温18～30℃，生长期以16～21℃更为合适，休眠期16～18℃，晚间温度为10～13℃，温差保持在10～15℃最佳。白天温度超过30℃对石斛生长影响不大，冬季温度不低于10℃。幼苗在10℃以下容易受冻。
石斛忌干燥、怕积水，特别在新芽开始萌发至新根形成时需充足水分。但过于潮湿，如遇低温，很容易引起腐烂。天晴干热时，除浇水外，要往地面多喷水，保持较高的空气湿度。常绿石斛类在冬季可保持充足水分，但落叶类石斛可适当干燥，保持较高的空气湿度。
石斛的药用价值极高，但是其生长条件也比较苛刻，导致现有的石斛种植成活率低，种植成本高。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种适合石斛种植的种植系统。
为解决以上技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种石斛种植系统，包括一个石斛种植大棚，所述系统包括设置于大棚内的主控系统以及与所述主控系统连接的光照系统、温控系统、湿控系统、二氧化碳浓度控制系统、施肥系统、浇水系统，其中，
所述光照系统由设置于大棚顶部的LED光照灯、LED照明灯构成；
所述温控系统由设置于大棚内的温度传感器、加热器、风冷机构成；
所述湿控系统由设置于大棚内的湿度传感器以及与所述主控系统连接的
加湿器构成；
所述二氧化碳浓度控制系统由二氧化碳浓度检测器以及与所述主控系统
连接的二氧化碳发生装置构成；
所述施肥系统由自动配肥器、管道、与管道连接的喷淋头构成；
所述浇水系统由自来水管、与自来水管连接的喷头构成。
综上所述，运用本实用新型的技术方案，具有如下有益效果：本实用新型的大棚不仅可以随时监控石斛种植过程中的实时状态，还能够进行调控，保证石斛处于最佳的生长环境，从而提高石斛的产量，提高效益。
附图说明
图1为本实用新型种植棚的结构框图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，但不构成对本实用新型保护范围的限制。
如图1所示，一种石斛种植系统，包括一个石斛种植大棚，所述系统包括设置于大棚内的主控系统以及与所述主控系统连接的光照系统、温控系统、湿控系统、二氧化碳浓度控制系统、施肥系统、浇水系统，其中，
所述光照系统由设置于大棚顶部的LED光照灯、LED照明灯构成；
所述温控系统由设置于大棚内的温度传感器、加热器、风冷机构成；
所述湿控系统由设置于大棚内的湿度传感器以及与所述主控系统连接的
加湿器构成；
所述二氧化碳浓度控制系统由二氧化碳浓度检测器以及与所述主控系统
连接的二氧化碳发生装置构成；
所述施肥系统由自动配肥器、管道、与管道连接的喷淋头构成；
所述浇水系统由自来水管、与自来水管连接的喷头构成。
本实用新型的大棚不仅可以随时监控石斛种植过程中的实时状态，还能够进行调控，保证石斛处于最佳的生长环境，从而提高石斛的产量，提高效益。
以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。