本发明属于农作物种植领域，具体涉及一种芹菜的栽培方法。
背景技术：
芹菜在华北地区露地栽培，秋季适宜芹菜生长的气候最长，所以产量、质量、栽培面积也最大。芹菜还能在多种保护地内栽培，实现周年供应。一般春季栽培1～2月在温室内育苗，3月下旬至4月中定植，5月下旬至7月采收，秋季栽培，6月中旬至7月上旬播种育苗，8月上、中旬至9月中旬定春植，10月～12月收获。一般保护地内栽培多在7月上、中旬至8月上旬播种育苗，9～11月定植在改良阳畦或日光温室，1月～3月收获。芹菜出苗较困难，应选择地势较高、排灌方便、土质疏松、肥沃的沙壤土作育苗畦。要施足腐熟底肥，为使土壤疏松要多施些圈肥。为达到出苗快、全、齐，播前7～8天，可进行浸种催芽。传统芹菜的栽培方式出芽率较低，长势不好。
2016年5月11日公告的中国专利文献绿色食品芹菜栽培方法(授权公告号CN104094749B)，包括：产地环境选择、茬口安排、品种选择与播种、培育无病虫壮苗、定植管理、病虫害发生规律及防治方法等多种栽培步骤，最后采收。该发明栽培方法简单，具有成本低，收率高，管理方便等优点，适合大规模栽培，成品芹菜生长健康，无毒害，食用安全可靠，健康营养。但是该发明在芹菜的栽培上整体效率不够高，在种子筛分和药剂浸种上缺乏高效的处理，使得栽培出的芹菜产量不高和品质不好。
技术实现要素：
为了解决现有芹菜的栽培方法在芹菜的栽培上整体效率不够高，在种子筛分和药剂浸种上缺乏高效的处理，使得栽培出的芹菜产量不高和品质不好的问题，本发明的目的是提供一种芹菜的栽培方法，具有在芹菜的栽培上整体效率高，在种子筛分和药剂浸种上高效的处理，使得栽培出的芹菜产量高和品质好的优点。
本发明提供了如下的技术方案：
一种芹菜的栽培方法，包括以下步骤：
(1)土地选择：在选择地势平坦、排水良好、土质经过施肥改良的土壤作为栽培地；
(2)品种选择：选择抗逆性强、商品性好、产量高的品种；
(3)芹菜种子筛分：筛分出颗粒饱满的、健康的芹菜种子；
(4)药剂浸种：将颗粒饱满的、健康的芹菜种子用0.1％多菌灵晋浸种2小时，捞起后用清水漂洗干净，再用40℃温水浸泡30分钟，然后移入冷水中冷却；
(5)催芽处理：将芹菜种子捞起用干净的湿纱布包好，放在15-20℃环境下，5-7天即可出芽，然后放在16℃条件下经过14小时锻炼，待出芽率达到65％以上时进行播种育苗；
(6)播种育苗：在上述栽培地内选择一块土地作为育苗床，在育苗床上均匀铺撒厚度为8cm的营养土，浇透底水，将上述的芹菜种子按照播种量15-20克/平方米进行播种，再铺上厚度为1cm的营养土，再盖上地膜保温保湿，夜间搭棚，每隔1-2天早、晚浇水一次；
(7)出苗至分苗期管理：从播种至齐苗适温是白天20-25℃，夜间12-14℃，齐苗至定植前一周白天15-25℃，夜间10-12℃；定植前一周白天13-17℃，夜间6-19℃；
(8)定植：待芹菜株苗出现2片真叶时进行移栽定植，将芹菜株苗带土带肥移栽至无环境污染源、有机质含量丰富的地块；结合整地每亩施沼渣有机肥6000公斤，每亩定植8000株；按照行距开15cm深沟，在沟内浇足底水，按株距稳苗，把根系插入穴中，栽植深度以幼苗在育苗床的入土深度为标准，然后待水渗完覆土；
(9)田间管理：定植后3天浇一次缓苗水，缓苗后进行中耕2—3遍，蹲苗10天左右，待芹菜底盘蹲大以后开始浇水，5—7天浇一次水，保持土壤见干见湿，进入生长旺盛期后，平均每4—5天浇一次水，结合浇水追三次肥；
(10)采收：待果实成熟后采摘。
优选地，在所述芹菜种子筛分前还需进行晒种，所述晒种为将芹菜种子放置在可杀死芹菜种子壳上病菌的光照强度下晾晒9-10小时，然后将晒好的芹菜种子放置在干燥、阴凉的地方5-6小时，可杀死芹菜种子壳上的病菌，减少病菌对芹菜种子的危害。
优选地，所述芹菜种子筛分为将芹菜种子放置在带有筛孔的筛网上进行芹菜种子的分离，选取颗粒大、形状规则的芹菜种子，然后将颗粒大的芹菜种子放入清水中，把浮在清水表层的秕谷捞出，选用颗粒饱满的、健康的芹菜种子，提高芹菜种子的发芽出苗率，并使得以后长出的芹菜具有品相完好、高品质和健康的优点。
优选地，可在播种后用25％可湿性除草醚0.75-1千克/亩，加水80-100千克/亩，均匀喷洒于育苗床，用于除去育苗床上的杂草。
优选地，所述土地选择中的土质经过施肥改良的土壤为经过三年改良期，每年都施加家禽粪便的有机肥改良的土壤，能够彻底去除残留在土壤中的多年累积的农药，使得栽培出的芹菜更加有机，减少农药对人体的危害。
优选地，在所述药剂浸种前还需要进行活水浸种，所述活水浸种为将芹菜种子浸入具有流动清水的自来水槽中7-8小时，流动的清水可以将病菌彻底带离芹菜种子的浸泡环境，而且浸泡时间越长越有利于去除芹菜种子上的病菌。
优选地，所述出苗至分苗期管理中苗活后，要进行中耕，促进芹菜秧苗发根和叶子的分化，可追施尿素10千克/亩，并撤除所有覆盖物，以利秧苗锻炼。
优选地，所述营养土包括：按照重量份计，8份腐叶土、5-7份猪粪、5-7份干草、5-7份鸡粪尿、5-7水稻秸秆、1-3份草木灰和0.05-0.1份木屑，为芹菜苗提供生长所需的营养物质，有利于育苗。
优选地，所述催芽处理中放在16℃条件下经过14小时锻炼为在恒温为16℃的人工气候箱中进行锻炼，便于准确控制温度，提高催芽率。
优选地，所述播种育苗中的每隔1-2天早、晚浇水一次为每隔1-2天早上9点、傍晚五点浇水一次，避免芹菜种子的生长土壤过于干燥、缺水，而且每隔1-2天早上9点、傍晚五点浇水一次时间差控制的最适宜，有利于育苗。
本发明的有益效果是：解决了现有芹菜的栽培方法在芹菜的栽培上整体效率不够高，在种子筛分和药剂浸种上缺乏高效的处理，使得栽培出的芹菜产量不高和品质不好的问题。
具体实施方式
一种芹菜的栽培方法，包括以下步骤：
(1)土地选择：在选择地势平坦、排水良好、土质经过施肥改良的土壤作为栽培地；
(2)品种选择：选择抗逆性强、商品性好、产量高的品种；
(3)芹菜种子筛分：筛分出颗粒饱满的、健康的芹菜种子；
(4)药剂浸种：将颗粒饱满的、健康的芹菜种子用0.1％多菌灵晋浸种2小时，捞起后用清水漂洗干净，再用40℃温水浸泡30分钟，然后移入冷水中冷却；
(5)催芽处理：将芹菜种子捞起用干净的湿纱布包好，放在15-20℃环境下，5-7天即可出芽，然后放在16℃条件下经过14小时锻炼，待出芽率达到65％以上时进行播种育苗；
(6)播种育苗：在上述栽培地内选择一块土地作为育苗床，在育苗床上均匀铺撒厚度为8cm的营养土，浇透底水，将上述的芹菜种子按照播种量15-20克/平方米进行播种，再铺上厚度为1cm的营养土，再盖上地膜保温保湿，夜间搭棚，每隔1-2天早、晚浇水一次；
(7)出苗至分苗期管理：从播种至齐苗适温是白天20-25℃，夜间12-14℃，齐苗至定植前一周白天15-25℃，夜间10-12℃；定植前一周白天13-17℃，夜间6-19℃；
(8)定植：待芹菜株苗出现2片真叶时进行移栽定植，将芹菜株苗带土带肥移栽至无环境污染源、有机质含量丰富的地块；结合整地每亩施沼渣有机肥6000公斤，每亩定植8000株；按照行距开15cm深沟，在沟内浇足底水，按株距稳苗，把根系插入穴中，栽植深度以幼苗在育苗床的入土深度为标准，然后待水渗完覆土；
(9)田间管理：定植后3天浇一次缓苗水，缓苗后进行中耕2—3遍，蹲苗10天左右，待芹菜底盘蹲大以后开始浇水，5—7天浇一次水，保持土壤见干见湿，进入生长旺盛期后，平均每4—5天浇一次水，结合浇水追三次肥；
(10)采收：待果实成熟后采摘。
在芹菜种子筛分前还需进行晒种，晒种为将芹菜种子放置在可杀死芹菜种子壳上病菌的光照强度下晾晒9-10小时，然后将晒好的芹菜种子放置在干燥、阴凉的地方5-6小时，可杀死芹菜种子壳上的病菌，减少病菌对芹菜种子的危害。
芹菜种子筛分为将芹菜种子放置在带有筛孔的筛网上进行芹菜种子的分离，选取颗粒大、形状规则的芹菜种子，然后将颗粒大的芹菜种子放入清水中，把浮在清水表层的秕谷捞出，选用颗粒饱满的、健康的芹菜种子，提高芹菜种子的发芽出苗率，并使得以后长出的芹菜具有品相完好、高品质和健康的优点。
可在播种后用25％可湿性除草醚0.75-1千克/亩，加水80-100千克/亩，均匀喷洒于育苗床，用于除去育苗床上的杂草。
土地选择中的土质经过施肥改良的土壤为经过三年改良期，每年都施加家禽粪便的有机肥改良的土壤，能够彻底去除残留在土壤中的多年累积的农药，使得栽培出的芹菜更加有机，减少农药对人体的危害。
在药剂浸种前还需要进行活水浸种，活水浸种为将芹菜种子浸入具有流动清水的自来水槽中7-8小时，流动的清水可以将病菌彻底带离芹菜种子的浸泡环境，而且浸泡时间越长越有利于去除芹菜种子上的病菌。
出苗至分苗期管理中苗活后，要进行中耕，促进芹菜秧苗发根和叶子的分化，可追施尿素10千克/亩，并撤除所有覆盖物，以利秧苗锻炼。
营养土包括：按照重量份计，8份腐叶土、5-7份猪粪、5-7份干草、5-7份鸡粪尿、5-7水稻秸秆、1-3份草木灰和0.05-0.1份木屑，为芹菜苗提供生长所需的营养物质，有利于育苗。
催芽处理中放在16℃条件下经过14小时锻炼为在恒温为16℃的人工气候箱中进行锻炼，便于准确控制温度，提高催芽率。
播种育苗中的每隔1-2天早、晚浇水一次为每隔1-2天早上9点、傍晚五点浇水一次，避免芹菜种子的生长土壤过于干燥、缺水，而且每隔1-2天早上9点、傍晚五点浇水一次时间差控制的最适宜，有利于育苗。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。