一种多功能T恤的制作方法

本实用新型涉及服装领域，特别是指一种多功能T恤。

背景技术：

衣服今泛指身上穿的各种衣裳服装，衣服的本意是指防寒保暖，护身的介质。在现代社会衣服成为人体的装饰物品，更多是象征着一个人的生活水准、消费层次和社会地位身份的参考品，但同时也起到了原始不变的基本功能，只是质地上的区别而已。随着人民生活的不断提高，人们的穿衣理念有了较大的改变，不再为了保暖而穿衣，而是有了更高的追求，尤其是女性同胞，对美的追求孜孜不倦，这就要求衣服款式的多样化。T恤衫做为休闲服出现在世界各个角落，由于其穿着舒适、款式简单大方而且容易搭配，因此深受大众欢迎。

现有的T恤一般是整体由一种材质的布料成型的，布料一般采用棉质布料以提高柔软性，从而实现穿着的舒适感。但是现有的T恤很容易沾染上人体的汗液，尤其是后背部，汗液在T恤上不能很快的排干，容易使得T恤和人体皮肤粘合在一起，且排汗过程中人体很容易产生很多异味物质，造成细菌繁殖，特别是在腋下部位。

T恤衫是春夏季人们最喜欢的服装之一，但是现有的T恤功能单一，没有充分发挥T恤简单方便的优势。现在戴眼镜的人越来越多，利用专业的眼镜布擦眼镜可以防止眼镜擦伤，延长眼镜使用期限。但是眼镜布携带不方便，实际生活中人们往往喜欢拿棉质的T恤应急，这就会导致眼镜的使用寿命大打折扣。

技术实现要素：

针对上述问题，本实用新型的目的在于解决现有技术中的问题，提出一种大量出汗时，穿着舒适感较高且便于擦拭眼镜的T恤。

本实用新型的技术方案如下：

一种多功能T恤，包括T恤本体，该T恤本体包括对应人体的后背部、对应于人体的腋下部以及对应于人体的肩部，所述后背部上设有一吸汗布，该吸汗布位于T恤本体的内侧；所述腋下部上设有一除臭抗菌布，该除臭抗菌布为竹炭纤维布，它通过魔术贴连接于腋下部内侧；所述肩部上排布有透气孔；所述T恤本体靠近人体肚脐的部位还设有一超细纤维制成的擦拭布。

进一步的，所述吸汗布的大小与T恤本体的后背部大小相同，且吸汗布缝制在T恤本体上。

更进一步的，所述后背部的外侧设有图案层。

再进一步的，所述吸汗布由竹麻纤维混纺纱针织面料制成。

进一步的，所述T恤本体的前胸部内侧也缝制有吸汗布，且前胸部的外侧设有图案层。

进一步的，所述擦拭布通过魔术贴连接于T恤本体内侧。

由上述对本实用新型的描述可知，和现有技术相比，本实用新型具有如下优点：为了达到理想的效果，本实用新型的T恤在最容易出汗的后背部和最容易发臭并滋生细菌的腋下部分别设置吸汗布和除臭抗菌布，吸汗布具有较强的吸汗性能，能快速吸附汗液；除臭抗菌布不仅可以吸附臭味而且能有效抑制细菌滋生；另外，通过超细纤维擦拭布的设置使得T恤功能多元化，不仅穿起来更加舒适，而且可用于擦拭眼镜从而延长眼镜的使用寿命。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为图1中后背部沿A-A方向的剖面结构示意图。

具体实施方式

下面参照附图说明本实用新型的具体实施方式。

同时参照图1和图2，一种多功能T恤，包括T恤本体1，该T恤本体1包括对应人体的后背部2和对应于人体的腋下部3。所述T恤本体1靠近人体肚脐的部位还设有一超细纤维制成的擦拭布6，所述擦拭布6通过魔术贴连接于T恤本体1内侧，使用时，可将T恤本体1翻折并擦拭。所述后背部2的内侧缝制有一层吸汗布4，当然也可采用其它方式将吸汗布4固定在后背部2内侧，例如采用魔术贴的方式或者子母扣的形式，但是由于吸汗布4直接与人体后背接触，在实际生产中为了减少穿着者的异物感，通常采用缝制的方式。为了充分达到吸汗效果，所述吸汗布4的面积通常与后背部2相当。另外，所述吸汗布4通常由竹麻纤维混纺纱针织面料制成，且为了使T恤整体更加美观，不至于从T恤本体1的外侧明显看出缝制痕迹，后背部2上往往需要设置一图案层21，该图案层21的图案可根据需要进行个性化设计。

继续参照图1，所述腋下部3上设有一除臭抗菌布5，该除臭抗菌布5位于T恤本体1的内侧，除臭抗菌布5通过魔术贴的形式连接于腋下部3的内侧，当然除臭抗菌布5的连接方式并不局限于此，除臭抗菌布5也可采用缝制的方式或者子母扣的形式固定。由于腋下部3的除臭抗菌布5通常不与人体皮肤直接接触，因此上述各种连接方式均可。在实际生产中，所述除臭抗菌布5经常为竹炭纤维布。

优选的，为了使得T恤整体更加舒适和美观，往往需要在所述T恤本体1的前胸部内侧也缝制吸汗布4，且前胸部4的外侧设有图案层。

为了达到理想的效果，本实用新型的T恤在最容易出汗的后背部2和最容易发臭并滋生细菌的腋下部3分别设置吸汗布4和除臭抗菌布5，吸汗布4具有较强的吸汗性能，能快速吸附汗液；除臭抗菌布5不仅可以吸附臭味而且能有效抑制细菌滋生；另外，通过超细纤维擦拭布6的设置使得T恤功能多元化，不仅穿起来更加舒适，而且可用于擦拭眼镜从而延长眼镜的使用寿命。

上述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均属于侵犯本实用新型保护范围的行为。