专利名称：有机电激发光显示器载具与基板的清洗方法
技术领域：
本发明涉及一种改善载具与基板清洁度的清洗方法，尤指一种能获得更高的清洁度的有机电激发光显示器载具与基板的清洗方法。
背景技术：
经由通电流激发而发光的有机电激发光元件因为重量轻、耗电低及亮度高近年来成为备受注目的显示器；然而，有机电激发光元件的大量生产却仍有许多困难亟待克服。
究其原因在于传统的对于有机电激发光显示器的载具或基板清洗上，既无法连续大量清洗，且清洗程度也无法合乎新颖有机电激发光显示器的后续制程的清洁度要求。
为确保有机电激发光显示器基板的清洁无污染，如何清洗则显得十分重要，因为基板上的污染粒子将会影响光阻涂布的均匀性，导致所制造出的线路图案缺陷；此外，一般的基板清洗程序需将基板置于载具中使之能传送于各清洗单元间，其传送过程不仅费时且载具易遭外界大气污染，若装载的载具不清洁，会相对增加基板受污染的机率，再者，该载具由于构造上死角较多，遭受粒子污染后一般不容易完全清洗，成为基板污染的主要来源。
由于有机电激发光显示器的载具常需重复多次使用，以承载大量有机电激发光显示器，一旦遭受污染，常导致所承载的有机电激发光显示器连带遭受污染，而此情形在有机电激发光显示器连续大量生产时更为严重，会大大降低产品合格率。所以，如何有效地清洗有机电激发光显示器的基板及其载具，已经成为业界极需解决的课题。以往业者大多仅是使用清洁剂或化学药剂清洁的方法，无法有效地清洁有机电激发光显示器的基板载具，并且不符合批量生产的需要，因此极需一种可以合乎大量生产的要求、又可同时清洗各种有机电激发光显示基板与载具的方法。
近年来，现有的清洗技术一般是经由数种溶剂交替浸渍并以超声波方式震荡，借由超声波快速震荡清洗有机电激发光显示载具与基板，但事实上由于溶剂中含有少许微尘颗粒，在去除溶剂之后，仍会有部分微尘颗粒残留在载具与基板上，也会影响载具与基板整体的洁净度，因此单纯利用超声波震荡清洗并无法真正达到清洁的目的。
发明内容
本发明的主要目的在于解决上述现有技术的缺陷，避免缺陷存在，本发明是在超声波振荡清洗过程后加入一蒸气清洗过程，其是将清洗溶剂形成蒸气状，借此高洁净蒸气状的溶剂清洗载具与基板，以获得较高的清洁度。
有关本发明的详细内容及技术说明，现配合
如下。
图1为本发明有机电激发光显示器载具与基板的清洗方法的示意图。
图2为载有有机电激发光显示基板的常用载具。
具体实施例方式
参见图1、2，为本发明有机电激发光显示器载具与基板的清洗方法的示意图、及载有有机电激发光显示器基板的常用载具。如图所示首先，将装载有机电激发光显示器基板T1的载具T置于一预备清洗单元的承载台，并借由传送滚轮(由于该传送滚轮为已知的机械构造，故在此不再赘述)送入一刷洗单元10，因该载具T与基板T1在长时间放置或搬运过程中，会残留许多较大颗粒的污染物及氢氧化钾溶液，因此先经由刷洗单元10，将纯水喷洒于载具T与基板T1上并进行刷洗动作，以去除载具T与基板T1上较大颗粒的污染物及氢氧化钾溶液，而刷洗单元10的出口端设有风刀可将载具T与基板T1上的水份吸干。
再将装载有机电激发光显示器基板T1的载具T送入一高超声波清洗单元20，利用高超声波清洗单元20将载具T与基板T1浸渍于多种交替溶剂中，并以适当频率的超声波加速震荡该载具T与基板T1，以去除载具T与基板T1上剩余较小颗粒的污染物及氢氧化钾溶液。
该载具T与基板T1经由上述刷洗单元10及高超声波清洗单元20清洗后并无法得到良好的洁净度，因为清洗溶剂中不可避免地仍会含有少量的微尘污染物，在去除该溶剂后，仍会有部分微尘污染物残留在载具T与基板T1上，进而影响载具T与基板T1整体洁净度，导致元件的制程率与可靠度下降。
据此，本发明为了使载具T与基板T1表面得到最佳的洁净度，因此在高超声波振荡清洗单元20的流程后，加入至少一种以上的蒸气清洗单元30，其清洗方法是将载具T与基板T1以特定方位设置在一蒸气浴槽中，且该载具T与基板T1的待洗面朝下以利清洗，并将该蒸气浴槽中的清洗溶剂以特定功率加热形成蒸气状，由于蒸气状的溶剂中含有极少的污染物，因此可获得极为洁净的蒸气溶剂，再将蒸气溶剂以特定方式导流至载具T与基板T1的待洗面，据此将载具T与基板T1置于蒸气浴槽中蒸洗一段时间，当蒸气溶剂流至载具T与基板T1上时，由于该载具T与基板T1温度较低，因此该蒸气溶剂会冷凝于其表面上，进而清除该载具T与基板T1表面所残留的微尘颗粒及污染物，其后再以热风刀除去溶剂。
最后，经由一干燥单元40，利用空气吹干方式及红外线加热方式对载具T与基板T1表面进行吹干、烘烤；再经由一改质单元50，利用臭氧对载具T与基板T1表面进行氧化，并利用紫化光或电浆光具有高能量的特性，对载具T与载具T1表面分子进行改质，以利于制作有机电激发光的元件。
以上所述，仅为本发明较佳实施例而已，不能以其限定本发明实施的范围，即大凡依本发明申请专利范围所作的均等变化与修饰，皆应仍属本发明专利涵盖的范围内。
权利要求
1.一种有机电激发光显示器载具与基板的清洗方法，其特征在于该方法包括如下步骤a)将纯水喷洒于载具(T)与基板(T1)上并进行刷洗动作，以去除载具(T)与基板(T1)上较大颗粒的污染物及氢氧化钾溶液；b)将载具(T)与基板(T1)浸渍于多种交替溶剂中，并以适当频率的超声波加速震荡该载具(T)与基板(T1)，以去除剩余较小颗粒的污染物及氢氧化钾溶液；c)利用一特定功率将清洗溶剂加热形成蒸气状，借由蒸气状的溶剂中含有极少的污染物，因此可获得极为洁净的蒸气溶剂，再将此蒸气溶剂以特定方式导流至载具(T)与基板(T1)的待洗面，借以清除该载具(T)与基板(T1)表面所残留的微尘颗粒及污染物；d)对载具(T)与基板(T1)表面进行吹干、烘烤。
2.根据权利要求1所述的有机电激发光显示器载具与基板的清洗方法，其特征在于，该步骤b)将载具(T)与基板(T1)浸渍于多种交替溶剂中，并以超声波加速震荡该载具(T)与基板(T1)，去除剩余较小颗粒的污染物及氢氧化钾溶液中的超声波溶剂振荡步骤是至少一种以上。
3.根据权利要求1所述的有机电激发光显示器载具与基板的清洗方法，其特征在于，该步骤c)利用一特定功率将清洗溶剂加热形成蒸气状，借由蒸气状的溶剂中含有极少的污染物，因此可获得极为洁净的蒸气溶剂，再将此蒸气溶剂以特定方式导流至载具(T)与基板(T1)的待洗面，借以清除该载具(T)与基板(T1)表面所残留的微尘颗粒及污染物的溶剂蒸气清洗步骤是至少一种以上。
4.根据权利要求1所述的有机电激发光显示器载具与基板的清洗方法，其特征在于，该清洗方法还包括对载具(T)与基板(T1)表面进行氧化，并利用高能量的光线，对载具(T)与基板(T1)表面的分子进行改质，以利于制作有机电激发光的元件。
5.根据权利要求4所述的有机电激发光显示器载具与基板的清洗方法，其特征在于该高能量的光线可为紫外光。
6.根据权利要求4所述的有机电激发光显示器载具(T)与基板(T1)的清洗方法，其特征在于该高能量的光线可为电浆光。
全文摘要
一种有机电激发光显示器载具与基板的清洗方法，其清洗流程为先以纯水喷洒于载具或基板上并进行刷洗动作，以去除基板或载具上较大颗粒的污染物及氢氧化钾溶液；再将载具或基板浸渍于数种交替溶剂中，并以超声波加速震荡该载具或基板，移除剩余较小颗粒的污染物及氢氧化钾溶液；再将该载具或基板以特定方位设置于一蒸气浴槽中，该蒸气浴槽中的溶剂以特定功率加热形成蒸气状，借由蒸气状的溶剂中含有极少的污染物，获得极为洁净的蒸气溶剂，再将此蒸气溶剂以特定方式导流至载具或基板的待洗面，以确实移除该载具或基板表面所残留的微尘颗粒及污染物；最后再对载具或基板表面进行吹干、烘烤及改质作业，借以得到极为洁净的有机电激发光显示器载具与基板。
文档编号B08B3/12GK1522804SQ0310483
公开日2004年8月25日 申请日期2003年2月19日 优先权日2003年2月19日
发明者张书文, 林桂雪 申请人:胜园科技股份有限公司