掩膜板组、彩膜基板及其制作方法、检测装置、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜板组、彩膜基板及其制作方法、检测装置、显示装置。
【背景技术】
[0002]彩膜基板主要包括衬底基板、背板铟锡氧化物膜、黑矩阵、彩膜层、保护膜层以及隔垫物。为检测每层的制备精度，如图1所示，彩膜基板包括多个靠近其角部的标记区，每个标记区均设置多个黑矩阵标记块5和多个不同颜色的色阻标记块3，黑矩阵标记块5与黑矩阵同步形成，每种颜色的色阻标记块3与相应颜色的色阻块4同步形成。多个黑矩阵标记块5被不同颜色的色阻标记块3覆盖。彩膜基板制备完成后，利用检测装置检测每个色阻标记块3和相应的黑矩阵标记块5的中心是否对齐，如果对齐，表明显示区的滤光色阻块位置相对应，否则，表明显示区的滤光色阻块位置出现偏差。
[0003]为了降低彩膜基板的制作成本，在制作彩膜层时，共用一张图2所示的掩膜板来制作不同颜色的色阻块，该掩膜板的对应于每个标记区的位置均设置有一个第一透光孔la，用于形成每制作一种颜色的色阻块，在衬底基板的标记区同时形成了相应颜色的色阻标记块，制作黑矩阵的掩膜板如图3所示，对应于每个标记区的位置均设置有多个第二透光孔2a。因此，彩膜基板制作完成后，相邻两个色阻标记块3的中心间距dl等于同一行中相邻两个色阻块4的中心间距d2。在利用检测装置进行检测时，视野内会出现两个黑矩阵标记块5和相应的两个色阻块对位标记3，如图4所示，由于光线因素，无法对两个色阻块对位标记进行区分，容易造成识别错误，从而降低检测结果准确性。
【发明内容】
[0004]本发明的目的在于提供一种掩膜板组、彩膜基板及其制作方法、检测装置、显示装置，以使得在不增加制作成本的前提下，提高彩膜基板的检测准确率。
[0005]本发明提供一种掩膜板组，用于制作彩膜基板，所述彩膜基板包括滤光区和多个标记区，所述滤光区被划分为多个像素单元，每个像素单元均包括沿行方向排列的多个不同颜色的子像素，所述掩膜板组包括:
[0006]第一掩膜板，所述第一掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有多个黑矩阵第一标记掩膜图形，且距离最近的两个所述黑矩阵第一标记掩膜图形的中心间距不小于同一行中相邻两个所述子像素的中心间距的两倍；
[0007]第二掩膜板，所述第二掩膜板对应于所述滤光区的位置形成有与其中一种颜色的多个子像素一一对应的多个色阻块掩膜图形，所述第二掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有沿列方向排列的至少两个色阻标记掩膜图形；
[0008]当所述第一掩膜板与所述彩膜基板的对正时，对应于同一个标记区的多个黑矩阵第一标记掩膜图形能够在该标记区形成多个第一投影，当所述第二掩膜板的色阻块掩膜图形依次与各种颜色的子像素对正时，对应于同一个标记区的多个色阻标记掩膜图形能够在该标记区形成多列第二投影，同一个标记区中，至少两个第一投影分别对应不同列的第二投影，且所述第一投影位于相应的第二投影的范围内。
[0009]优选地，在所述第一掩膜板的对应于任意一个所述标记区的位置，所述黑矩阵第一标记掩膜图形的个数等于所述像素单元内子像素的颜色种类数，在同一标记区中，多个所述第一投影分别与位于互不相同的列中的多个所述第二投影一一对应。
[0010]优选地，所述第二掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有两个所述色阻标记掩膜图形，所述第一掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有三个所述黑矩阵第一标记掩膜图形，其中两个所述黑矩阵第一标记掩膜图形位于同一行中，且该两个黑矩阵第一标记掩膜图形中心连线的垂直平分线穿过第三个第一标记掩膜图形。
[0011]优选地，所述掩膜板组还包括用于形成所述彩膜基板的隔垫物层的第三掩膜板，所述第三掩膜板的对应于每个所述标记区的位置均形成有至少一个隔垫物标记掩膜图形，所述第一掩膜板的对应于所述标记区的位置还形成有黑矩阵第二标记掩膜图形，当所述第一掩膜板和所述第三掩膜板均与所述彩膜基板对正时，所述黑矩阵第二标记掩膜图形在所述彩膜基板上的正投影位于所述隔垫物标记掩膜图形在所述彩膜基板上的正投影范围内。
[0012]优选地，所述黑矩阵第一标记掩膜图形的长度和宽度均在45?50μπι之间；
[0013]所述黑矩阵第二标记掩膜图形的长度和宽度均在45?50μπι之间。
[0014]优选地，在所述第二掩膜板的对应于同一个所述标记区的位置，相邻两个所述色阻标记掩膜图形的中心间距在300?320μπι之间。
[0015]优选地，所述色阻标记掩膜图形的长度和宽度均在85?95μπι之间。
[0016]优选地，所述第一掩膜板对应于所述滤光区的位置还形成有网格状的黑矩阵掩膜图形。
[0017]相应地，本发明还提供一种利用上述掩膜板组制作彩膜基板的制作方法，所述制作方法包括:
[0018]S1、形成黑矩阵材料层；
[0019]S2、利用所述第一掩膜板对所述黑矩阵材料层进行曝光并显影，以形成多个对应于所述黑矩阵第一掩膜图形的黑矩阵第一标记块；
[0020]S3、分别形成多种不同颜色的色阻块，其中，每形成一种颜色的色阻块均包括:
[0021]S3a、形成相应颜色的色阻材料层；
[0022]S3b、利用所述第二掩膜板对所述色阻材料层进行曝光并显影，以形成相应颜色的多个对应于所述色阻掩膜图形的色阻块，同时形成相应颜色的多个对应于所述色阻标记掩膜图形的色阻标记块；
[0023]并且，同一个所述标记区中的至少两个黑矩阵第一标记块被不同颜色的色阻标记块覆盖。
[0024]优选地，在所述第一掩膜板的对应于任意一个所述标记区的位置，所述黑矩阵第一标记掩膜图形的个数等于待形成的色阻块的颜色种类数，并使得在步骤S3结束后，同一个所述标记区的多个黑矩阵第一标记块分别被颜色互不相同的多个色阻标记块覆盖。
[0025]优选地，所述第一掩膜板对应于每个所述标记区的位置还形成有黑矩阵第二标记掩膜图形，以使得在所述步骤S2中，还形成对应于所述黑矩阵第二标记掩膜图形的黑矩阵第二标记块；
[0026]所述制作方法还包括在所述步骤S3之后进行的:
[0027]S4、形成隔垫物材料层；
[0028]S5、对所述隔垫物材料层进行曝光并显影，以形成覆盖所述黑矩阵第二标记块的隔垫物标记块。
[0029]相应地，本发明还提供一种彩膜基板，包括滤光区和多个标记区，所述滤光区被划分为多个像素单元，每个像素单元内均设置有沿行方向排列的颜色互不相同的多个色阻块，其特征在于，
[0030]每个所述标记区均设置有排列为至少两行的多个色阻标记块，位于不同列的色阻标记块的颜色不同，同一列中的色阻标记块的颜色相同，同一行中相邻两个色阻标记块的中心间距等于同一行中相邻两个子像素的中心间距；
[0031]每个所述标记区还设置有多个黑矩阵第一标记块，在同一个所述标记区，至少两个所述黑矩阵第一标记块分别被颜色不同的色阻标记块覆盖，且距离最近的两个所述黑矩阵第一标记块的中心间距不小于同一行中相邻两个所述色阻块的中心间距的两倍。
[0032]优选地，在任意一个所述标记区，所述黑矩阵第一标记块的个数等于所述像素单元内色阻块的颜色种类数，在同一个所述标记区，多个所述黑矩阵第一标记块分别被颜色互不相同的多个色阻标记块覆盖。
[0033]优选地，每个像素单元内均设置有三个所述色阻块，每个所述标记区均设置有三个所述黑矩阵第一标记块以及排列为两行三列的多个所述色阻标记块，三个所述黑矩阵第一标记块分别被第一行中间的色阻标记块、第二行首尾两个色阻标记块覆盖。
[0034]优选地，每个所述标记区还设置有至少一个隔垫物标记块和与所述黑矩阵第一标记块同层设置的一个黑矩阵第二标记块，所述黑矩阵第二标记块被所述隔垫物标记块覆盖，所述黑矩阵第二标记块和与其距离最近黑矩阵第一标记块的中心间距不小于同一行中相邻两个所述色阻块的中心间距的两倍。
[0035]优选地，所述黑矩阵第一标记块的横截面为长度和宽度均在45?50μπι之间的矩形；
[0036]所述黑矩阵第二标记块的横截面为长度和宽度均在45?50μπι之间的矩形。
[0037]优选地，在同一个所述标记区，相邻两个颜色相同的色阻标记块的中心间距在300?320μηι之间。
[0038]优选地，所述色阻标记块的横截面为长度和宽度均在85?95μπι之间的矩形。
[0039]优选地，所述滤光区还设置有网格状的黑矩阵，所述黑矩阵与所述黑矩阵第一标记块同层设置，所述网格状的每个网格均对应一个所述色阻块。
[0040]相应地，本发明还提供一种检测装置，用于检测上述彩膜基板上的黑矩阵第一标记块与相应的色阻标记块是否对正，所述检测装置包括图像获取窗口，用于获取所述黑矩阵第一标记块和相应的色阻标记块的图像，所述图像获取窗口的宽度小于位于距离最近的两个所述黑矩阵第一标记块的中心间距。
[0041]相应地，本发明还提供一种显示装置，包括本发明提供的上述彩膜基板。
[0042]利用本发明提供的掩膜板组制作的彩膜基板，其任意一个标记区，同一行的相邻两个色阻标记块的中心间距等于同一行中相邻两个色阻块的中心间距，因此，在制作所述彩膜基板时，可以利用同一张掩膜板来制作不同颜色的色阻块以及不同颜色的色阻标记块，从而节省了制作成本。并且距离最近的两个黑矩阵第一标记