掩膜板组、彩膜基板及其制作方法、检测装置、显示装置的制造方法_3

文档序号:9726625阅读:来源:国知局
三个黑矩阵第一标记块41。每行的三个色阻标记块43的颜色互不相同,例如R、G、B三种颜色,每列的两个色阻标记块43的颜色相同,并且,三个黑矩阵第一标记块41分别被第一行第二个、第二行第一个和第二行第三个色阻标记块43覆盖。
[0072]如图5所示,第一掩膜板10的对应于所述滤光区的位置还形成有网格状的黑矩阵掩膜图形13,从而在衬底基板上形成黑矩阵第一标记块41的同时,还在衬底基板的滤光区形成网格状的黑矩阵45(如图9所示)。
[0073]进一步地,所述掩膜板组还包括用于形成所述彩膜基板的隔垫物层的第三掩膜板30,如图8所示,第三掩膜板30的对应于每个所述标记区的位置均形成有至少一个隔垫物标记掩膜图形31,第一掩膜板10的对应于每个所述标记区的位置还形成有黑矩阵第二标记掩膜图形12。当第一掩膜板10和第三掩膜板30均与所述彩膜基板对正时,黑矩阵第二标记掩膜图形12在所述彩膜基板上的正投影位于所述隔垫物标记掩膜图形31在所述彩膜基板上的正投影范围内。也就是说,当第一掩膜板10与所述彩膜基板对正以形成黑矩阵层时,可以在彩膜基板的每个标记区形成与黑矩阵第二标记掩膜图形12对应的黑矩阵第二标记块42(如图9所示),当第三掩膜板30与所述彩膜基板对正以制作隔垫物层时,可以在彩膜基板的每个标记区形成对应于隔垫物标记掩膜图形31的隔垫物标记块46,且黑矩阵第二标记块42被隔垫物标记块46覆盖。
[0074]如图8所示,第三掩膜板30的对应于所述滤光区的位置还形成有多个隔垫物掩膜图形32,从而在衬底基板的滤光区形成多个隔垫物,隔垫物掩膜图形32的位置与黑矩阵掩膜图形的位置关系应当满足:利用第三掩膜板形成的隔垫物位于第一掩膜板10形成的黑矩阵上。
[0075]如图9和图10所示,利用第一掩膜板10在形成黑矩阵第一标记块41的同时,还可以在每个所述标记区均形成与黑矩阵第二标记掩膜图形12相对应黑矩阵第二标记块42。利用第三掩膜板30可以在每个所述标记区均形成至少一个隔垫物标记块46,且黑矩阵第二标记块42被隔垫物标记块46覆盖。因此,可以通过检测黑矩阵第二标记块42的中心和隔垫物标记块46的中心是否对正,从而判断彩膜基板滤光区形成的隔垫物和黑矩阵的位置是否相对应。
[0076]具体地,黑矩阵第一标记掩膜图形11的长度和宽度均在45?50μπι之间,例如,其长度和宽度均为48μπι;黑矩阵第二标记掩膜图形12的长度和宽度均在45?50μπι之间,例如,其长度和宽度均为48μπι。色阻标记掩膜图形22应大于黑矩阵第一标记掩膜图形11,以使得所述第一投影能够位于第二投影的范围内,具体地,色阻标记掩膜图形22的长度和宽度均在85?95μπι之间,例如,长度和宽度均为90μπι。隔垫物标记掩膜图形31的大小可以和色阻标记掩膜图形22相同。
[0077]具体地,如图7所述,在第二掩膜板20的对应于同一个所述标记区的位置,相邻两个色阻标记掩膜图形22的中心间距d3在300?320μπι之间。
[0078]作为本发明的第二个方面,提供一种利用上述掩膜板制作彩膜基板的制作方法,所述制作方法包括:
[0079]S1、形成黑矩阵材料层;
[0080]S2、利用所述第一掩膜板对所述黑矩阵材料层进行曝光并显影,以形成多个对应于黑矩阵第一掩膜图形的黑矩阵第一标记块;
[0081]S3、分别形成多种不同颜色的色阻块,其中,每形成一种颜色的色阻块均包括:
[0082]S3a、形成相应颜色的色阻材料层;
[0083]S3b、利用所述第二掩膜板对所述色阻材料层进行曝光并显影,以形成相应颜色的多个对应于所述色阻掩膜图形的色阻块,同时形成相应颜色的多个对应于所述色阻标记掩膜图像的色阻标记块。
[0084]并且,同一个所述标记区中至少两个黑矩阵第一标记块被不同颜色的色阻标记块覆盖。
[0085]可以理解的是,形成不同颜色的色阻块时,第二掩膜板相对于衬底基板的位置也不同。步骤S3结束后,衬底基板40的滤光区形成了多种颜色的色阻块、每个标记区均形成了多列色阻标记块。
[0086]具体地,在第一掩膜板10的对应于任意一个所述标记区的位置,黑矩阵第一标记掩膜图形的个数等于待形成的色阻块的颜色的种类数(即,上述子像素的颜色种类数),并使得在步骤S3结束后,同一个所述标记区的多个黑矩阵第一标记块41分别被颜色互不相同的多个色阻标记块43覆盖,如图9和图10所示。
[0087]进一步地,如上文所述,第一掩膜板10的对应于每个所述标记区的位置还形成有黑矩阵第二标记掩膜图形12,以使得在步骤S2中,形成黑矩阵第一标记块的同时,还形成对应于所述黑矩阵第二标记掩膜图形的黑矩阵第二标记块。所述制作方法还包括在步骤S3之后进彳丁的:
[0088]S4、形成隔垫物材料层;
[0089]S5、对所述隔垫物材料层进行曝光并显影,以形成覆盖所述黑矩阵第二标记块的隔垫物标记块。
[0090]作为本发明的第三个方面,提供一种采用上述制作方法制作的彩膜基板,如图9和图10所示,所述彩膜基板包括滤光区和多个标记区,所述标记区为衬底基板40的靠近其角部的位置。所述滤光区被划分为多个像素单元,每个像素单元内均设置有沿行方向排列的颜色互不相同的多个色阻块44。每个所述标记区均设置有排列为至少两行的多个色阻标记块43,位于不同列的色阻标记块43的颜色不同,同一列中的色阻标记块43的颜色相同,同一行中相邻两个色阻标记块43的中心间距等于同一行中相邻两个色阻块的中心间距(图9中所示的D)。
[0091]每个所述标记区还设置有多个黑矩阵第一标记块41,在同一个所述标记区,至少两个黑矩阵第一标记块41分别被颜色不同的色阻标记块43覆盖,且距离最近的两个黑矩阵第一标记块41的中心间距不小于同一行中相邻两个色阻块44的中心间距的两倍。
[0092]由于现有技术的彩膜基板的标记区中,黑矩阵第一标记块、不同颜色的多个色阻标记块均排成一列,同时考虑掩膜板的共用,使得相邻两个黑矩阵第一标记块之间的间距过小,等于同一行中相邻两个色阻块的中心间距,因此,在利用检测装置检测色阻标记块是否与黑矩阵第一标记块对正时,检测窗口内出现两个相同的黑矩阵第一标记块和两个相似的色阻标记块,而检测装置时通过轮廓来识别图像的位置,很难判断出两个颜色的区别,因此,难以判断出窗口中的哪个是需要检测的色阻标记块,从而降低检测结果的准确性。
[0093]而在本发明提供的彩膜基板中,在同一个标记区,同一行的相邻两个色阻标记块的中心间距等于同一行中相邻两个色阻块的中心间距,因此,在制作所述彩膜基板时,可以利用同一张掩膜板来制作不同颜色的色阻块以及不同颜色的色阻标记块,从而节省了制作成本。并且距离最近的两个黑矩阵第一标记块的中心间距不小于同一行中相邻两个所述色阻块的中心间距的两倍,因此,在利用检测装置检测色阻标记块是否与黑矩阵第一标记块对正时,检测窗口内只会出现一个黑矩阵第一标记块,检测装置只需根据该第一黑矩阵第一标记块的轮廓判断其中心位置,并判断出该黑矩阵第一标记块对应的色阻标记块的中心,因此,每次检测会只会得到一组检测值,从而提高了检测结果的准确性。
[0094]具体地,在任意一个所述标记区,黑矩阵第一标记块41的个数等于所述像素单元内色阻块的颜色种类数,在同一个所述标记区,多个黑矩阵第一标记块41分别被互不相同的多个色阻标记块43覆盖。
[0095]具体地,每个像素单元内均设置有三个色阻块44,每个所述标记区均设置有三个黑矩阵第一标记块41以及排列为两行三列的多个色阻标记块43,三个黑矩阵第一标记块41分别被第一行中间的色阻标记块43、第二行首尾两个色阻标记块43覆盖。
[0096]如图9所示,每个所述标记区还设置有至少一个隔垫物标记块46和与黑矩阵第一标记块41同层设置的一个黑矩阵第二标记块42,黑矩阵第二标记块42被隔垫物标记块46覆盖,黑矩阵第二标记块42和与其距离最近黑矩阵第一标记块41的中心间距不小于同一行中相邻两个色阻块44的中心间距的两倍。
[0097]所述彩膜基板的滤光区还设置有网格状的黑矩阵45,黑矩阵45与黑矩阵第一标记块41同层设置,所述网格状的每个网格均对应一个色阻块44。彩膜基板还包括设置在黑矩阵45上的隔垫物,黑矩阵第一标记块41、黑矩阵第二标记块42可以和黑矩阵45同步形成,隔垫物标记块46可以和隔垫物同步形成。彩膜基板制作完成后,通过判断黑矩阵第二标记块42和隔垫物标记块46是否对正(即二者中心是否对齐),来判断彩膜基板滤光区的隔垫物是否形成在黑矩阵上。
[0098]具体地,黑矩阵第一标记块41的横截面为长度和宽度均在45?50μπι之间的矩形;黑矩阵第二标记块42的横截面为长度和宽度均在45?50μπι之间的矩形。
[0099]当然,黑矩阵第一标记块41和黑矩阵第二标记块42也可以为其他形状,如,圆柱形,其截面为45?50μηι之间的圆形。
[0100]具体地,在同一个所述标记区,相邻两个颜色相同的色阻标记块43的中心间距在300?320μπι之间。本发明对同一行中相邻两个色阻块44的中心间距不作限定,可以根据产品的需要具体设置,例如在100?11 Ομπι之间。
[0101]本发明对色阻标记块43的形状不作限定,如,圆柱形、方柱等。具体地,色阻标记块43的横截面为长度和宽度均在85?95μπι之间的矩形。
[0102]作为本发明的第四个方面,提供一种检测装置,用于检
当前第3页1 2 3 4 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1