测上述彩膜基板上的黑矩阵第一标记块和相应的色阻标记块是否对正，其中，所述检测装置包括图像获取窗口，用于获取所述黑矩阵第一标记块和相应的色阻标记块的图像，所述图像获取窗口的宽度小于位于距离最近的两个所述黑矩阵第一标记块的中心间距，以使得每次检测时，所述图像获取窗口仅获取一个黑矩阵第一标记块的图像，减少了因出现相似结构而无法区分的现象，从而提高了检测准确性。
[0103]作为本发明的第五个方面，提供一种显示装置，包括本发明提供的上述彩膜基板。
[0104]由于检测所述彩膜基板的黑矩阵第一标记块和相应的色阻标记块是否对正时，检测准确率提高，从而防止质量较差的彩膜基板进入下一工艺，从而保证显示装置的质量。
[0105]可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种掩膜板组，用于制作彩膜基板，所述彩膜基板包括滤光区和多个标记区，所述滤光区被划分为多个像素单元，每个像素单元均包括沿行方向排列的多个不同颜色的子像素，其特征在于，所述掩膜板组包括: 第一掩膜板，所述第一掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有多个黑矩阵第一标记掩膜图形，且距离最近的两个所述黑矩阵第一标记掩膜图形的中心间距不小于同一行中相邻两个所述子像素的中心间距的两倍； 第二掩膜板，所述第二掩膜板对应于所述滤光区的位置形成有与其中一种颜色的多个子像素一一对应的多个色阻块掩膜图形，所述第二掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有沿列方向排列的至少两个色阻标记掩膜图形； 当所述第一掩膜板与所述彩膜基板的对正时，对应于同一个标记区的多个黑矩阵第一标记掩膜图形能够在该标记区形成多个第一投影，当所述第二掩膜板的色阻块掩膜图形依次与各种颜色的子像素对正时，对应于同一个标记区的多个色阻标记掩膜图形能够在该标记区形成多列第二投影，同一个标记区中，至少两个第一投影分别对应不同列的第二投影，且所述第一投影位于相应的第二投影的范围内。2.根据权利要求1所述的掩膜板组，其特征在于，在所述第一掩膜板的对应于任意一个所述标记区的位置，所述黑矩阵第一标记掩膜图形的个数等于所述像素单元内子像素的颜色种类数，在同一标记区中，多个所述第一投影分别与位于互不相同的列中的多个所述第二投影 对应。3.根据权利要求2所述的掩膜板组，其特征在于，所述第二掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有两个所述色阻标记掩膜图形，所述第一掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有三个所述黑矩阵第一标记掩膜图形，其中两个所述黑矩阵第一标记掩膜图形位于同一行中，且该两个黑矩阵第一标记掩膜图形中心连线的垂直平分线穿过第三个第一标记掩膜图形。4.根据权利要求1所述的掩膜板组，其特征在于，所述掩膜板组还包括用于形成所述彩膜基板的隔垫物层的第三掩膜板，所述第三掩膜板的对应于每个所述标记区的位置均形成有至少一个隔垫物标记掩膜图形，所述第一掩膜板的对应于所述标记区的位置还形成有黑矩阵第二标记掩膜图形，当所述第一掩膜板和所述第三掩膜板均与所述彩膜基板对正时，所述黑矩阵第二标记掩膜图形在所述彩膜基板上的正投影位于所述隔垫物标记掩膜图形在所述彩膜基板上的正投影范围内。5.根据权利要求4所述的掩膜板组，其特征在于，所述黑矩阵第一标记掩膜图形的长度和宽度均在45?50μπι之间； 所述黑矩阵第二标记掩膜图形的长度和宽度均在45?50μπι之间。6.根据权利要求1所述的掩膜板组，其特征在于，在所述第二掩膜板的对应于同一个所述标记区的位置，相邻两个所述色阻标记掩膜图形的中心间距在300?320μπι之间。7.根据权利要求1至6中任意一项所述的掩膜板组，其特征在于，所述色阻标记掩膜图形的长度和宽度均在85?95μπι之间。8.根据权利要求1至6中任意一项所述的掩膜板组，其特征在于，所述第一掩膜板对应于所述滤光区的位置还形成有网格状的黑矩阵掩膜图形。9.一种利用权利要求1至8中任意一项所述的掩膜板组制作彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括: 51、形成黑矩阵材料层； 52、利用所述第一掩膜板对所述黑矩阵材料层进行曝光并显影，以形成多个对应于所述黑矩阵第一掩膜图形的黑矩阵第一标记块； 53、分别形成多种不同颜色的色阻块，其中，每形成一种颜色的色阻块均包括: S3a、形成相应颜色的色阻材料层； S3b、利用所述第二掩膜板对所述色阻材料层进行曝光并显影，以形成相应颜色的多个对应于所述色阻掩膜图形的色阻块，同时形成相应颜色的多个对应于所述色阻标记掩膜图形的色阻标记块； 并且，同一个所述标记区中的至少两个黑矩阵第一标记块被不同颜色的色阻标记块覆至ΠΠ ο10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，在所述第一掩膜板的对应于任意一个所述标记区的位置，所述黑矩阵第一标记掩膜图形的个数等于待形成的色阻块的颜色种类数，并使得在步骤S3结束后，同一个所述标记区的多个黑矩阵第一标记块分别被颜色互不相同的多个色阻标记块覆盖。11.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述第一掩膜板对应于每个所述标记区的位置还形成有黑矩阵第二标记掩膜图形，以使得在所述步骤S2中，还形成对应于所述黑矩阵第二标记掩膜图形的黑矩阵第二标记块； 所述制作方法还包括在所述步骤S3之后进行的: 54、形成隔垫物材料层； 55、对所述隔垫物材料层进行曝光并显影，以形成覆盖所述黑矩阵第二标记块的隔垫物标记块。12.—种彩膜基板，包括滤光区和多个标记区，所述滤光区被划分为多个像素单元，每个像素单元内均设置有沿行方向排列的颜色互不相同的多个色阻块，其特征在于， 每个所述标记区均设置有排列为至少两行的多个色阻标记块，位于不同列的色阻标记块的颜色不同，同一列中的色阻标记块的颜色相同，同一行中相邻两个色阻标记块的中心间距等于同一行中相邻两个子像素的中心间距； 每个所述标记区还设置有多个黑矩阵第一标记块，在同一个所述标记区，至少两个所述黑矩阵第一标记块分别被颜色不同的色阻标记块覆盖，且距离最近的两个所述黑矩阵第一标记块的中心间距不小于同一行中相邻两个所述色阻块的中心间距的两倍。13.根据权利要求12所述的彩膜基板，其特征在于，在任意一个所述标记区，所述黑矩阵第一标记块的个数等于所述像素单元内色阻块的颜色种类数，在同一个所述标记区，多个所述黑矩阵第一标记块分别被颜色互不相同的多个色阻标记块覆盖。14.根据权利要求12所述的彩膜基板，其特征在于，每个像素单元内均设置有三个所述色阻块，每个所述标记区均设置有三个所述黑矩阵第一标记块以及排列为两行三列的多个所述色阻标记块，三个所述黑矩阵第一标记块分别被第一行中间的色阻标记块、第二行首尾两个色阻标记块覆盖。15.根据权利要求12所述的彩膜基板，其特征在于，每个所述标记区还设置有至少一个隔垫物标记块和与所述黑矩阵第一标记块同层设置的一个黑矩阵第二标记块，所述黑矩阵第二标记块被所述隔垫物标记块覆盖，所述黑矩阵第二标记块和与其距离最近黑矩阵第一标记块的中心间距不小于同一行中相邻两个所述色阻块的中心间距的两倍。16.根据权利要求15所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵第一标记块的横截面为长度和宽度均在45?50μηι之间的矩形； 所述黑矩阵第二标记块的横截面为长度和宽度均在45?50μπι之间的矩形。17.根据权利要求12所述的彩膜基板，其特征在于，在同一个所述标记区，相邻两个颜色相同的色阻标记块的中心间距在300?320μπι之间。18.根据权利要求12至17中任意一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻标记块的横截面为长度和宽度均在85?95μπι之间的矩形。19.根据权利要求12至17中任意一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述滤光区还设置有网格状的黑矩阵，所述黑矩阵与所述黑矩阵第一标记块同层设置，所述网格状的每个网格均对应一个所述色阻块。20.—种检测装置，用于检测权利要求12至19中任意一项所述的彩膜基板上的黑矩阵第一标记块与相应的色阻标记块是否对正，其特征在于，所述检测装置包括图像获取窗口，用于获取所述黑矩阵第一标记块和相应的色阻标记块的图像，所述图像获取窗口的宽度小于位于距离最近的两个所述黑矩阵第一标记块的中心间距。21.—种显示装置，其特征在于，包括权利要求12至19中任意一项所述的彩膜基板。
【专利摘要】本发明提供一种掩膜板组、彩膜基板及其制作方法、检测装置、显示装置。所述掩膜板组用于制作彩膜基板，所述掩膜板组包括：第一掩膜板，所述第一掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有多个黑矩阵第一标记掩膜图形，且距离最近的两个所述黑矩阵第一标记掩膜图形的中心间距不小于同一行中相邻两个所述子像素的中心间距的两倍；第二掩膜板，所述第二掩膜板对应于所述滤光区的位置形成有与其中一种颜色的多个子像素一一对应的多个色阻块掩膜图形，所述第二掩膜板对应于每个所述标记区的位置均形成有沿列方向排列的至少两个色阻标记掩膜图形。本发明提供的掩膜板组制作的彩膜基板用于检测时，检测的准确率能够提高。
【IPC分类】G03F1/42, G09F9/30, G02F1/1335, G02F1/13
【公开号】CN105487333
【申请号】CN201610006525
【发明人】熊强, 吴洪江, 毕瑞琳, 孙红雨, 韩自力, 彭元鸿, 黎敏
【申请人】重庆京东方光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2016年1月4日