专利名称：集束射流清洗装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及的是用于清洗管路的射流器，具体是一种集束射流清洗装置。
二背景技术：
目前，用于各种管路内壁的清洗方法有很多种，大体分为化学清洗和物理清洗两类。对长距离管线一般采用物理清洗方法，现用的物理清洗方法主要是采用射流器来进行清洗。目前实际使用的射流器中，有一种“空穴射流清洗装置”，该装置由两组伞状叶片组成，这种空穴射流清洗装置在实际使用中出现的问题是局部流体流速低，空穴数量较少，因此空穴的冲击力不足，而且在清洗过程中，射流器的尾部容易积垢，影响清洗效果；在清洗时，由于管线内大量积垢及其它异物，极容易拦截住射流器，且射流器内无跟踪定位器，找到丢失的射流器费时费力，给清洗过程带来诸多不便。
三
发明内容
本实用新型的目的是针对上述问题，提供了一种集束射流清洗装置，用于解决管路内壁清洗中遇到的除垢能力差，排污效果不好，对清洗装置不能跟踪定位的问题。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是这种集束射流清洗装置由叶片、中心轴、电子发射器组成，叶片为三组，中心轴中心为空腔，电子发射器置于中心轴的空腔内；三组叶片中，一组叶片为开有斜孔的伞形叶片，伞形叶片中心有通孔贯穿中心轴与中心轴固定；另外两组为楔形叶片，每组楔形叶片由至少为两层楔形子叶片交错放置与中心轴插装。
本实用新型的有益效果是1、本实用新型由于为三组叶片，其中的伞形叶片上开有多个斜孔，使流体在空穴射流效应区的流动方向有所改变，加大了流速，空穴的数量和冲击能量大大增加，除垢能量大，排污能力强；另外伞形叶片置于集束射流清洗装置的尾部，可有效解决集束射流清洗装置的尾部积垢问题。
2、本实用新型中的中心轴内置电子跟踪仪的电子发射器，通过电子接收器很容易对清洗装置跟踪定位，解决了现有清洗装置在管路中丢失难以查找的问题，省时、省力，操作过程更容易、方便。
四
图1是本实用新型的结构示意图；图2是本实用新型中楔形叶片的结构示意图；图3是本实用新型中伞形叶片的结构示意图。
图中1中心轴、2楔形叶片、3楔形叶片、4伞形叶片、5电子发射器、6斜孔7楔形子叶片五具体实施方式
以下结合附图将本实用新型做进一步说明图1是本实用新型的结构示意图，如图所示，这种集束射流清洗装置由叶片、中心轴、电子发射器组成，中心轴1中心为空腔，电子发射装置5是一个独立的装置，置于中心轴1空腔内。叶片为三组，其中有两组为楔形叶片2、3，其结构参阅图2，每组楔形叶片至少由两层楔形子叶片7交错放置与中心轴插装。另外一组为开有斜孔6的伞形叶片4，具体结构参阅图3，伞形叶片4置于清洗装置的尾部，中心有通孔贯穿中心轴1与中心轴1固定。清洗装置各部分尺寸根据清洗管线的管径不同形成不同的系列。
使用时，先将清洗装置内的电子发射装置5装好电池，然后在管路清洗起始点开孔放入清洗装置，封闭开孔，在清洗终止点做好接收室，然后开泵。在泵的作用下，管线内的流体推动清洗装置向前运动。在水流的推动下，清洗装置快速向前移动，伞形叶片4置于清洗装置的尾部，每组楔形叶片至少由两层楔形子叶片7交错放置并与中心轴1插装，层与层之间的楔形子叶片7用胶垫间隔，因其伞形叶片4上有斜孔6，流体流经伞形叶片4上的斜孔6后改变方向，流经楔形叶片上楔形子叶片7的层间间隙提高流速后，进入叶片2、3、4形成的清洗工作区域，使区域内流体流动方向改变、流速增加，使整个清洗装置的空穴数量大大增加，流体在流动过程中形成了连续移动的低压区，这个区域的流体中含有大量的气泡，气泡冲击到管壁后迅速被压缩直至破裂，释放出巨大的能量将垢击碎，由高速液流将垢冲刷排走，因清洗装置的尾部设置伞形叶片4，有效解决了集束射流清洗装置的尾部积垢问题。
清洗过程中，如果管线内有大量积垢或其它异物，拦截住清洗装置，装于中心轴1空心处的电子发射装置5向外界连续发射电子信号，这时与其配套的电子接收装置，在距离射流器电子发射装置10米左右的范围内时，可接收到电子发射装置5的信号而发出连续的提示音，从而可以对清洗装置进行跟踪定位，很容易找到被拦截住的清洗装置，免去了很多因寻找失踪清洗装置付出的大量人力物力，操作更便利。清洗装置行走速度由液流速度和垢层的厚度决定，所用的电子发射装置5和与其配套的电子接收装置均为公知技术。
清洗完毕，将清洗装置从管路清洗终止点取出，管线的正常变径和转弯不影响清洗装置的运动。
本实用新型可用于在线清洗地下、地上长距离管道，不需拆解管线，不损伤污染管道。
权利要求1.一种集束射流清洗装置，由叶片、中心轴、电子发射器组成，其特征在于叶片为三组，中心轴(1)中心为空腔，电子发射器(5)置于中心轴(1)的空腔内；三组叶片中，一组叶片为开有斜孔(6)的伞形叶片(4)，伞形叶片(4)中心有通孔贯穿中心轴(1)与中心轴(1)固定；另外两组为楔形叶片(2、3)，每组楔形叶片由至少为两层楔形子叶片(7)交错放置与中心轴(1)插装。
2.根据权利要求1所述的集束射流清洗装置，其特征在于每组楔形叶片中的楔形子叶片(7)层与层之间用胶垫间隔。
3.根据权利要求1或2所述的集束射流清洗装置，其特征在于伞形叶片(4)放置在清洗装置的尾部。
专利摘要本实用新型涉及的是一种集束射流清洗装置。该装置由中心轴、叶片、电子发射器组成，叶片为三组，电子发射器置于中心轴的空腔内；三组叶片中，一组叶片为开有斜孔的伞形叶片，伞形叶片中心有通孔贯穿中心轴与中心轴固定；另外两组为楔形叶片，每组楔形叶片由至少为两层楔形子叶片交错放置与中心轴插装。本实用新型的特有结构使流体在空穴射流效应区的流动方向有所改变，加大了流速，空穴的数量和冲击能量大大增加，除垢能量大，排污能力强；可有效解决清洗装置的尾部积垢问题。同时清洗装置中心轴内置电子发射器，通过电子接收器很容易跟踪定位，解决了现有清洗装置在管路中丢失难以查找的问题，省时、省力，操作过程更容易、方便。
文档编号B08B9/053GK2882827SQ20062002050
公开日2007年3月28日 申请日期2006年3月29日 优先权日2006年3月29日
发明者王德庆 申请人:王德庆