专利名称：石墨舟(框)干式清洗机的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于硅晶太阳能电池生产设备维护的装置，具体是一种石墨舟 (框)干式清洗机。
背景技术：
在晶硅太阳能电池生产过程中，有一个关键的氮化硅减反射膜沉积工艺。在该氮化硅减反射膜沉积过程中，晶硅电池片的承载物为石墨舟或者石墨框。一般在工艺生产过程中，石墨舟(框)也会被沉积到氮化硅薄膜，到一定厚度以后(一般大于IOum)，需要对石墨舟(框)做清洗处理。目前业界普遍采用的传统清洗方法是使用HF/HC1混合液湿法槽式清洗，即将石墨舟浸泡在存有HF/HC1的槽中4-8小时，再用清水漂洗，再高温烘箱烘4-8小时烘干。这种方法要想完全清洗干净，必须较长的浸泡时间和较高浓度的HF/HC1，同时需要将石墨舟拆分开来，以避免有清洗死角，清洗完后，还必须经过长时间的高温烘干(400度， 4-8小时)，才能将石墨舟上的水气去除掉。因而其存在以下缺点1、清洗效率偏低，耗时长；2、使用高浓度的HF/HC1，存在一定的危险性；3、需要拆分石墨舟，存在额外机械损伤的风险。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是，提供一种结构简单、清洗效率高、清洗效果好、不操损伤设备的石墨舟(框)干式清洗机。本发明的的一个方案是该石墨舟(框)干式清洗机包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔，反应腔的入口通过进气管与NF3气体源连接，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵连接；所述进气管上安装有等离子体发生器。本发明的的另一个方案是该石墨舟(框)干式清洗机包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔，反应腔的入口通过进气管与NF3气体源连接，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵连接；反应腔外设置有射频发生器，射频发生器的引出电极连接到反应腔内的石墨舟或石墨框上。上述两个方案中，反应腔的入口处还可设置有勻流板，以使进入的气流分布更加均勻，提高清洗效果。本发明可以利用等离子体氮化硅的反应将石墨舟表面的氮化硅去除，不仅清洗效果好，并且结构简单制造、操作方便、清洗效率高；与传统的湿法槽式清洗相比，清洗过程中不用将石墨舟拆分，不用额外的烘干，效率高并能避免石墨舟的机械损伤。
图1是本发明一个实施例的结构示意图； 图2是本发明另一个实施例的结构示意图。
具体实施例方式图1所示的实施例中，石墨舟(框)干式清洗机包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔1，反应腔的入口通过进气管2与NF3气体源连接，反应腔入口处还设置有勻流板3，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵4连接；所述进气管上安装有等离子体发生
5 ο图2所示的实施例中，该石墨舟(框)干式清洗机包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔1，反应腔的入口通过进气管2与NF3气体源连接，反应腔入口处还设置有勻流板3，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵4连接；反应腔外设置有射频发生器6，射频发生器的引出电极连接到反应腔内的石墨舟或石墨框上。
权利要求
1.一种石墨舟(框)干式清洗机，其特征是它包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔(1)，反应腔的入口通过进气管(2)与NF (3)气体源连接，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵(4)连接；所述进气管上安装有等离子体发生器(5)。
2.根据权利要求1所述的石墨舟(框)干式清洗机，其特征是反应腔入口处设置有勻流板(3)。
3.—种石墨舟(框)干式清洗机，其特征是它包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔(1)，反应腔的入口通过进气管(2)与NF3气体源连接，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵(4)连接；反应腔外设置有射频发生器(6)，射频发生器的引出电极连接到反应腔内的石墨舟或石墨框上。
4.根据权利要求3所述的石墨舟(框)干式清洗机，其特征是反应腔入口处还设置有勻流板(3)。
全文摘要
本发明涉及一种用于硅晶太阳能电池生产设备维护的装置，具体是一种石墨舟(框)干式清洗机。该石墨舟(框)干式清洗机包括有一个内部可安置石墨舟或石墨框的反应腔，反应腔的入口通过进气管与NF3气体源连接，反应腔的出口通过排气管与干式真空泵连接；所述进气管上安装有等离子体发生器。本发明可以利用等离子体氮化硅的反应将石墨舟表面的氮化硅去除，不仅清洗效果好，并且结构简单制造、操作方便、清洗效率高；与传统的湿法槽式清洗相比，清洗过程中不用将石墨舟拆分，不用额外的烘干，效率高并能避免石墨舟的机械损伤。
文档编号B08B7/00GK102397859SQ20111037220
公开日2012年4月4日 申请日期2011年11月22日 优先权日2011年11月22日
发明者季高明, 蒋维楠, 黄冲 申请人:镇江大全太阳能有限公司