专利名称：流体供给装置以及使用该装置清洁薄膜的系统和方法
技术领域：
本发明涉及一种流体供给装置以及使用该装置清洁薄膜的系统和方法。更具体的是，本发明涉及一种流体供给装置，其具有均匀并稳定地供给清洁流体以清洁位于存储流体的槽中的薄膜(例如胶卷)型板的改进结构，还涉及使用该装置清洁薄膜的系统和方法。
背景技术：
例如，用于生产具有几毫米或几十毫米的膜型片的膜或辊型板(下文中称作“薄膜”)的系统实施清洁处理，以去除粘附到该辊型薄膜表面的杂质，该膜或辊型板例如地板膜或者各种功能性膜。在该膜清洁处理中，将清洁流体(例如液体)喷射到薄膜表面以去除粘附到该薄膜表面的杂质。图1是表示常规薄膜清洁系统的示意图。图2是表示对应于图1系统中的喷嘴管每个孔的流体流速的曲线图。参照图1和图2，常规的薄膜清洁系统I包括设置在清洁槽2中的流体供给装置5，其浸没在浸没液体3中并且能够喷射清洁流体，从而去除浸没在该清洁槽2中储存的浸没液体3中并连续运动的薄膜4表面(上表面和/或下表面)上出现的杂质。常规的流体供给装置5包括安装在清洁槽2中的供给管6，以从外部接收清洁流体，以及从供给管6垂直分叉的喷嘴管7，以预定压力向薄膜4喷射清洁流体。该喷嘴管7是两端封闭的中空结构，并且在长度方向上具有多个孔8。薄膜4在多个辊9上滚动并以预定速度运动。从孔8中喷射出的清洁流体对与浸没液体3关联运动的薄膜4表面施加预定压力。该压力的大小足以去除薄膜4表面上出现的杂质。换句话说，喷嘴管7中形成的孔8有几分喷嘴的功能。尽管图1所示的流体供给装置5设置在薄膜上方，但该喷嘴管7也可以仅位于薄膜4下方或者位于薄膜4的上方和下方。然而，在常规的薄膜清洁系统I中，因为用于喷射清洁流体的孔8直径比喷嘴管7小，所以从供给管6供给到喷嘴管7中的清洁流体在流经孔8时流得更快。清洁流体流速的增加使得清洁流体与清洁槽2的壁碰撞、折回，在这个过程中，清洁槽2中流体的流谱图变得复杂。这种复杂流谱图对喷嘴管7上方或下方运动的薄膜4施加了不规则的压力。如果压力偏差增大，则薄膜4会例如弯折或下垂。这种现象也就是薄膜4以折叠的状态在辊9上进入下一阶段的情况，会在薄膜4破裂时造成严重影响。
发明内容
技术问题本发明旨在解决现有技术中存在的问题，因此本发明的目的是提供一种结构改进的流体供给装置，由于该装置将常规流体供给装置中在辊型薄膜清洁处理时只会猛烈喷射出流体的单管结构变为了双管结构，从而降低或控制最终喷射出的流体的流量或流速，由此降低施加在薄膜上的压力偏差。本发明的另一个目的是提供一种使用该流体供给装置的薄膜清洁系统和方法。解决方案一方面，提供了一种流体供给装置，其包括内管，其具有多个孔，用于分配从供给单元提供的流体；外管，其包围内管设置，并且具有多个狭缝，用于将从孔分配到其中的流体喷射到外部。优选的是，该内管和外管的两端是封闭的，该内管和外管同轴设置，并且内管与外管的长度基本相等。在另一实施例中，该内管和外管可以非同轴设置。换句话说，根据一个实施例的流体供给装置包括内管，其中成行设置了多个孔；以及外管，其包围内管设置，并且具有设置在其中的多个狭缝。其中，可以适当调整内管中形成的孔之间的间隙以及外管中形成的狭缝之间的间隙，这对于本领域普通技术人员而言是容易理解的。如果使用本实施例的流体供给装置，首先将从供给单元提供并收集在内管中的流体，在控制其流量和流速的同时，通过孔提供到外管中，并且将收集在外管中的流体通过外管中形成的狭缝释放到外管外部，从而可以适当调整最终喷射出的流体的流速和流量。在根据本发明优选实施例的流体供给装置中，狭缝可以包括沿长度方向设置在外管任意一侧上的第一侧狭缝；以及设置在外管另一侧与该第一侧狭缝相对的第二侧狭缝。优选的是，该第一侧狭缝沿外管长度方向以规则间隔成行设置，并且该第二侧狭缝相对于外管中心对称形成。在根据本发明优选实施例的流体供给装置中，形成在内管中的孔的排列与狭缝的排列基本垂直。因此，当第一侧狭缝和第二侧狭缝的位置穿过外管横截面的两侧时，优选将内管中形成的孔设置为穿过内管的上表面或下表面。特别是，在实施例中，内管的孔在其上表面中呈线状设置。在根据本发明优选实施例的流体供给装置中，内管和外管的横截面是从圆形、椭圆形、矩形和六边形、或其组合中选出的任意一种形状。换句话说，内管和外管可以具有相同的横截面形状，但是，例如当内管具有圆形横截面时，外管可以具有椭圆形横截面或者各种多边形横截面之一，反之亦然。其中，圆形横截面可以降低流体的摩擦。在根据本发明优选实施例的流体供给装置中，孔包括沿长度方向设置在内管任意一侧中的第一侧孔；以及设置在内管另一侧与该第一侧孔相对设置的第二侧孔。换句话说，根据可选实施例，可以在内管中形成两行孔，这与前面的实施例不同。在根据本发明优选实施例的流体供给装置中，当内管和外管的横截面为圆形或者椭圆形时，外管与内管的直径差(例如内管外圆周与外管内圆周之间的距离)或者外管与内管的宽度差和高度差约为25 - 35mm。其中，宽度差是指内管的垂直外壁之间的距离与外管垂直内壁之间的距离之差，高度差是指内管的水平外壁之间的距离与外管的水平内壁之间的距离之差。如果内管与外管之间的间隙(例如直径、宽度或高度)小于25mm，则由于内管到外管的间隙小而使流体流速降低。如果内管与外管之间的间隙大于35_，则设备尺寸被不必要地增大，外管中的流速相对降低，因此最终喷射出的流体流速降低，由此无法达到令人满意的效果。优选的是，外管与内管之间的间隙约为30mm。在根据本发明优选实施例的流体供给装置中，每个孔的直径约为10_，每个狭缝的长度约为240mm。如果孔的直径过大，则喷射到外管中的流体流速降低，并且不易形成稳定的流谱图。如果孔的直径过小，则提供给外管的流体流速增大，会导致漩涡的产生。在根据本发明优选实施例的流体供给装置中，狭缝的宽度与孔的直径基本相等。在内管和外管的横截面均为圆形的一个实施例中，如果内管的孔直径约为10mm，则外管的直径约为130mm，并且每个狭缝的长度约为240mm。此外，在内管和外管的横截面为椭圆形的另一实施例中，如果内管的水平宽度约为200mm，垂直高度约为100mm，孔径约为10mm，则外管的宽度约为230mm，高度约为130mm，狭缝长度约为240mm。在根据本发明优选实施例的流体供给装置中，内管和外管的两端封闭，并且内管的外壁和外管的内壁形成封闭空间。位于供给单元一端的侧壁通过外管中心与内管相通。因此，位于供给单元端的侧面起到了划分内管与外管形成的封闭空间的作用。在根据本发明优选实施例的流体供给装置中，该流体可以是气体，更优选的是该流体是水与有机溶剂的混合溶液。此外，内管和外管优选由金属或塑料制成。另一方面，提供了一种薄膜清洁系统，其包括清洁槽，其中储存流体，使得薄膜能够浸没在其中同时运动；以及上述实施例中描述的流体供给装置，其安装在清洁槽内以向薄膜喷射流体。根据本实施例的薄膜清洁系统用于清洗掉历经制造满足工业需要的薄膜所需的化学处理和镀层的辊型薄膜表面上的杂质，该薄膜例如几毫米或几十毫米厚的薄片、地板膜或各种本领域普通技术人员所了解的功能性膜。在本实施例的薄膜清洁系统中，流体供给装置中使用的流体优选由清洁流体(液体)取代。换句话说，在本实施例的清洁系统中，储存在清洁槽中的浸没液体与通过该双管型流体供给装置引入的清洁流体基本上是相同的，利用泵等将通过清洁槽的排出孔释放的液体提供给该双管型流体供给装置。此外，本实施例的薄膜清洁系统中采用的流体供给装置各个部件，例如内管、外管、孔和狭缝的位置、维度、尺寸、排列、形变等与前述实施例的相同，因此不再赘述。再一方面，提供了一种薄膜清洁方法，其包括(a)以浸没在清洁槽中储存的流体中的状态移动薄膜；(b)以浸没在流体中的状态，使用包括具有多个孔的内管和具有多个狭缝的外管的双管型流体供给装置，以均匀压力将流体通过该狭缝喷射出。在本发明一个实施例中，在步骤(b)中，沿着外管长度方向将流体喷射到相对侧上。在根据本发明一个实施例的薄膜清洁方法中，可以与薄膜运动方向基本上平行地设置该双管型流体供给装置。换句话说，如果双管型流体供给装置与薄膜间隔开预定距离设置，则可以将该流体供给装置设置在清洁槽中，使得双管型流体供给装置长度方向上的中心线平行于薄膜的长度或宽度方向。换句话说，如果该双管型流体供给装置长度方向的中心线平行于薄膜长度方向设置，则通过双管型流体供给装置外管喷射出的流体相对于薄膜长度方向喷射到两个横向侧面，然而如果双管型流体供给装置长度方向的中心线平行于薄膜宽度方向设置，则流体会相对于薄膜运动方向喷射到前面和后面。在本发明的一个实施例中，双管型流体供给装置的内管和外管的横截面是圆形、椭圆形、矩形和六边形或其组合中的任意一种形状。
有益效果根据本发明的流体供给装置和薄膜清洁系统和方法具有以下效果。首先，如果通过包括具有多个孔的内管和设置在内管外部、具有多个狭缝的外管的双管型流体供给装置，将流体提供到希望的部分，则可以将流体的流速和流量调整到按照需要控制流体压力的目标所需水平。第二，由于将薄膜浸没在清洁槽中储存的流体中并移动的同时，通过将流体供给装置浸没在该流体中，使流体通过内管的孔(主喷射)和外管的狭缝(辅喷射)喷射出，因此可以降低喷射流体与清洁槽壁碰撞并折回而可能产生的不规则流谱图对运动薄膜造成的不必要的压力偏差。第三，根据该薄膜清洁系统或方法，通过降低或控制通过流体供给装置喷射出的流体的流速和流量，可以降低对薄膜造成的压力偏差，因此，在薄膜清洁处理中，可以防止由于不规则流体压力造成的薄膜低垂或弯折，由此可以解决后续处理中出现的薄膜损坏或次品等问题。
通过以下参照附图对实施例的描述，可以理解本发明的其他目的和方面。附图表示了根据示例性实施例的流体供给装置和薄膜清洁系统。然而，应当理解，本发明不限于附图中示出的组件或手段。在附图中图1是表示常规薄膜清洁系统的示意图；图2是表示对应于图1的薄膜清洁系统中采用的喷嘴管的各个孔的流体流速的曲线图；图3是示意表示根据本发明第一实施例的流体供给装置的部分截取透视图；图4是沿着图3的IV-1V线截取的截面图；图5是沿着图4的V-V线截取的截面图；图6是表示根据本发明第二实施例的流体供给装置的截面图；图7是表示根据本发明第三实施例的流体供给装置的截面图；图8是表示根据本发明第四实施例的流体供给装置的截面图；图9是表示根据本发明第五实施例的流体供给装置的截面图；图10是表示根据本发明第六实施例的流体供给装置的截面图；图11是表示根据本发明第七实施例的流体供给装置的截面图；图12是表示根据本发明第八实施例的流体供给装置的截面图；图13是表示根据本发明第九实施例的流体供给装置的截面图；图14是表示根据本发明第十实施例的流体供给装置的截面图；图15是表示根据本发明优选实施例的薄膜清洁系统的示意图；图16是表示当根据第一、第二和第七实施例的流体供给装置分别用于根据本发明优选实施例的薄膜清洁系统时，通过每个狭缝释放的流体流速测试结果的曲线图；图17是表示对应于图15的薄膜清洁系统的双管的每个狭缝的流体流速的曲线图。
具体实施例方式以下具体说明中使用的术语只是为了便于说明，无意限制本发明。诸如右、左、上表面、下表面之类的术语表示其所涉及的附图中的各个方向。诸如向内、向外之类的术语分别表示朝向或离开各个指代的装置、系统或部件几何中心的方向。诸如前、后、上、下及其相关词或短语之类的术语表示其所涉及的附图中的位置和取向，无意限制本发明。这些术语包括上述词及其派生词和同义词。将参照附图描述示例性实施例。图3是示意地表示根据本发明第一实施例的流体供给装置的部分截取透视图，图4是沿着图3的IV-1V线截取的截面图，图5是沿着图4的V-V线截取的截面图。参照图3 - 5，根据本发明第一实施例的流体供给装置10包括例如供给单元12，其从外部接收流体，例如液体(如清洁流体)；内管14，其安装为与供给单元12相通，并且在两侧具有封闭端以及穿过其上表面形成的多个孔；以及外管16，其与内管14间隔开预定距离设置以包围该内管14，并且在两侧具有封闭端以及在其两侧中分别形成的具有预定长度的第一侧狭缝15和第二侧狭缝17。这里，通过供给单元12提供的清洁流体通过内管14中形成的多个孔13流到外管16中，并且通过外管16中形成的狭缝15和17喷射。此处，内管14和外管16均具有圆形横截面。此外，内管14的直径约为100mm，每个孔13的直径约为10mm。此外，外管16的直径约为130mm，每个狭缝15和17的长度约为240mm。换句话说，外管16与内管14的直径差约为30_。通过各个孔13流到外管16中的流体速度相对较快。实际上，由于流体从内管14流到外管16所通过的空间，即孔13的横截面面积陡然降低，因此与流体从供给单元12流到内管14的情况相比，对流体的压力增大了。出于这个原因，流体的流速增大。此外，外管16两侧分别形成的第一侧狭缝15和第二侧狭缝17相对于外管16中心线C (参见图4)位于相对位置。狭缝15和17的尺寸均形成比内管14中形成的孔13的尺寸大。由此可以降低通过外管16的狭缝15和17喷射的流体流速。换句话说，通过均匀地保持起初从内管14中形成的孔13注入到外管16中的流体量，便可以克服流体通过狭缝15和17喷射时可能出现的流速差，即流量偏差。因此，可以相对减少流经狭缝15和17的流体流速差，即流量偏差。同时，尽管本实施例描述的是穿过内管14形成多个孔13，但也可以在内管14的下表面或者其两侧的任意一个面上形成该孔13。此外，尽管本实施例中的孔13基本上在内管14的上表面中成行排列，但也可以不成行排列，而是穿过内管14以任意图案来形成该孔13，这是本领域普通技术人员容易理解的。此外，可以根据流体供给装置10的要求或者通过供给单元12供给的流体的流速、特性等，将内管14和外管16的长度和直径、内管14中形成的孔13的直径，以及外管16中形成的狭缝15和17的长度做各种各样的改变，这是本领域普通技术人员容易理解的。图6是表示根据本发明第二实施例的流体供给装置的截面图。参照图6，除了内管24和外管26均为椭圆形横截面之外，本实施例的流体供给装置20与第一实施例无异。其中，内管24在水平方向上的宽度约为200mm，垂直方向上的高度约为100mm,并且内管24中形成的每个孔23的直径约为10mm。包围内管24设置的外管26的宽度约为230mm，高度约为130mm，并且外管26中形成的每个狭缝25和27的长度约为240mm。换句话说，外管26与内管24之间的宽度差和高度差约为30mm。根据本实施例，流体经过内管24的孔23到达外管26的狭缝25和27的距离比第一实施例的长，因此同样可以减少流速的偏差。下文中，将描述各种变型例，其中穿过内管的上表面成直线形成多个孔，并且分别在外管的两侧(图中的右侧和左侧)形成第一和第二侧狭缝。图7是表示根据本发明第三实施例的流体供给装置的截面图。参照图7，在本实施例的流体供给装置30中，内管34和外管36基本上为矩形横截面。根据本实施例的内管34包括相互平行的两个侧壁31a以及与内侧壁31a相连的内上壁31b和内下壁31c。供最初喷射流体的孔33穿过内上壁31b的近似中心点形成。此外，本实施例的外管36具有相互平行的两个外侧壁32a，以及与外侧壁32a相连的外上壁32b和外下壁32c。供最终喷射流体的狭缝35和37分别穿过外侧壁32a的近似中心点形成。图8是表示根据本发明第四实施例的流体供给装置的截面图。参照图8，在本实施例的流体供给装置40中，内管44和外管46基本上为六边形横截面。本实施例的内管44包括四个倾斜内侧壁41a，以及与右内侧壁和左内侧壁41a相连的内上壁41b和内下壁41c。供最初喷射流体的孔43穿过内上壁41b的近似中心点形成。此外，本实施例的外管46包括四个外侧壁42a，以及与右外侧壁和左外侧壁42a相连的外上壁42b和外下壁42c。供最终喷射流体的狭缝45和47穿过倾斜外侧壁42a的接触部分(右边缘部分和左边缘部分)形成。尽管图5-8所示的实施例中，内管和外管具有相同的横截面形状，但也可以将该流体供给装置配置成内管和外管具有各种横截面形状作为可替换的实施例，例如五边形、七边形和八边形，这是本领域普通技术人员容易理解的。图9是表示根据本发明第五实施例的流体供给装置的截面图。与图6和7中的附图标记相同的部件表示功能相同的同样部件。参照图9，在本实施例的流体供给装置50中，内管24具有椭圆形横截面，外管36具有基本上为矩形的横截面。本实施例的内管24是具有椭圆形横截面的管部件，供最初喷射流体的孔23形成在管部件的上表面。此外，本实施例的外管36包括两个相互平行的外侧壁32a，以及与该外侧壁32a相连的外上壁32b和外下壁32c。供最终喷射流体的狭缝35和37分别穿过外侧壁32a的近似中心点形成。在本实施例中，具有孔的内管24与具有狭缝35和37的外管36之间的间隔在总体上是不变的，但在外管36的四个边缘部，内管24与外管36之间的间隔相对大。图10是表示根据本发明第六实施例的流体供给装置的截面图。与图6和7中的附图标记相同的部件表示功能相同的同样部件。参照图10，在本实施例的流体供给装置60中，内管34的横截面基本上为矩形，夕卜管26具有椭圆形横截面。本实施例的内管34包括相互平行的两个内侧壁31a，以及与内侧壁31a相连的内上壁31b和内下壁31c。供最初喷射流体的孔33穿过内上壁31b的近似中心点形成。此外，本实施例的外管26是具有椭圆形横截面的管部件，供最终喷射流体的狭缝25和27穿过该管部件的两侧形成。尽管图9和10中所示的实施例中，内管和外管具有椭圆形或矩形的横截面形状，但也可以用方形横截面取代矩形横截面。此外，可以为具有矩形横截面的外管提供具有诸如圆形、六边形的各种横截面形状的内管，并且可以为具有椭圆形横截面的外管提供具有诸如圆形、六边形的各种横截面形状的内管，这是本领域普通技术人员容易理解的。尽管图5-10中所示的实施例中，穿过内管的上壁形成孔，但是也可以穿过内管的下壁形成孔，这是本领域普通技术人员容易理解的。图11是表示根据本发明第七实施例的流体供给装置的截面图。具有与图5中相同附图标记的部件表示功能相同的同样部件。参照图11，在流体供给装置70中，与第一实施例相同，内管14和外管16具有圆形横截面，但是在内管14的下壁中对称形成第一孔单元18和第二孔单元19。其中，第一孔单元18和第二孔单元19的孔相互平行排列。甚至在第一实施例中，可以在内管14的上表面中形成两行狭缝，这是本领域普通技术人员容易理解的。图12是表示根据本发明第八实施例的流体供给装置的截面图。与图7中相同的附图标记所示的部件表示功能相同的同样部件。参照图12，在本实施例的流体供给装置80中，与第三实施例相同，内管14和外管16具有基本上为矩形的横截面，但是与第三实施例不同的是，在内管34的下侧形成相互平行的两行孔38和39。换句话说,本实施例的内管34包括相互平行的两个内侧壁31a,以及与内侧壁31a相连的内上壁31b和内下壁31c。通过内下壁31c的端部与内侧壁31a相连的部分形成供最初喷射流体的孔38和39。图13是表示根据本发明第九实施例的流体供给装置的截面图。与图8中相同的附图标记所示的部件表示功能相同的同样部件。参照图13，在本实施例的流体供给装置90中，与第四实施例相同，内管44和外管46均具有基本上为六边形的横截面，但是，在内管44中形成的孔48和49的图案和位置与第四实施例不同。本实施例的内管44包括四个倾斜的左、右内侧壁41a，以及与该左、右内侧壁41a相连的内上壁41b和内下壁41c。通过内下壁41c的端部与倾斜侧壁41a相连的部分形成供最初喷射流体的第一孔48和第二孔49。图14是表示根据本发明第十实施例的流体供给装置的截面图。与图6和11相同的附图标记所示的部件表示功能相同的同样部件。参照图14，在本实施例的流体供给装置100中，内管24具有椭圆形横截面，并且外管46具有六边形横截面。本实施例的内管24具有通过椭圆形横截面的下表面形成的两行第一孔28和第二孔29，它们平行排列，用于最初喷射流体。图15是表示根据本发明优选实施例的薄膜清洁系统的示意图。与图3-5相同的附图标记所示的部件表示功能相同的同样部件。参照图15，本实施例的薄膜清洁系统200包括流体供给装置10。该流体供给装置10设置在清洁槽202中并浸没在该清洁槽202中储存的清洁流体203内，以便去除在清洁流体203中以浸没状态连续运动的薄膜204表面(上表面和下表面)上存在的杂质。该流体供给装置10可以喷射由泵(未示出)从清洁槽22的排液管(未示出drain)供给的清洁流体203。同时，本领域普通技术人员可以理解，可以采用如上所述的根据其他实施例的任意一种流体供给装置20-100来替代该流体供给装置10。此外，根据本实施例的薄膜清洁系统200被示为在运动薄膜204上方和下方安装一对流体供给装置10。然而，还可以仅在薄膜204上方或下方安装该流体供给装置10。通过供给单元12从外部向安装在清洁槽202中的双管型流体供给装置10提供清洁流体203，并且该供给装置10包括从供给单元12垂直分叉的内管14和外管16，从而向薄膜204以预定压力均匀喷射清洁流体203。内管14和外管16具有中空结构。在内管14的上表面沿长度方向形成多个孔13。通过外管16的两侧形成第一狭缝15和第二狭缝17。清洁槽202中的薄膜204绕在几个辊209上并且以预定速度运动。从狭缝15和17喷射的清洁流体与静止在清洁槽202中的清洁流体203混合，并且借助施加到薄膜204表面的预定压力去除薄膜204表面上存在的杂质。换句话说，为了去除粘附到薄膜204的杂质，根据本发明优选实施例的薄膜清洁系统200采用双管结构作为喷射清洁流体203的装置，从而改善喷射清洁流体的机构。因此，喷射的流体的流速模式不会受到其他外界因素的干扰，并且可以在薄膜204所需的条件下以均匀压力将流体喷射到薄膜204。实验例图16是表示当根据第一、第二和第七实施例的流体供给装置分别应用于根据本发明优选实施例的薄膜清洁系统时，通过每个狭缝释放的流体的流速测试结果的曲线图。
参照图16，本实验例中使用的双管型流体供给装置具有在外管一侧沿长度方向连续形成的六个狭缝(例如后狭缝)以及在外管另一侧连续形成的六个狭缝(例如前狭缝)。因此，在图16上部靠近双管300处标记的阿拉伯数字分别表示后侧形成的狭缝编号(1-6)和前侧形成的狭缝编号(7-12)。因此，该曲线图中的测量值表示通过每个狭缝喷射的流体的流速。根据图16的曲线图可以理解，从彼此相对的第一狭缝305和第二狭缝307 (例如第一狭缝与第七狭缝；第三 狭缝与第九狭缝；或者第六狭缝与第十二狭缝)释放的流体的流速相似。这是因为最初从内管喷射到相应外管的流体被均匀分布并喷射。同时，如下通过实验将根据本发明实施例的双管型流体供给装置的性能与单管型流体供给装置的性能进行比较。其中，将根据实验例和比较例的流体供给装置分别应用到薄膜清洁系统，以测量施加到薄膜上部和下部的平均压力之差、最小压力之差、最大压力之差以及其标准偏差。表1-4表示了测量结果。比较例表I表示了采用图1所示的单管型流体供给装置的比较例的试验结果。该比较例中采用的流体供给装置I是具有圆形横截面、直径为130mm并且具有直径为IOmm的孔8的单管型喷嘴管。表I
权利要求
1.一种流体供给装置，包括: 内管，具有多个孔，用于分配从供给单元提供的流体；以及 外管，设置为包围该内管，并且具有多个狭缝，用于将从所述孔分配到其中的流体喷射到外部。
2.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中该内管和外管的两端是封闭的。
3.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中该内管和外管同轴设置。
4.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中该内管与外管的长度基本相等。
5.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中该狭缝包括: 沿长度方向设置在外管任意一侧上的第一侧狭缝；以及 设置在外管另一侧与该第一侧狭缝相对的第二侧狭缝。
6.根据权利要求5所 述的流体供给装置，其中该孔的排列与所述狭缝的排列基本上垂直。
7.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中内管和外管的横截面基本上是从圆形、椭圆形、矩形和六边形、或其组合中选出的任意一种形状。
8.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中该孔包括: 沿长度方向设置在内管任意一侧的第一侧孔；以及 设置在内管另一侧与该第一侧孔相对的第二侧孔。
9.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中当内管和外管分别具有圆形或椭圆形横截面时，外管与内管的直径之差或者外管与内管的宽度和高度之差约为25_-35_。
10.根据权利要求9所述的流体供给装置，其中每个所述孔的直径约为10_，每个所述狭缝的长度约为240mm。
11.根据权利要求1所述的流体供给装置，其中该流体包括液体。
12.一种薄膜清洁系统，其包括: 清洁槽，其中储存流体，使得薄膜能够浸没在其中同时运动；以及 权利要求1-11中任一项限定的流体供给装置，其安装在该清洁槽内以向薄膜喷射流体。
13.—种薄膜清洁方法，其包括: (a)以浸没在清洁槽中储存的流体中的状态移动薄膜；以及 (b)以浸没在流体中的状态，使用包括具有多个孔的内管和具有多个狭缝的外管的双管型流体供给装置，以均匀压力将流体通过该狭缝喷射出。
14.根据权利要求13所述的薄膜清洁方法，其中该双管型流体供给装置设置为基本上与薄膜运动方向平行。
15.根据权利要求13所述的薄膜清洁方法，其中在步骤(b)中，沿着外管长度方向将流体喷射到相对侧上。
16.根据权利要求13所述的薄膜清洁方法，其中该双管型流体供给装置的内管和外管的横截面是圆形、椭圆形、矩形和六边形或其组合中的任意一种形状。
17.根据权利要求13所述的薄膜清洁方法，其中该流体包括液体。
全文摘要
本发明公开了一种流体供给装置，其包括内管，其具有多个孔，用于分配从供给单元提供的流体；以及外管，其包围内管设置，并且具有多个狭缝，用于将从孔分配到其中的流体喷射到外部。该外管与内管的长度基本相同。该流体供给装置可以用于薄膜清洁系统或方法中。
文档编号B08B3/02GK103079716SQ201180040207
公开日2013年5月1日 申请日期2011年8月17日 优先权日2010年8月19日
发明者徐英株, 郑在皓, 张道基, 廉基校, 林艺勳, 金哉旼, 闵庚勳, 朴元灿 申请人:Lg化学株式会社