一种用于晶片抛光机的清洗装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种喷淋管可以摆动、从而可以加装在抛光机上的用于晶片抛光机的清洗装置，包括：安装座，安装座中活动穿设有进水管，进水管的顶端设置有弯管接头，弯管接头的另一端通过伸缩调节密封机构设置有喷淋管，使得喷淋管可以在弯管接头中伸缩而不漏水，并且，喷淋管上设置有若干喷淋头；所述的安装座包括：水平布置的安装板、以及设置有安装板底面上的至少一块沿垂直方向布置的立板，其中的一块立板上设置有减速电机，减速电机的输出轴上设置有主动齿轮，所述的进水管活动穿设在安装板中，进水管上设置有与主动齿轮相配合的从动齿轮。该清洗装置尤其适用于加装在晶片抛光机上。
【专利说明】 —种用于晶片抛光机的清洗装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及到一种清洗装置机，尤其涉及到一种用于晶片抛光机的清洗装置。
【背景技术】
[0002]在半导体行业中，通常要对晶片进行抛光处理。目前，在对晶片进行抛光处理之后，需要移送到专用的清洗设备进行清洗。事实证明，由于晶片在抛光过程中，其表面会附着很多细小颗粒，这些细小颗粒在从抛光机转送到清洗机的过程中会发生氧化反应，使得晶体表面的质量大大降低，从而影响到晶片最终的成品率。
实用新型内容
[0003]本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种喷淋管可以摆动、从而可以加装在抛光机上的用于晶片抛光机的清洗装置。
[0004]为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案为:一种用于晶片抛光机的清洗装置，包括:安装座、沿垂直方向布置的进水管和沿水平方向布置的喷淋管，喷淋管的顶壁上穿设有若干个等间距布置的喷淋头，进水管活动穿设在安装座中，进水管的顶端通过弯管接头与喷淋管的一端相连，喷淋管的另一端的端口中设置有堵头，所述的弯管接头与喷淋管之间的连接方式为:喷淋管沿周向设置有至少一对定位座，定位座在靠近弯管接头一侧设置有与喷淋管相平行的定位杆，定位杆上设置有锁紧螺纹，弯管接头在靠近喷淋管的一端设置有与锁定杆相配合的定位法兰，定位法兰的内壁上开设有环形密封槽，环形密封槽中设置有密封圈，喷淋管穿设在定位法兰和弯管接头中，定位法兰上还设置有与定位杆相配合的定位通孔，定位杆穿设在相应的定位通孔中，并在定位法兰的两侧分别设置有定位螺母；所述的安装座包括:水平布置的安装板以及设置在安装板底面上的至少一块沿垂直方向布置的立板，其中的一块立板上设置有减速电机，减速电机的输出轴上设置有主动齿轮，所述的进水管活动穿设在安装板中，进水管上设置有与主动齿轮相配合的从动齿轮。
[0005]作为一种优选方案，在所述的用于晶片抛光机的清洗装置中，所述的喷淋头通过喷淋阀设置在喷淋管上。
[0006]作为一种优选方案，在所述的用于晶片抛光机的清洗装置中，所述的喷淋阀采用电磁阀。
[0007]作为一种优选方案，在所述的用于晶片抛光机的清洗装置中，所述的进水管与安装板的安装结构包括:穿设在安装板中的轴承座，所述的轴承座中自下而上依次设置有与进水管过盈配合的轴承、以及与进水管间隙配合的隔套，隔套与进水管和轴承座之间分别设置有密封圈。
[0008]作为一种优选方案，在所述的用于晶片抛光机的清洗装置中，所述的立板至少有四块，所有的立板与安装板围成向下开口的箱体。
[0009]本实用新型的有益效果是:由于本实用新型中的喷淋管可以在弯管接头中伸缩，从而可以根据抛光时晶片所在的位置来调整喷淋头，并且，喷淋管还可以绕着进水管转动，这样就可以对众多晶片进行扫描式清洗，大大提高了清洗的效果；此外，由于还设置了喷淋阀，使用时可以将不用的喷淋头关掉，以达到节约用水的目的，降低使用成本；另外，由于安装板与所有的立板围成向下开口的箱体，从而很好地保护了置于该箱体中的零部件，使其免于淋水。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]图1是本实用新型所述清洗装置的结构示意图。
[0011]图中的附图标记:1、堵头，2、弯管接头，21、定位法兰，3、喷淋管，31、定位座，32、定位杆，321、锁紧螺纹，4、喷淋头，5、喷淋阀，6、进水管，7、隔套，8、轴承座，9、安装板，91、立板，93、角座，10、减速电机，11、主动齿轮，12、从动齿轮，13、轴承，16、第一缓冲垫，17、第二缓冲垫，18、定位螺母。
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图，详细描述本实用新型所述的一种用于晶片抛光机的清洗装置的具体实施方案:
[0013]如图1所示，一种用于晶片抛光机的清洗装置，包括:由安装板9和设置在安装板9底面上的四块立板91构成的向下开口的箱体式安装座以及沿垂直方向布置的进水管6和沿水平方向布置的喷淋管3，喷淋管3的顶壁上穿设有若干个等间距布置的喷淋阀5，每个喷淋阀5上连接有一个喷淋头4，所述的进水管6活动穿设在安装板9中，具体设置方式为:安装板9中穿设有轴承座8,轴承座8中自下而上依次设置有与进水管6过盈配合的轴承13、以及与进水管6间隙配合的隔套7，隔套7的内壁上嵌设有两道用于与进水管6密封的密封圈，轴承座8的内壁上嵌设有一道用于与隔套7密封的密封圈；所述的进水管6的顶端通过弯管接头2与喷淋管3的一端相连，喷淋管3的另一端的端口中设置有堵头1，所述的弯管接头2与喷淋管3之间的连接方式为:喷淋管3沿周向均匀设置有一对定位座31，定位座31在靠近弯管接头2的一侧设置有与喷淋管3相平行的定位杆32，定位杆32上设置有锁紧螺纹321，所述的弯管接头2在靠近喷淋管3的一端设置有与锁定杆32相配合的定位法兰21，定位法兰21的内壁上开设有环形密封槽，环形密封槽中设置有密封圈，喷淋管3穿设在定位法兰2和弯管接头2中，定位法兰21上还设置有与定位杆32相配合的定位通孔，定位杆32穿设在相应的定位通孔中，并在定位法兰21的两侧分别设置有定位螺母18 ;在所述的箱体式安装座中，右侧的一块立板91通过角座93设置有减速电机10，减速电机10的输出轴上设置有主动齿轮11，进水管6上设置有与主动齿轮11相配合的从动齿轮12 ;为了减小减速电机10转动时的震动，角座93的竖板与减速电机10之间设置有第一缓冲垫16，角座93的横板与减速电机10之间设置有第二缓冲垫17。
[0014]在实际应用时，所述的喷淋阀5可以采用电磁阀；并将箱式安装座固定在抛光机上。
[0015]实际使用时，一方面可以通过相应的喷淋阀5将不用的喷淋头4关掉,另一方面可以根据抛光时晶片所在的位置来调整喷淋头4的位置。当抛光工序结束后，启动减速电机10，通过控制其正反转，使得喷淋管3绕着进水管6来回摆动，对抛光后的晶片及时进行清洗。
[0016]综上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用来限定本实用新型实施的范围，凡依本实用新型权利要求范围所述的形状、构造、特征及精神所作的均等变化与修饰，均应包括在本实用新型的权利要求范围内。
【权利要求】
1.一种用于晶片抛光机的清洗装置，包括:安装座、沿垂直方向布置的进水管和沿水平方向布置的喷淋管，喷淋管的顶壁上穿设有若干个等间距布置的喷淋头，进水管活动穿设在安装座中，进水管的顶端通过弯管接头与喷淋管的一端相连，喷淋管的另一端的端口中设置有堵头，其特征在于，所述的弯管接头与喷淋管之间的连接方式为:喷淋管沿周向设置有至少一对定位座，定位座在靠近弯管接头一侧设置有与喷淋管相平行的定位杆，定位杆上设置有锁紧螺纹，弯管接头在靠近喷淋管的一端设置有与锁定杆相配合的定位法兰，定位法兰的内壁上开设有环形密封槽，环形密封槽中设置有密封圈，喷淋管穿设在定位法兰和弯管接头中，定位法兰上还设置有与定位杆相配合的定位通孔，定位杆穿设在相应的定位通孔中，并在定位法兰的两侧分别设置有定位螺母；所述的安装座包括:水平布置的安装板以及设置在安装板底面上的至少一块沿垂直方向布置的立板，其中的一块立板上设置有减速电机，减速电机的输出轴上设置有主动齿轮，所述的进水管活动穿设在安装板中，进水管上设置有与主动齿轮相配合的从动齿轮。
2.根据权利要求1所述的用于晶片抛光机的清洗装置，其特征在于，所述的喷淋头通过喷淋阀设置在喷淋管上。
3.根据权利要求2所述的用于晶片抛光机的清洗装置，其特征在于，所述的喷淋阀采用电磁阀。
4.根据权利要求1所述的用于晶片抛光机的清洗装置，其特征在于，所述的进水管与安装板的安装结构包括:穿设在安装板中的轴承座，所述的轴承座中自下而上依次设置有与进水管过盈配合的轴承、以及与进水管间隙配合的隔套，隔套与进水管和轴承座之间分别设置有密封圈。
5.根据权利要求1至4之一所述的用于晶片抛光机的清洗装置，其特征在于，所述的立板至少有四块，所有的立板与安装板围成向下开口的箱体。
【文档编号】B08B3/02GK204107908SQ201420567922
【公开日】2015年1月21日 申请日期:2014年9月29日 优先权日:2014年9月29日
【发明者】戚林 申请人:江苏中科晶元信息材料有限公司