大型平板玻璃改进的镀膜生产装置的制作方法

文档序号:2015690阅读:288来源:国知局
专利名称:大型平板玻璃改进的镀膜生产装置的制作方法
技术领域
本实用新型涉及玻璃 设备,特别是关于一种大型平板玻璃舰的| 生产装置。
背景技术
随着社会对节能和环境,的广泛关注,以及人们对审美意识的不断提高,镀
有^S的,玻璃在建筑、装饰等领域已得到广泛的应用。各种^玻璃是由专门
的鹏设备加工生产的,现有生产鹏玻璃的设备一般的是由低真空室、高真空室、 等待室、抽气室、 室、隔离錢真空锁组成。其中鹏室内驢有^^鹏耙, ^§ ]"耙室为鹏 的关键部件, 一般的,磁控赚蝶置于平板形的耙座上,
由于磁控、M耙的重量(超过1000kg)较大,尤其当镀制宽度在1800mm以上的大 型平板玻璃,由^^室的横向跨度较大,耙座会因^^ 耙的重量而发生弯曲 变形,鹏的 ^会影响 1"耙到鹏玻璃的距离,以及磁场3贼的变化,战 的变化以至于影响,^的均匀一致性。其次,现有 室的加气管仅装置有1 根,对于镀制宽度较小的玻璃时, 室的宽度以及加气管的长度均较小,此时, 力口气管从气管两端与气管中段祠汽的压差较小,也即是说,反应气條鹏室宽度 方向上不均匀性的差异是不明显的, 玻璃的均匀性的质量指标是合格的。当镀 制玻璃的宽度在1800mm以上时,设于室内的加气管的长度也相应加长,如此,加 气管从两端的排气量与管中段的排气量有着明显的差异,反应气條加气管长度方 向排气量的差异将会影响鹏的均匀性。另外,现设备中抽气室内气流流向不稳定 以及易产生"窜气"的缺陷仍然未能得到有效的解决。

实用新型内容
本实用新型的目的,是为改善现有大型平板玻璃MM设备在H^^抽气室的 结构中存在的缺陷和不足,而提出一种大型平板玻璃SdS的,生产装置。为实现 ,目的采用以下的技术方案 一种大型平板MM的M生产^S,包括低真 空室、高真空室、等待室、抽气室、鹏室、磁控^f耙、力口气管、隔离室、真空
锁,其特征在于磁控 1^耙设于 室的刚性耙座, 室内设有2根以上分段的 加气管;抽气室内设有上下两层隔板;刚性耙座是由底板和框架构成,框架设置于 底板之上,耙座的垂直的高度大于300m,耙座的纵向长度大于2000rara;上隔板水平 置于抽气室玻璃ilit口之上且与抽气室内壁之间密封,下隔^7K平置于玻璃通道口之下。
按本方案实施的大型平板玻璃改进的 生产装置,由于将磁控TO耙装置于
刚性耙座、以及在皿室内设置了分段的加气管,由此而保证了磁场3M及反应气
流分布的均匀一致性,在抽气室内设置的双层隔板有效的防止了 "窜气"和反应气
流的不稳定性。本实用新型结构合理、性能稳定,具有EM牢固、均匀,和生产效
率高的特点。

图1是本实用新型一种实施例的主视图2为图1的俯视图3是耙座为一种矩形框架的结构示意图4为玻璃在 室内通过时的断面示意图5为玻璃在 室内通过后的断面示意图。
具体实施方式
结合附图作进一步的具体说明。本实施例是一种镀制宽度为2M的大型玻璃的 生产装置,由低真空室1~"^真空室2~~^待室3—抽气室5 室4一 J气室5—隔离室6~~抽气室5ifeJl室4~~抽气室5~~^待室3~~^ 真空室2—底真空室1及设于低真空室的真空锁7构成;其中,鹏室设有装置 ^$ 耙8的刚性耙座9,冈雌耙座9是在框架91内设有纵横相交的主筋板92 及辅筋板93,用以增加耙座的冈l渡,耙座的垂直高度(包括底板和框架)设为320mm, 长度设为2000咖。如此结构的框架可承受耙座足够的重量(约1000公斤以上)而 不发生变形,由此便克月艮了因耙座^f致使磁场弓艘的变化,而导致玻璃 的非 均匀一致性。为了排除和克服反应气#^ 室加气管长度方向排气量的差异所带 来鹏的不均匀性,本实用新型将加气管10辦伪2段,以保持反应气流在玻璃镀 制的宽度方向的一致性。为了防止和克月細气室内气流流向不稳定以及易产生"窜气"的缺陷,抽气室5内设有上下两层隔板51和52,上隔板51水平置于抽气室玻 璃通道口 50之上且与抽气室内壁之间密封,下隔板52 7jC平置于玻璃通道口 50之下。 图中的ll是玻璃,L为反应气体的流向。
权利要求1、一种大型平板玻璃改进的镀膜生产装置,包括低真空室、高真空室、等待室、抽气室、镀膜室、磁控溅射靶、加气管、隔离室、真空锁,其特征在于磁控溅射靶设于镀膜室的刚性靶座,镀膜室内设有2根以上分段的加气管;抽气室内设有上下两层隔板。
2、 按权利要求1所述大型平板 改进的 生产装置,其特征在于刚性耙座是由底板和框架构成,框架设置于底fet上,耙座的垂直的高度大于300m, 耙座的纵向长度大于2000ram。
3、 按权利要求1戶脱大型平板玻璃舰的IM生产體,其特征在于上隔船K 平置于抽气室玻璃ilil口之上且与抽气室内壁之间密封,下隔^7jC平置于玻 璃通道口之下。
专利摘要本实用新型涉及玻璃镀膜设备,特别是关于一种大型平板玻璃改进的镀膜生产装置。其特征在于磁控溅射靶设于镀膜室的刚性靶座,镀膜室内设有2根以上分段的加气管;抽气室内设有上下两层隔板。按本方案实施的大型平板玻璃改进的镀膜生产装置,由于将磁控溅射靶装置于刚性靶座、以及在镀膜室内设置了分段的加气管,由此而保证了磁场强度及反应气流分布的均匀一致性,在抽气室内设置的双层隔板有效的防止了“窜气”和反应气流的不稳定性。本实用新型结构合理、性能稳定可靠,具有膜层牢固、均匀,和生产效率高的特点。
文档编号C03C17/06GK201056539SQ200720000410
公开日2008年5月7日 申请日期2007年6月22日 优先权日2007年6月22日
发明者王百新, 王百江 申请人:王百新;王百江
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