低辐射透明层叠体,包括其的建筑材料及低辐射透明层叠体的制备方法

低辐射透明层叠体,包括其的建筑材料及低辐射透明层叠体的制备方法
【专利摘要】本发明提供一种低辐射透明层叠体与应用该低辐射透明层叠体的建筑材料以及低辐射透明层叠体的制备方法，上述低辐射透明层叠体包括基材及涂敷层，上述涂敷层是从上述基材起依次包括低辐射导电层、电介质层及吸光金属层的多层结构。
【专利说明】低辐射透明层叠体，包括其的建筑材料及低辐射透明层叠 体的制备方法

【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种低辐射透明层叠体、建筑材料及低辐射透明层叠体的制备方法。

【背景技术】
[0002] 低福射玻璃（Low-Emissivity glass)是包含如银（Ag) -样在红外线范围中的反 射率高的金属的低辐射层蒸镀成薄膜的玻璃。如上所述的低辐射玻璃在夏天反射太阳辐射 热，并在冬天保存室内供暖器中所产生的红外线，以此用作带来建筑物的节能效果的功能 性材料。
[0003] 现有的电介质层由金属氧化物形成，采用锌（Zn)、钛（Ti)及锡（Sn)等的氧化物， 或者采用锌和锡的复合金属（SnZn)等。但是，就以往的形成电介质层的金属氧化物而言， 由于进行热处理之后，在与氧化物相邻的金属层之间容易发生界面反应，因而存在进行热 处理前后的可见光透射率容易变化的缺点。


【发明内容】

[0004] 本发明要解决的技术问题
[0005] 本发明的一实例提供一种不仅确保隔热性能，而且外部表面的可见光反射率高， 并且内部表面的可见光反射率低，从而能够同时实现视野确保及隐私确保效果的低辐射透 明层叠体。
[0006] 本发明的再一实例提供一种包括上述低辐射透明层叠体的建筑材料。
[0007] 本发明的另一实例提供一种制备上述低辐射透明层叠体的方法。
[0008] 技术方案
[0009] 本发明的一实例中，提供一种低辐射透明层叠体，该低辐射透明层叠体包括基材 及涂敷层，上述涂敷层是从上述基材起依次包括低辐射导电层、电介质层及吸光金属层的 多层结构。
[0010] 上述基材一侧的一面与上述吸光金属层一侧的另一面对于可见光的反射率之差 可以为约30%至约75%。
[0011] 上述低辐射导电层的辐射率可以为约〇. 01至约〇. 3。
[0012] 上述低福射导电层可包含面电阻（sheet resisitance)为约0· 78 Ω/sq至约 6. 42 Ω /sq的金属。
[0013] 上述低辐射导电层可包含选自主要由银（Ag)、金（Au)、铜（Cu)、铝（Al)、钼（Pt)、 离子掺杂金属氧化物及它们的组合组成的组中的至少一种。
[0014] 上述吸光金属层的可见光范围的消光系数可以为约1. 5至约3。
[0015] 上述吸光金属层可包含选自主要由镍（Ni)、铬（Cr)、镍（Ni)与铬（Cr)的合金、钛 (Ti)及它们的组合组成的组中的至少一种。
[0016] 上述电介质层包含选自主要由金属氧化物、金属氮化物及它们的组合组成的组 中的至少一种组分，或者在上述至少一种组分可掺杂选自包含铋（Bi)、硼（B)、铝（A1)、硅 (Si)、镁（Mg)、锑（Sb)、铍（Be)及它们的组合的组中的至少一种元素。
[0017] 上述电介质层可包含选自主要由钛氧化物（Titanium oxide)、锡锌氧化物、锌 氧化物、锌铝氧化物、锡氧化物、铋氧化物、硅氮化物（Silicon nitride)、硅铝氮化物 (Silicon aluminium nitride)及它们的组合组成的组中的至少一种。
[0018] 上述基材可以是具有约90%至约100%的可见光透射率的透明基材。
[0019] 上述基材可以是玻璃或透明塑料基板。
[0020] 上述低福射导电层的厚度可以为约IOnm至约25nm。
[0021] 上述吸光金属层的厚度可以为约5nm至约25nm。
[0022] 上述电介质层的厚度可以为约5nm至约50nm。
[0023] 上述涂敷层在上述涂敷层的最外廓的单面或双面还可包括至少一个电介质层。
[0024] 上述低辐射透明层叠体包括：第一电介质层，其介于上述基材与上述低辐射导电 层之间；第二电介质层，其为上述电介质层；第三电介质层，其相对于上述第二电介质层位 于与上述吸光金属层对置的一面的上部。
[0025] 本发明的再一实例中，提供一种包括上述低辐射透明层叠体的建筑材料。
[0026] 本发明的另一实例中，提供一种低辐射透明层叠体的制备方法，该低辐射透明层 叠体的制备方法包括如下步骤：在基材上蒸镀低辐射导电性金属或金属氧化物来形成低辐 射导电层的步骤；在上述低辐射导电层的上部形成电介质层的步骤；以及在上述电介质层 的上部蒸镀吸光性金属来形成吸光金属层的步骤。
[0027] 有益效果
[0028] 上述低辐射透明层叠体不仅确保隔热性能，而且外部表面的可见光反射率高，并 且内部表面的可见光反射率低，从而能够同时实现视野确保及隐私确保效果。

【专利附图】

【附图说明】
[0029] 图1是简要表示本发明的一实例的低辐射透明层叠体的剖视图。
[0030] 图2是简要表示本发明的另一实例的低辐射透明层叠体的剖视图。
[0031] 图3是在实施例1至实施例7的低辐射透明层叠体的双面分别测定对于可见光的 反射率的结果。

【具体实施方式】
[0032] 下面，参照附图对本发明的实施例进行详细说明，以使本发明所属【技术领域】的普 通技术人员能够容易实施。本发明能够以多种不同的形态来体现，并不局限于在此所说明 的实施例。
[0033] 本发明中省略了与说明无关的部分，以明确说明本发明，在说明书全文中，相同的 附图标记表示相同的结构部件。
[0034] 附图中扩大了厚度，以明确地表现出多个层及区域。并且，附图中放大表示一部分 层及区域的厚度，以便于说明。
[0035] 下面，在基材的"上部（或下部）"或者基材的"上（或下）"形成任意结构，这将 表示任意结构与上述基材的上表面（或下表面）相接而形成，并且，不局限于在形成于上述 基材和基材上的（或下）的任意结构之间不包括其他结构。
[0036] 下面，参照图1对本发明的一实例的低辐射透明层叠体进行说明。
[0037] 图1是本发明一实例的包括基材110及涂敷层190的低辐射透明层叠体100的剖 视图。上述涂敷层190是在上述基材110的上部依次包括低辐射导电层130、电介质层150 及吸光金属层170的多层结构。
[0038] 就上述低辐射透明层叠体100而言，上述吸光金属层170-侧的一面（图1中显示 为"A"）与作为其相反面的上述基材110-侧的一面（图1中显示为"B"）的相对于可见 光的反射率之差可以为约30 %至约75%。例如，相对于可见光的反射率之差为约50 %至约 75%时的上述低辐射透明层叠体100,当使玻璃基材一侧的一面朝向室外一侧时，在外部因 高反射率而将窗户识别为镜面，相反，由于室内一侧的反射率低，可充分确保朝向外部的视 野，以此能够使隐私效果最大化。
[0039] 上述涂敷层190作为基于在太阳光中选择性地反射远红外线的低辐射导电层 130的多层薄膜结构，通过降低辐射率来向上述低辐射透明层叠体100赋予基于低辐射 (Low_e:low emissivity)效果的隔热性能。上述低福射透明层叠体100形成如上所述的 结构，在夏天使太阳辐射热反射，并在冬天保存室内供暖器中所产生的红外线，以此用作带 来建筑物的节能效果的功能性材料。
[0040] "福射率（Emissivity) "是指物体吸收、透射及反射具有任意特定波长的能量的比 率。即本说明书中，辐射率是指在红外线波长范围的红外线能量的吸收程度，具体地，在施 加相当于呈现较强的热作用的约5 μ m至约50 μ m的波长范围的远红外线时，相对于所施加 的红外线能量而所吸收的红外线能量的比率。
[0041] 根据基尔霍夫的规律，被物质所吸收的红外线能量与再次辐射而释放出来的能量 相同，因而，吸收率与福射率相同。
[0042] 并且，由于未吸收的红外线能量在物质的表面反射，因而，红外线能量反射越高则 辐射率的值越低。如果将其以数值形态表示，则具有（辐射率=1-红外线反射率）的关系。
[0043] 如上所述的辐射率可通过在该领域中通常公知的多种方法来测定而得，并不受特 别的限制，例如，根据KSL2514标准，可利用傅立叶变换红外光谱仪（FT-IR)等的设备进行 测定。
[0044] 对于呈现如上所述的较强的热作用的远红外线的吸收率即辐射率，在测定隔热性 能的程度的方面，具有非常重要的意义。
[0045] 上述低辐射透明层叠体100在如玻璃等的透明的基材110上形成如上所述的涂敷 层190,以此能够用作节能型功能性建筑材料，该节能型功能性建筑材料在可见光范围中维 持规定的透射特性，并降低辐射率，可提供优秀的隔热效果。
[0046] 上述低辐射导电层130作为可具有低辐射率的导电性材料，例如是由金属形成的 层，即具有低面电阻，从而具有低辐射率。例如，上述低辐射导电层130的辐射率为约0.01 至约〇. 3,具体地，可以为约0. 01至约0. 2,更加具体地，可以为约0. 01至约0. 1，进而具体 地，可以为约0. 01至约0. 08。在上述低辐射导电层130具有上述范围的辐射率的情况下， 由于同时考虑到低辐射透明层叠体100的隔热效果及可见光透射率方面，因而这将是适当 的。具有如上所述的辐射率的上述低辐射导电层130的由薄膜形成的材料的面电阻可以为 约 0· 78 Ω /sq 至约 6. 42 Ω /sq。
[0047] 上述低辐射导电层130执行选择性地透射及反射太阳辐射的功能。上述低辐射导 电层130可包含选自主要由银（Ag)、金（Au)、铜（Cu)、铝（Al)、钼（Pt)、离子掺杂金属氧化 物及它们的组合组成的组中的一种以上，但不局限于此。例如，上述离子掺杂金属氧化物包 含铟锡氧化物（ITO)、氟掺杂锡氧化物（FTO)、铝掺杂的锌氧化物（AZO)及镓锌氧化物（GZO) 等。在一实例中，上述低辐射导电层130可以是银（Ag),由此，上述低辐射透明层叠体100 能够实现高导电度、可见光范围中的低吸收率以及优秀的耐久性等。
[0048] 例如，上述低辐射导电层130的厚度为约IOnm至约25nm。具有上述范围的厚度的 低辐射导电层130适合同时实现低辐射率及高可见光透射率。
[0049] 上述吸光金属层170可以由吸光性能优秀的金属形成，由于上述低辐射透明层叠 体100包含有上述吸光金属层170,因而能够增大上述涂敷层190 -侧的一面和上述基材 110 -侧的另一面对于可见光的反射率之差。
[0050] 在一实例中，上述吸光金属层170在可见光范围中的消光系数（extinction coefficient)可以是1. 5至3。上述消光系数是由作为光学材料的物质固有的特性而具有的 光学常数导出的值，上述光学常数的公式由n-ik表示。此时，实数部分η为折射率，虚数部 分k为消光系数（也可命名为吸收系数、吸光系数及消光系数等）。消光系数为波长（λ ) 的函数，一般而言，金属的消光系数大于〇。消光系数k与吸收系数α具有如下关系，α = (4 31 k)/λ，在使光通过的介质的厚度为d时,吸收系数α根据I = IOexp (_α d)的关系， 因基于介质的光的吸收，已通过的光的强度（I)比入射的光的强度（IO)减少。
[0051] 由于上述吸光金属层170使用具有上述范围的可见光范围的消光系数的金属来 吸收可见光的规定的部分，因而发生上述低辐射透明层叠体100的涂敷有上述吸光金属层 170的一面（图1中表示为"A"）与相反面（图1中表示为"B"，上述低辐射透明层叠体的 上述基材110 -侧的一面）的可见光反射率之差。
[0052] 如果上述吸光金属层170的消光系数变小，可见光吸收率则变低，从而使上述A面 与上述B面的反射率之差变小，如果消光系数变大，被吸光金属层所吸收的光的量则变多， 致使可见光透射率变小，由此，会难以确保清楚的可视性。如果上述吸光金属层170具有上 述范围的消光系数范围，则既能够确保上述A面和上述B面的规定的水平以上的反射率之 差，也能够确保规定水平的可见光透射率。
[0053] 例如，上述吸光金属层170可包含选自主要由镍（Ni)、铬（Cr)、镍（Ni)与铬（Cr) 的合金、钛（Ti)及它们的组合组成的组中的一种以上，但不局限于此。
[0054] 例如，上述吸光金属层170的厚度可以为约5nm至约25nm，具体地，可以为约15nm 至约25nm。就具有上述厚度范围的上述吸光金属层170而言，由于低辐射透明层叠体的双 面的反射率之差，即（上述基材110-侧的一面（A)的反射率）_(涂敷有上述吸光金属层 170的一侧的另一面（B)的反射率）的值为30%以上，因而能够实现充分的隐私效果，并通 过适当地维持涂敷玻璃的透射率来能够确保朝向外部的视野，且能够将上述基材110 -侧 的一面（A)的反射颜色，来实现使用人员首选的舒适的颜色，例如蓝色。
[0055] 上述电介质层150以介于上述低福射导电层130及上述吸光金属层170之间的方 式层叠，从而使上述低辐射导电层130和上述吸光金属层170分离，以使上述低辐射导电 层130和上述吸光金属层170不连续层叠，由此，上述低辐射透明层叠体100能够使上述基 材110 -侧的一面和上述吸光金属层170-侧的另一面的相对于可见光的反射率之差最大 化，据此，由于上述低辐射透明层叠体100的一表面在外部的反射率高，而显现为镜子，因 此，不能确认内部，并且，由于另一个表面的可见光反射率低，因而能够确保视野。如上所述 的上述低辐射透明层叠体100能够实现隐私确保效果。因此，上述低辐射透明层叠体100 应用为建筑材料，从而可有用地用作如建筑物的底层部的个人的私生活保护及要求安全的 范围的外部视线遮挡用材料。
[0056] 上述电介质层150可由折射率为约1. 5至约2. 3的电介质物质形成，并且可根据 折射率的值来调节电介质层150的厚度，以将透射率、反射率、透射颜色及反射颜色体现为 所需的目标水平。并且，上述电介质层150可由消光系数接近于0的物质形成，消光系数大 于〇的物质表示在入射光到达吸光金属层之前被电介质层吸收的物质，这将成为阻碍确保 清楚的视野的原因，而不优选。因而，电介质层150的消光系数可在可见光范围（在约380nm 至约780nm波长的范围）中小于0.1。
[0057] 一般，由于使用于低辐射导电层130的金属容易进行氧化，因而，上述电介质层 150能够起到上述低辐射导电层130的抗氧化膜的作用，并且，这种电介质层150还起到提 高可见光透射率的作用。
[0058] 上述电介质层150可包含多种的金属氧化物、金属氮化物等，例如，可包含选自主 要由钛氧化物、锡锌氧化物、锌氧化物、锌铝氧化物、锡氧化物、铋氧化物、硅氮化物、硅铝氮 化物及它们的组合组成的组中的一种以上，但并不局限于此。在这种金属氧化物和/或金 属氮化物中可掺杂选自包含铋（Bi)、硼（B)、铝（Al)、硅（Si)、镁（Mg)、锑（Sb)、铍（Be)及 它们的组合的组中的一种以上。
[0059] 可通过适当地调节上述电介质层150的材料和物性来调节上述低辐射透明层叠 体100的光学性能。并且，上述电介质层150还可以由两层以上的多层构成。
[0060] 例如，上述电介质层150的厚度可以为约5nm至约50nm。电介质层的厚度可根据 形成的位置及物质进行各种调节，以能够将整个多层薄膜的光学性能（透射率、反射率及 显色指数）达到目标性能的标准，由于包括具有上述厚度范围的上述电介质层150,因而基 于电介质层150可有效地控制光学性能，并且，还可在生产速度方面优选采用。
[0061] 上述基材110可以是可见光透射率高的透明基材，例如，可使用具有约90%至约 100%的可见光透射率的玻璃或透明塑料基板。例如，上述基材110可无限制地使用建筑用 玻璃，根据使用目的，例如，上述玻璃的厚度可以为约2mm至约12_。
[0062] 为了体现出适合于使用目的的光谱，上述低辐射透明层叠体100通过调节用于形 成上述涂敷层190的各层的材料及厚度，从而可控制随着波段而改变的透射率和反射率。 例如，对于上述低辐射透明层叠体100来说，如果可见光透射率高，则通过高透射率来确保 舒适的视野，相反，由于可见光反射率低，可能存在因外部视线而导致侵犯个人私生活的问 题，与此相反，如果可见光反射率高，虽然对外部视线的阻挡效果得到提高，但与此同时，由 于不能圆满确保从室内向室外的视野，因而不利于起到透明玻璃窗的作用。
[0063] 上述低辐射透明层叠体100通过调节用于形成上述涂敷层190的各层的材料及厚 度，由此可对从外部可视的上述低辐射透明层叠体100的高反射面的颜色、反射率及透射 率等的光学性能进行微细的控制。
[0064] 如上所述，上述涂敷层190以介入方式还可包括除了如上所述的结构以外的其它 追加的层，以体现出规定的光学性能。一实例中，上述涂敷层190在上述涂敷层190的最外 廓的单面或双面还可包括至少一个电介质层。
[0065] 对于上述还可包括的电介质层的仔细说明如同上述电介质层150的说明。
[0066] 图2是简要表示本发明的再一实例的包括基材210及涂敷层290的低辐射透明层 叠体的剖视图。上述涂敷层290是从上述基材210的上部起依次包括第一电介质层220、低 福射导电层230、第二电介质层250、吸光金属层270及第三电介质层280的多层结构。 [0067] 本发明的另一实例中，提供一种包括上述低辐射透明层叠体的建筑材料。上述建 筑材料应用于上述低辐射透明层叠体，从而不仅确保基于低辐射效果的隔热性能，而且如 上所述地由于外部表面的可见光反射率高，并且内部表面的可见光反射率低，因而能够同 时实现视野确保效果及隐私确保效果。
[0068] 本发明的还一实例中，提供一种低辐射透明层叠体的制备方法，该低辐射透明层 叠体的制备方法包括如下步骤：在基材上对低辐射导电性金属或金属氧化物进行蒸镀来形 成低辐射导电层的步骤；在上述低辐射导电层的上部形成电介质层的步骤；以及在上述电 介质层的上部对吸光性金属进行蒸镀来形成吸光金属层的步骤。
[0069] 可根据上述透明层叠体的制备方法来制备上述低辐射透明层叠体100、200。
[0070] 上述透明层叠体的制备方法中，对于低辐射导电层、电介质层及吸光金属层的详 细说明如上所述。
[0071] 上述蒸镀方法不受特别的限制，可根据公知的方法执行。
[0072] 上述电介质层的形成方法例如可根据蒸镀方法执行，并且可根据公知的方法执 行，并不受特别的限制，例如可利用磁控溅射蒸镀机进行蒸镀。
[0073] 下面，对本发明的实施例及比较例进行说明。但是，下面的实施例只是本发明的一 实施例，而本发明并不局限于以下实施例。
[0074] 实施例
[0075] 〈实施例1>
[0076] 使用磁控（C-Mag)溉射蒸镀机（Selcos，Cetus-S)来制备出具有多层结构的低福 射透明层叠体，该多层结构具有如表1所示的组成及厚度。
[0077] 首先，在厚度为6mm的透明玻璃基材上将TiO2陶瓷作为靶，并利用无线电变频电 源装置来蒸镀厚度为37. Onm的TiO2薄膜。工序气体为氩lOOsccm，工序压力维持为3mTorr。 工序电力应用了 1.5kW。接着，将锌中含有10wt%铝的合金的氧化物作为靶，在调频工序电 力为I. 2kW、工序氦为lOOsccm、工序压力为3mTorr的条件下，蒸镀厚度为6. 4nm的ZnAlOx 层。其次，将银（Ag)金属作为靶，在直流电流电力为0.5kW、工序氩为lOOsccm、工序压力为 3mTorr的条件下，蒸镀厚度为14. Onm的银（Ag)薄膜。利用与上述ZnAlOx层相同的方法，在 上述银（Ag)薄膜的上部蒸镀了厚度为13. Inm的ZnAlOx层。然后，将50wt%的锡（Sn)及 50wt%的锌（Zn)作为合金金属靶，并维持IkW的调频工序电力、30sccm的工序氩、30sccm 的氧以及3mT〇rr的工序压力，并根据溅射工序中的反应，来使氧化物薄膜蒸镀，从而蒸镀 厚度为35. 2nm的5泣11〇!￡层。在上述SnZnOx层的上部将80wt%的镍（Ni)及20wt%的铬 (Cr)的合金金属作为靶，并在直流电流电力为0· 5kW、工序氩lOOsccm及工序压力为5mTorr 的条件下，蒸镀厚度为6. Onm的镍铬（NiCr)薄膜。在上述镍铬（NiCr)薄膜的上部，再次利 用与上述SnZnOx相同的方法来蒸镀厚度为44. 5nm的SnZnOx层。
[0078] 由此，制备出具有如下列表1所示的组成及厚度的涂敷层形成在玻璃基材上的低 辐射透明层叠体。
[0079]〈实施例2至实施例6>
[0080] 实施例2至实施例6中，除了将上述镍铬（NiCr)薄膜的厚度分别蒸镀成9. Onm、 12. 0nm、15. 0nm、18. Onm及21. Onm之外，利用与实施例1中的相同的方法制备出具有如表1 所示的组成及厚度的涂敷层形成在玻璃基材上的低辐射透明层叠体。
[0081] 〈实施例7>
[0082] 利用与上述实施例1相同的方法，在厚度为6mm的透明玻璃基材上依次蒸镀厚度 为32. Onm的二氧化钛（TiO2)薄膜、厚度为5. 2nm的ZnAlOx层、厚度为21. 3nm的银（Ag)薄 膜、厚度为5. Onm的ZnAlOx层、厚度为32. Onm的ZnAlOx层、厚度为21. 6nm的镍铬（NiCr) 薄膜以及厚度为41. 7nm的ZnAlOx层，从而制备出具有如下列表1所示的组成及厚度的涂 敷层形成在玻璃基材上的低辐射透明层叠体。
[0083] 〈比较例1>
[0084] 利用与上述实施例1相同的方法，在厚度为6mm的透明玻璃基材上依次蒸镀厚度 为37. Onm的二氧化钛（TiO2)薄膜、厚度为6. 4nm的ZnAlOx层、厚度为14. Onm的银（Ag)薄 膜、厚度为13. Inm的ZnAlOx层及厚度为79. 7nm的ZnAlOx层，从而制备出具有如下列表1 所示的组成及厚度的涂敷层形成在玻璃基材上的低辐射透明层叠体。
[0085] 〈比较例2>
[0086] 利用与上述实施例1相同的方法，在厚度为6mm的透明玻璃基材上依次蒸镀厚度 为37. Onm的二氧化钛（TiO2)薄膜、厚度为6. 4nm的ZnAlOx层、厚度为14. Onm的银（Ag)薄 膜、厚度为15. Onm的镍铬（NiCr)薄膜以及厚度为44. 5nm的ZnAlOx层，从而制备出具有如 下列表1所示的组成及厚度的涂敷层形成在玻璃基材上的低辐射透明层叠体。
[0087] 〈比较例3>
[0088] 利用与上述实施例1相同的方法，在厚度为6mm的透明玻璃基材上依次蒸镀厚度 为37. Onm的二氧化钛（Ti02)薄膜、厚度为19. 5nm的ZnAlOx层、厚度为35. 2nm的ZnAlOx 层、厚度为15. Onm的镍铬（NiCr)薄膜以及厚度为44. 5nm的ZnAlOx层，从而制备出具有如 下列表1所示的组成及厚度的涂敷层形成在玻璃基材上的低辐射透明层叠体。
[0089] 表 1
[0090]

【权利要求】
1. 一种低辐射透明层叠体，其特征在于， 包括基材及涂敷层； 所述涂敷层是从所述基材起的依次包括低辐射导电层、电介质层及吸光金属层的多层 结构。
2. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述基材一侧的一面与所 述吸光金属层一侧的另一面对于可见光的反射率之差为30%至75%。
3. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述低辐射导电层的辐射 率为0.01至0.3。
4. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述低辐射导电层包含面 电阻为〇? 78Q/sq至6. 42Q/sq的金属。
5. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述低辐射导电层包含选 自银、金、铜、铝、钼、离子掺杂金属氧化物及它们的组合中的至少一种。
6. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述吸光金属层的可见光 范围的消光系数为1.5至3。
7. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述吸光金属层包含选自 镍、铬、镍与铬的合金、钛及它们的组合中的至少一种。
8. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于， 所述电介质层包含选自金属氧化物、金属氮化物及它们的组合中的至少一种组分；或 者 在所述至少一种组分中掺杂有选自铋、硼、铝、硅、镁、锑、铍及它们的组合中的至少一 种元素。
9. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述电介质层包含选自钛 氧化物、锡锌氧化物、锌氧化物、锌铝氧化物、锡氧化物、铋氧化物、硅氮化物、硅铝氮化物及 它们的组合中的至少一种。
10. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述基材是具有90%至 100 %的可见光透射率的透明基材。
11. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述基材是玻璃或透明塑 料基板。
12. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述低辐射导电层的厚度 为 10nm至 25nm。
13. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述吸光金属层的厚度为 5nm至 25nm〇
14. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述电介质层的厚度为 5nm至 50nm〇
15. 根据权利要求1所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，所述涂敷层在所述涂敷层 的最外廓的单面或双面还包括至少一个电介质层。
16. 根据权利要求15所述的低辐射透明层叠体，其特征在于，包括： 第一电介质层，其介于所述基材与所述低辐射导电层之间； 第二电介质层，其为所述电介质层； 第三电介质层，其相对于所述第二电介质层位于与所述吸光金属层对置的一面的上 部。
17. -种建筑材料，其特征在于，包括根据权利要求书1至16中的任一项所述的低辐射 透明层叠体。
18. -种低辐射透明层叠体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 在基材上蒸镀低辐射导电性金属或金属氧化物而形成低辐射导电层的步骤； 在所述低辐射导电层的上部形成电介质层的步骤；以及 在所述电介质层的上部蒸镀吸光性金属而形成吸光金属层的步骤。
【文档编号】E04B1/78GK104379531SQ201280074012
【公开日】2015年2月25日 申请日期:2012年12月27日 优先权日:2012年6月19日
【发明者】田允淇 申请人:乐金华奥斯有限公司