一种低辐射镀膜玻璃的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，该镀膜层从玻璃基片向外依次为Si3N4层、ZnOx层、Ag层、Cu层、NiCr层、ZnAlOx层、Si3N4层、ZnOx层、Ag层、NiCr层、ZnALOx层、Si3N4层，镀膜层多层结构及双层银膜层结构使玻璃具有良好的光学、热学性能，能满足和提升现有市场对建筑镀膜玻璃的需求。
【专利说明】一种低辐射镀膜玻璃
【技术领域】
[0001]本实用新型属于玻璃生产【技术领域】，尤其涉及一种低辐射镀膜玻璃。
【背景技术】
[0002]低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面镀上具有极低表面辐射率的金属或其他化学试剂组成的多层纳米级膜层的一种功能型玻璃，主要用来提高建筑物的节能效果和居住舒适性。镀膜玻璃的此种性能除了与自身低辐射率有关外，还与镀膜层的厚度和层数有关。但受制备工艺和制备条件的限制，普通低辐射镀膜玻璃的镀膜层多为3-5层，如专利CN201424436Y就提供了一种只具有四层氧化物膜层结构的低反射镀膜玻璃，专利CN10195532A提供了一种具有八层膜结构的低辐射镀膜玻璃，包括三层介质层、两层阻挡层、一层铜膜层和一层银膜层。另外，低辐射镀膜玻璃的功能层主要为银层，银层特别容易氧化，玻璃在长期使用后其光学性能和热学性能都会大幅降低，尤其随着当今经济和城市发展进程的加快，城市高档建筑物、太阳能光电幕墙以及高档玻璃家具中对安装使用的玻璃幕墙的光学和热学性能要求逐步增加，传统单层银镀膜玻璃的光反射率、通透性等光热性能越来越不能满足目前市场对建筑镀膜玻璃的需求。
【发明内容】
[0003]本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种辐射率低、光学和热学性能稳定、节能效果明显的低辐射镀膜玻璃。
[0004]本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案为:
[0005]一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层位于玻璃基片上表面，其特征在于所述镀膜层自玻璃基片向外依次为:Si3N4层、ZnOx层、Ag层、Cu层、NiCr层、ZnAlOx 层、Si3N4 层、ZnOx 层、Ag 层、NiCr 层、ZnALOx 层、Si3N4 层。
[0006]所述各镀膜层厚度为=Si3N4层为22.5-23.5nm、ZnOx层为5.3-7.3nm、Ag层为8.3-10.3nm、Cu 层为 7.6-9.6nm、NiCr 层为 1.4-3.4nm、ZnAlOx 层为 12.2-14.2nm、Si3N4 层为 32.7-34.7nm、Zn0x 层为 8.9-10.9nm、Ag 层为 8.5-10.5nm、NiCr 层为 0.4-2.4nm、ZnAL0x层为 4.7-6.7nm、Si3N4 层为 36.8-38.8nm。
[0007]所述低辐射镀膜玻璃表面呈金黄色。
[0008]所述玻璃基片可以是夹层玻璃、彩釉玻璃、钢化玻璃或着色玻璃。
[0009]所述玻璃基片的厚度为4-19 mm。
[0010]本实用新型的有益效果为:与现有技术相比，本实用新型镀膜玻璃通过将镀膜层增至12层，使得镀膜玻璃具有良好的外观颜色，且在相同可见光透过率的情况下，采用多层镀膜层能够得到更低的室外可见光反射率，反射和透过颜色纯正，通透性强，通过率达20%-50%，辐射率3%，因此具有良好的光学、热学性能，能满足和提升现有市场对建筑镀膜玻璃的需求；双层银膜层设置增强了玻璃的抗氧化功能，膜层不易脱落，能应用在夹层玻璃或中空玻璃生产中，即使远距离运输，品质也不受影响。【专利附图】
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型的结构示意图。
[0012]图中:1-Si3N4层、2-Zn0x 层、3_Ag 层、4_Cu 层、5-NiCr 层、6-ZnA10x 层、7_Si3N4 层、8-Zn0x 层、9-Ag 层、IO-NiCr 层、I 1-ZnALOx 层、12_Si3N4 层、13-玻璃基片。
【具体实施方式】
[0013]为能进一步了解本实用新型内容、特点及功效，兹例举以下实施例，说明如下:
[0014]实施例1:选用夹层玻璃为玻璃基片13，玻璃基片13的厚度为4 mm，镀膜层位于玻璃基片13上表面，镀膜层自玻璃基片13向外依次为:Si3N4层1、ZnOx层2、Ag层3、Cu层4、NiCr 层 5、ZnAlOx 层 6、Si3N4 层 7、ZnOx 层 8、Ag 层 9、NiCr 层 10、ZnALOx 层 11、Si3N4 层12。上述镀膜层各层的具体参数规格依次为:Si3N4层为23.5nm、Zn0x层为6.3nm、Ag层为9.3nm、Cu 层为 8.6nm、NiCr 层为 2.4nm、ZnAlOx 层为 13.2nm、Si3N4 层为 33.7nm、Zn0x 层为
9.9nm、Ag 层为 9.5nm、NiCr 层为 1.4nm> ZnALOx 层为 5.7nm> Si3N4 层为 37.8nm，锻膜玻璃表面呈金黄色。
[0015]本实施例中，低辐射镀膜玻璃的制备步骤如下:清洗玻璃基片13，干燥后将玻璃置于磁控溅射区。中频电源加旋转阴极溅射沉积第一层Si3N4层1、第二层ZnOx层2、第六层ZnAlOx层6、弟七层Si3N4层7、弟八层ZnOx层8、弟十一层ZnALOx层11、弟十二层Si3N4层12，其中第一层Si3N4层1、第七层Si3N4层7、第十二层Si3N4层12的溅射区域气氛为:工作气体为Ar，体积流 量为500SCCm，反应气体为N2,体积流量为lOOOsccm，第二层ZnOx层2、第六层ZnAlOx层6、第八层ZnOx层8和第十一层ZnALOx层11的溅射区域气氛为:工作气体为Ar，体积流量为500SCCm，反应气体为O2，体积流量为lOOOsccm ;直流电源加脉冲溅射沉积第三层Ag层3、第四层Cu层4、第五层NiCr层5、第九层Ag层9、第十层NiCr层10,其溅射区域气氛为:工作气体为Ar，体积流量为500SCCm。
[0016]实施例2:选用钢化玻璃为玻璃基片13，玻璃基片13的厚度为10 mm，镀膜层位于玻璃基片13上表面，镀膜层自玻璃基片13向外依次为:Si3N4层UZnOx层2、Ag层3、Cu层
4、NiCr 层 5、ZnAlOx 层 6、Si3N4 层 7、ZnOx 层 8、Ag 层 9、NiCr 层 10、ZnALOx 层 11、Si3N4 层12。上述镀膜层各层的具体参数规格依次为:Si3N4层为23.0nm, ZnOx层为7.3nm、Ag层为 10.3nm、Cu 层为 9.6nm、NiCr 层为 3.4nm、ZnAlOx 层为 14.2nm、Si3N4 层为 34.7nm、ZnOx层为 10.9nm、Ag 层为 10.5nm、NiCr 层为 2.4nm、ZnALOx 层为 6.7nm、Si3N4 层为 38.8nm,锻膜玻璃表面呈金黄色。
[0017]本实施例中，低辐射镀膜玻璃的制备步骤如下:清洗玻璃基片13，干燥后将玻璃置于磁控溅射区。中频电源加旋转阴极溅射沉积第一层Si3N4层1、第二层ZnOx层2、第六层ZnAlOx层6、弟七层Si3N4层7、弟八层ZnOx层8、弟十一层ZnALOx层11、弟十二层Si3N4层12，其中第一层Si3N4层1、第七层Si3N4层7、第十二层Si3N4层12的溅射区域气氛为:工作气体为Ar，体积流量为400SCCm，反应气体为N2,体积流量为1200sCCm，第二层ZnOx层2、第六层ZnAlOx层6、第八层ZnOx层8和第十一层ZnALOx层11的溅射区域气氛为:工作气体为Ar，体积流量为400sccm，反应气体为02，体积流量为1200sccm ;直流电源加脉冲溅射沉积第三层Ag层3、第四层Cu层4、第五层NiCr层5、第九层Ag层9、第十层NiCr层10,其溅射区域气氛为:工作气体为Ar，体积流量为600SCCm。
[0018]实施例3:选用彩釉玻璃为玻璃基片13，玻璃基片13的厚度为19 mm，镀膜层位于玻璃基片13上表面，镀膜层自玻璃基片13向外依次为:Si3N4层UZnOx层2、Ag层3、Cu层
4、NiCr 层 5、ZnAlOx 层 6、Si3N4 层 7、ZnOx 层 8、Ag 层 9、NiCr 层 10、ZnALOx 层 11、Si3N4 层
12。上述镀膜层各层的具体参数规格依次为=Si3N4层为22.5nm、ZnOx层为5.3nm、Ag层为8.3nm、Cu 层为 7.6nm、NiCr 层为 1.4nm、ZnAlOx 层为 12.2nm、Si3N4 层为 32.7nm、Zn0x 层为
8.9nm、Ag 层为 8.5nm、NiCr 层为 0.4nm、ZnAL0x 层为 4.7nm、Si3N4 层为 36.8nm，锻膜玻璃表面呈金黄色。
[0019]本实施例中，低辐射镀膜玻璃的制备步骤如下:清洗玻璃基片13，干燥后将玻璃置于磁控溅射区。中频电源加旋转阴极溅射沉积第一层Si3N4层1、第二层ZnOx层2、第六层ZnAlOx层6、弟七层Si3N4层7、弟八层ZnOx层8、弟十一层ZnALOx层11、弟十二层Si3N4层12，其中第一层Si3N4层1、第七层Si3N4层7、第十二层Si3N4层12的溅射区域气氛为:工作气体为Ar，体积流量为600SCCm，反应气体为N2,体积流量为900sCCm，第二层ZnOx层2、第六层ZnAlOx层6、第八层ZnOx层8和第十一层ZnALOx层11的溅射区域气氛为:工作气体为Ar，体积流量为600sccm，反应气体为02，体积流量为900sccm ;直流电源加脉冲溅射沉积第三层Ag层3、第四层Cu层4、第五层NiCr层5、第九层Ag层9、第十层NiCr层10，其溅射区域气氛为:工作气体为Ar，体积流量为400SCCm。
[0020]以上对本实用新型的实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍 归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。
【权利要求】
1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片(13)和镀膜层，所述镀膜层位于玻璃基片上表面，其特征在于所述镀膜层自玻璃基片向外依次为:Si3N4层(I)、ZnOx层(2)、Ag层(3)、Cu 层⑷、NiCr 层(5)、ZnAlOx 层(6)、Si3N4 层(7)、ZnOx 层(8)、Ag 层(9)、NiCr 层(10)、ZnALOx 层(11)、Si3N4 层(12)； 所述玻璃基片(13)为夹层玻璃、彩釉玻璃、钢化玻璃或着色玻璃。
2.如权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述各镀膜层厚度为:Si3N4 层(I)为 22.5-23.5nm、ZnOx 层(2)为 5.3-7.3nm、Ag 层(3)为 8.3-10.3nm、Cu 层(4)为 7.6-9.6nm、NiCr 层(5)为 1.4-3.4nm、ZnAlOx 层(6)为 12.2-14.2nm、Si3N4 层(7)为 32.7-34.7nm、ZnOx 层(8)为 8.9-10.9nm、Ag 层(9)为 8.5-10.5nm、NiCr 层(10)为0.4-2.4nm、ZnALOx 层(11)为 4.7-6.7nm、Si3N4 层(12)为 36.8-38.8nm。
3.如权利要求1所述的一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述玻璃基片(13)的厚度为4-19 mm。
【文档编号】C03C17/36GK203739352SQ201320389587
【公开日】2014年7月30日 申请日期:2013年7月2日 优先权日:2013年7月2日
【发明者】王 琦, 宋宇, 刘宵枫, 刘双 申请人:中国南玻集团股份有限公司, 天津南玻工程玻璃有限公司, 天津南玻节能玻璃有限公司