陶瓷工艺品的制备方法

文档序号:1909008阅读:148来源:国知局
陶瓷工艺品的制备方法
【专利摘要】本发明公开了一种陶瓷工艺品的制备方法,其包括以下步骤:a)在陶瓷制品的表面印制摄影图像,将陶瓷制品烘5-20min至摄影图像定型,然后置于180-220℃条件下烧制2.5-3.5h,冷却;b)还原摄影图像:在陶瓷制品的表面涂覆浅色醇基原料,然后将陶瓷制品置于150-400℃条件下烧制2-4h,冷却;c)自然放置:将陶瓷制品在室温条件下密闭放置2-3天至摄影图像显现。由于采用上述技术方案,将摄影作品的图像直接烧在陶瓷制品上,这样既能丰富陶瓷制品的多样性,又能让摄影作品完美地展现在陶瓷制品上,独具中国特色,所述的陶瓷制品均是采用景德镇传统手工制作而成的陶瓷材料。
【专利说明】陶瓷工艺品的制备方法

【技术领域】
[0001] 本发明涉及陶瓷【技术领域】,具体涉及一种陶瓷工艺品的制备方法。

【背景技术】
[0002] 现今,摄影作品一般是直接裱框后供人欣赏和追忆,但是裱框难以突显出摄影作 品的立体效果,这无疑降低了摄影作品的质感。
[0003] 我国早在8000年前的新石器时代就发明了陶瓷产品,如今,陶瓷在人们的生活中 随处可见,其在食器、装饰等领域都有着广泛的应用。随着科学技术的不断发展,陶瓷工艺 品有着越来越多的创意,如陶瓷变色杯,也就是将人物、景色等图像烧制在陶瓷杯体上,陶 瓷杯体上含有感温材料,这样在杯中盛放高温水时,烧制在陶瓷杯体上的图像就会凸显。
[0004] 为了丰富陶瓷工艺品和增加摄影作品的观赏效果, 申请人:设想将摄影作品直接展 现在陶瓷制品上供人观赏,但是,采用现有的变色杯的制作技术无法实现这一目标,这是因 为变色杯虽然能够在杯体上展现图像,但是变色杯上的图像一方面需要在高温下才能凸 显,另一方面也无法展现出摄影作品所特有的质感和立体效果。因此,如何在陶瓷制品上展 现摄影作品,这是 申请人:一直在致力研究的问题。


【发明内容】

[0005] 本发明的目的是提供一种表面印制有摄影图像的陶瓷工艺品的制备方法。
[0006] 为实现上述目的,本发明采用的技术方案是:一种陶瓷工艺品的制备方法,其包括 以下步骤:
[0007] a)在陶瓷制品的表面印制摄影图像,将陶瓷制品烘5_20min至摄影图像定型,然 后置于180-220°C条件下烧制2. 5-3. 5h,冷却;
[0008] b)还原摄影图像:在陶瓷制品的表面涂覆浅色醇基原料,然后将陶瓷制品置于 150-400°C条件下烧制2_4h,冷却;
[0009] C)自然放置:将陶瓷制品在室温条件下密闭放置2-3天至摄影图像显现;
[0010] 所述浅色醇基原料包括以下重量份数的组分:锆英粉15-25、棕刚玉粉20-35、 莫来石粉5-15、鳞片石墨粉10-25、镁橄榄石粉5-10、粘结剂2-4、悬浮剂15-25、助剂 0· 01-0. 2、溶剂 15-30。
[0011] 由于采用上述技术方案,将摄影作品的图像直接烧在陶瓷制品上,这样既能丰富 陶瓷制品的多样性,又能让摄影作品完美地展现在陶瓷制品上,独具中国特色,具体的,该 陶瓷制品可以用于办公家居装饰和公共场所的风景壁画的图像载体,也可以直接将个人留 影印制在陶瓷制品上进行收藏,优选的,所述的陶瓷制品均是采用景德镇传统手工制作而 成的陶瓷材料,也就是先将高岭土制成泥坯,然后置于通风室内自然干燥,最后将干燥后 的泥坯置于1250-1300°C的条件下烧制15-30h,冷却72h,即得步骤a用来印制图像的陶瓷 制品,所述高岭土的组分含量为Si0246. 51 %,A120339. 54%,H2013. 95%,具体景德镇手工 制作陶瓷制品的工艺已较为成熟,故此处不再赘述。
[0012] 作为进一步的优选方案,所述步骤a的陶瓷制品在印制摄影图像前进行了如下处 理:
[0013] S1)在陶瓷制品的表面涂覆一层亮光还原剂,然后将陶瓷制品在980-1KKTC条件 下烧制2-4h,冷却;
[0014] S2)将陶瓷制品进行打磨水洗处理后在70-80°C条件下烧制20-40min,冷却,进入 步骤a ;
[0015] 所述的亮光还原剂其是由主料和熔剂按照1:2-5的质量比混合制备得到,所述的 主料包括以下重量份数的原料:石英6-10、长石6-10、高岭土 2-6,白垩2-6,氢氧化铁粉 末1-5,氧化铁1-3,氧化铜0. 5-1. 5,水11-25,所述的熔剂包括以下重量份数的组分:紫铜 34-38,石英 20-24,砸砂 16-20,长石 9-12,石灰石 6-10,商岭土 3-7,水 35-45。
[0016] 优选的,所述亮光还原剂是由主料和熔剂按照1:3的质量比混合制备得到,所述 的主料包括以下重量份数的原料:石英8、长石8、高岭土 4,白垩4,氢氧化铁粉末3,氧化 铁2,氧化铜1,水18,所述的熔剂包括以下重量份数的原料:紫铜36,石英22,硼砂18,长 石11,石灰石8,高岭土 5,水40。采用亮光还原剂可以有效地避免陶瓷制品在光照环境下 发生反光,这样可以有效提高陶瓷制品上的图像的视觉观赏效果,增强图像的立体感,具体 的,采用上述技术方案使得陶瓷制品上的摄影图像画面清新亮丽,富有质感,尤其在阳光下 画面无反射光干扰,这主要是因为陶瓷制品通过打磨处理后可以避免其表面过于光滑,这 样得到的陶瓷制品在光照条件下能很好地突显出陶瓷制品上图像的立体效果,有效地避免 反射光对图像的干扰。优选的,所述陶瓷制品的大表面整体平齐,且大表面上通过打磨处理 以均匀布置成局部凹凸状,凹凸曲面结合处为光滑过渡,凹凸面之间的高度差为0. 5-3mm, 也就是说,乍一看陶瓷制品的表面是平齐的,但是仔细看,其表面分布有细小的凹凸面,这 样使得摄影图像高低错落有致,视觉冲击力强,且陶瓷制品对照射在摄影图像上的光线有 超强的敏感度,能够吸光储能,从而使得摄影图像的画面栩栩如生,有身临其境之感。
[0017] 更为具体的方案为:所述浅色醇基原料是由以下重量份数的组分混合调配得到: 锆英粉10、棕刚玉粉28、莫来石粉10、鳞片石墨粉15、镁橄榄石粉8、粘结剂3、悬浮剂20、助 剂0. 1、溶剂20,所述浅色醇基原料中的助剂为2-氨基-2-甲基-1-丙醇粉体,溶剂为二元 酸酯,悬浮剂为膨润土,粘结剂为消失模涂料,所述的消失模涂料从巩义市华巍耐火材料有 限公司购买得到,实际上,本申请制备陶瓷工艺品所用的各种原料均从市场上直接购买得 至IJ,各种矿石原料虽然原产地不同其成分上有差异,但是不影响本申请所述的陶瓷工艺品 的加工制备,也即是说各种矿物原料的来源无需特定要求。
[0018] 所述步骤a是先通过色彩打印机将摄影图像印制在陶瓷制品的表面,然后采用UV 灯烘烤l〇_15min至摄影图像定型,最后再将陶瓷制品置于200°C条件下烧制3h,冷却,所述 UV灯的灯管表面温度达750°C。
[0019] 实际在摄影作品的印制时,优选方案是所述陶瓷制品为陶瓷板,陶瓷板的厚度在 2-80_之间,采用板状的陶瓷制品能够满足大部分的摄影作品的印制要求,当然,为了增加 陶瓷制品的多样性,丰富摄影作品的展现特点,也可以采用方形、园形状陶瓷或者其他异形 状的陶瓷制品进行摄影图像的印制。
[0020] 进一步的,所述步骤a是将印制有摄影图像的陶瓷制品置于400-450°C条件下烧 制15min,所述步骤b是将涂覆有浅色醇基原料的陶瓷制品置于250-300°C条件下烧制3h, 所述步骤S1是将涂覆有亮光还原剂的陶瓷制品置于1000-1050°c条件下烧制3h。

【具体实施方式】
[0021] 为了进一步说明本发明公开的技术方案,以下通过2个实施例来做进一步的说 明:
[0022] 实施例1 :
[0023] 1)称取6g石英、6g长石、2g高岭土、2g白垩、lg氢氧化铁粉末、lg氧化铁0. 5g氧 化铜和llg水,在常温条件下混合搅拌,得到主料,然后再称取34g紫铜、20g石英、16g硼 砂、9g长石、6g石灰石、3g高岭土和35g水,在常温条件下进行混合搅拌,得到熔剂,将主料 和熔剂按照1:2的质量比进行混合均匀,即得亮光还原剂;
[0024] 2)在板状的陶瓷制品表面涂覆一层亮光还原剂,然后将陶瓷板在1KKTC条件下 烧制2h,冷却;
[0025] 3)将陶瓷板进行打磨水洗处理后在70-75°C条件下烧制40min,冷却,采用金钢砂 打磨至陶瓷板的表面呈细小的凹凸状,凹、凸面之间的高度差为0. 5-2. 5mm ;
[0026] 4)采用色彩打印机将摄影图像印制在陶瓷制品的表面,然后采用UV灯烘烤 l〇-15min至摄影图像定型,最后再将陶瓷制品置于200°C条件下烧制3h,冷却,所述UV灯的 灯管表面温度达750°C ;
[0027] 5)在陶瓷板的表面涂覆浅色醇基原料,然后将陶瓷板置于150°C条件下烧制4h, 冷却,所述浅色醇基原料是由以下重量份数的组分构成:锆英粉20、棕刚玉粉30、莫来石粉 10、鱗片石墨粉20、缓撤揽石粉8、消失模涂料3、膨润土 20、2-氨基-2-甲基-1-丙醇粉体 〇· 1、二元酸酯20 ;
[0028] 6)将陶瓷板在室温条件下密闭放置3天至摄影图像显现,即得成品,所述成品上 的摄影图像清新亮丽,立体感强。
[0029] 实施例2 :
[0030] 1)称取8g石英、8g长石、4g高岭土、4g白垩、3g氢氧化铁粉末、2g氧化铁lg氧化 铜和18g水,在常温条件下混合搅拌,得到主料,然后再称取36g紫铜、22g石英、18g硼砂、 1 lg长石、8g石灰石、5g高岭土和40g水,在常温条件下进行混合搅拌,得到熔剂,将主料和 熔剂按照1:3的质量比进行混合均匀,即得亮光还原剂;
[0031] 2)在板状的陶瓷制品表面涂覆一层亮光还原剂,然后将陶瓷板在1050°C条件下 烧制3h,冷却;
[0032] 3)将圆形状或者其他异形的陶瓷品进行打磨水洗处理后在70_75°C条件下烧制 40min,冷却,采用金钢砂或其他打磨材料打磨至陶瓷品的表面呈细小的凹凸状,凹、凸面之 间的商度差为l _3mm ;
[0033] 4)采用色彩打印机将摄影图像印制在陶瓷品的表面,然后采用UV灯烘烤 10-15min至摄影图像定型,最后再将陶瓷品置于220°C条件下烧制2. 5h,冷却,所述UV灯的 灯管表面温度达750°C ;
[0034] 5)在陶瓷品的表面涂覆浅色醇基原料,然后将陶瓷品置于300°C条件下烧制3h, 冷却,所述浅色醇基原料是由以下重量份数的组分构成:锆英粉25、棕刚玉粉35、莫来石粉 15、鳞片石墨粉25、镁橄榄石粉10、消失模涂料2、膨润土 15、2_氨基-2-甲基-1-丙醇粉体 0.2、二元酸酯15 ;
[0035] 6)将陶瓷品在室温条件下密闭放置2天至摄影图像显现,即得成品,所述成品上 的摄影图像清新亮丽,立体感强。
【权利要求】
1. 一种陶瓷工艺品的制备方法,其包括以下步骤: a) 印制摄影图像:在陶瓷制品的表面印制摄影图像,将陶瓷制品烘5-20min至摄影图 像定型,然后置于180_220°C条件下烧制2. 5-3. 5h,冷却; b) 还原摄影图像:在陶瓷制品的表面涂覆浅色醇基原料,然后将陶瓷制品置于 150-400°C条件下烧制2-4h,冷却; c) 自然放置:将陶瓷制品在室温条件下密闭放置2-3天至摄影图像显现; 所述浅色醇基原料包括以下重量份数的组分:锆英粉15-25、棕刚玉粉20-35、莫来石 粉5-15、鳞片石墨粉10-25、镁橄榄石粉5-10、粘结剂2-4、悬浮剂15-25、助剂0. 01-0. 2、溶 剂 15-30。
2. 根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述步骤a用来印制图像的陶 瓷制品是先将高岭土制成泥坯,然后置于通风室内自然干燥,最后将干燥后的泥坯 置于1250-1300°C的条件下烧制15-30h,冷却72h,即得,所述高岭土的组分含量为 Si0246. 51%,A120339. 54%,H2013. 95%。
3. 根据权利要求1所述陶瓷工艺品的制备方法,其特征在于:所述 步骤a的陶瓷制品在印制摄影图像前进行了如下处理: 51) 在陶瓷制品的表面涂覆一层亮光还原剂,然后将陶瓷制品在980-1KKTC条件下烧 制2-4h,冷却; 52) 将陶瓷制品进行打磨水洗处理后在70-80°C条件下烧制20-40min,冷却,进入步骤 a ; 所述的亮光还原剂其是由主料和熔剂按照1:2-5的质量比混合制备得到,所述的主料 包括以下重量份数的原料:石英6-10、长石6-10、高岭土 2-6,白垩2-6,氢氧化铁粉末1-5, 氧化铁1-3,氧化铜0. 5-1. 5,水11-25,所述的熔剂包括以下重量份数的组分:紫铜34-38, 石英20-24,砸砂16 -20,长石9-12,石灰石6-10,商岭土 3-7,水35-45。
4. 根据权利要求3所述陶瓷工艺品的制备方法,其特征在于:所述亮光还原剂是由主 料和熔剂按照1:3的质量比混合制备得到,所述的主料包括以下重量份数的原料:石英8、 长石8、高岭土 4,白垩4,氢氧化铁粉末3,氧化铁2,氧化铜1,水18,所述的熔剂包括以下重 量份数的原料:紫铜36,石英22,硼砂18,长石11,石灰石8,高岭土 5,水40。
5. 根据权利要求3所述陶瓷工艺品的制备方法,其特征在于:所述陶瓷制品的大表面 整体平齐,且大表面上通过打磨处理以均匀布置成局部凹凸状,凹凸曲面结合处为光滑过 渡,凹凸面之间的高度差为0. 5-3mm。
6. 根据权利要求1或2或3或4所述陶瓷工艺品的制备方法,其特征在于:所述浅色 醇基原料是由以下重量份数的组分混合调配得到:锆英粉10、棕刚玉粉28、莫来石粉10、鳞 片石墨粉15、镁橄榄石粉8、粘结剂3、悬浮剂20、助剂0. 1、溶剂20。
7. 根据权利要求5所述陶瓷工艺品的制备方法,其特征在于:所述浅色醇基原料中的 助剂为2-氨基-2-甲基-1-丙醇粉体,溶剂为二元酸酯,悬浮剂为膨润土,粘结剂为消失模 涂料。
8. 根据权利要求6所述陶瓷工艺品的制备方法,其特征在于:所述步骤a是先通过色 彩打印机将摄影图像印制在陶瓷制品的表面,然后采用UV灯烘烤10-15min至摄影图像定 型,最后再将陶瓷制品置于200°C条件下烧制3h,冷却,所述UV灯的灯管表面温度达750°C。
9. 根据权利要求7所述陶瓷工艺品的制备方法,其特征在于:所述陶瓷制品呈板状,陶 瓷板的厚度在2-80mm之间。
10. 根据权利要求7所述陶瓷工艺品的制备方法,其特征在于:所述步骤a是将印制有 摄影图像的陶瓷制品置于400-450°C条件下烧制15min,所述步骤b是将涂覆有浅色醇基原 料的陶瓷制品置于250-300°C条件下烧制3h,所述步骤S1是将涂覆有亮光还原剂的陶瓷制 品置于1000-1050°C条件下烧制3h。
【文档编号】C04B41/89GK104150968SQ201410392437
【公开日】2014年11月19日 申请日期:2014年8月11日 优先权日:2014年8月11日
【发明者】傅欢欢, 傅跃 申请人:傅欢欢
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