专利名称：玻璃的涂层的制作方法
技术领域：
本发明涉及为玻璃涂层的设备，更具体地说，涉及用几种气体试剂给运动中的热玻璃带表面上涂层的设备，这些试剂共同反应，在玻璃表面上形成涂层。
周知可用在热玻璃表面上分解的气体试剂，生产出具有供建筑用所需性质的涂层。例如适用作日光控制涂层的那种硅涂层，便是通过在热玻璃表面上高温分解含硅烷的气体制成，同时已提出过许多见意，从其它合适的气体试剂来生产其它类型的日光控制与低热辐射率(高红外反射率)的涂层。可惜的是，已然证明难以在大规模生产实践中获得具有所需厚度的足够均匀的涂层。
用上述这类涂层作为玻璃涂层的一种典型的方法与设备，已在本申请人等的英国专利说明书1507996号中描述过，其中，在层流的条件下使试剂气体平行地流过玻璃表面，来为之涂敷上均匀的涂层。在该说明书中，并未具体提出采用在到达玻璃表面之前易于共同反应的试剂混合物。
英国专利说明书1516032号叙述了用一种流体介质为玻璃涂层的方法，此种介质含有一或多种可取液体或气体形式的涂层试剂，它或它们作为一或多股气流导向热玻璃上，且其中至少有一股在玻璃带运动方向上有分速度，并以不大于60°的角度(或平均角度)倾斜向玻璃带的表面。据说，采用该项发明能使涂层具备如下特征与玻璃接触的均匀结构层中之晶体作规则排列。当需要有两种或更多种的组分来同时起反应时，它们可以通过一批相邻的喷嘴作为独立的流来供料，各个喷嘴配置成依一锐角朝玻璃表面上供给一般试剂流，使这些试剂在邻近玻璃处相互接触，或可只用一个喷嘴来供应第一种试剂流，而通过此第一种试剂流的动量与倾角，感生出用作第二种试剂的空气流。在涂层区的下游可设置一排气管以从涂层区中抽出气体，并可为玻璃表面设置一罩，以在玻璃上方界定出一条避开试剂流撞击玻璃的流道。
英国专利说明书1524326号描述了一种方法，其中使气体介质成为一种基本上无紊流的层，顺着部分地为玻璃表面界定的流道，沿待涂层的玻璃基片流过;此流道通向一使残留气体可从玻璃上抽走的排气导管。气体试剂是通过引入上述流道上游端中的入口槽而进入流道的，此入口槽所处位置，可使这些气体试剂一齐以锐角方向引向玻璃。
英国专利说明书2026454B特别涉及到在热玻璃表面上形成氧化锡涂层的方法，采用了含四氯化锡与水蒸汽的气体介质。在一个经特别优选出的实施例中，使含有四氯化锡蒸汽的氮载体气体流沿涂层中的玻璃表面通过，同时使含水蒸汽的一股空气流在上一股气流沿着玻璃表面流动的位置，输入到这股气流中去。可以将氧化氢之类的掺杂剂独立地或与上述潮湿空气混合送至玻璃表面。上述这些气体流最好通过引至一由窄流道所构成的涂层巷道或涂层室，送到玻璃表面上，而这些气体流则作为一种基本上无稳流的层通过此窄的流道，到达一可从玻璃处抽出剩余气体的排气导管。这些个气流是通过进道涂层巷道或涂层室顶部内的供料导管而引入到此涂层室的，这批供料导管按与水平成45°锐角的方式朝前下倾至玻璃带的行进方向。
在热玻璃基片上形成氧化锡涂层的另一种方法见于英国专利说明书2033374B号。该专利中所用设备类似于上述英国专利说明书2026454B号所说的设备，但它在第一涂层室的上游增设有一附加的涂层室，用来在继后沉积氧化锡涂层之先，于玻璃基片上沉积以一种金属氧化物的衬底涂层。
再有一种是英国专利申请GB2184748A号中所述的方法，这里在涂层室的上游端，将一种涂层基料与一种氧化气体引入到玻璃上方的混合区的并中。给此混合区供热，使涂层基料与氧化气体在此混合区中彻底混合同时暴露向基片，但是要处在这样一个高度，使得是从基本上均匀化的蒸汽混合物开始形成涂层。然后使这种混合物连续地流过涂层室与玻璃的上表面接触。据认为优点在于室的顶部结构在下游方向的高度降低了，节制了沿涂层室的蒸汽流量。在一些个最佳实施例中，此顶部结构呈弧形降低到玻璃上方的下游顶部部分。看来这会促进载基料的蒸汽在涂层室内有平匀的全面的下游流，而据认为这会有利于使形成的涂层均匀。有利的是，此处的涂层室至少有5米长，利用这样长的涂层室，据说当于快速运动的基片上，例如在新形成的浮法玻璃带上来形成较厚的涂层时，特别有利于提高涂层的产率。
当打算采用同时起反应的一批气体试剂，并采用使各试剂从独立的倾斜通道引入到涂层室内的一种设备，例如前述英国专利说明书2026454号中所图示的那种设备，来在玻璃表面上形成涂层时，本申请人等发现，在涂层作业过程中，在将第二种反应气体引至涂层室时所经过的通道下端处，堆积起不希望有的涂层料沉积物。这种沉积的涂料已发现最普遍分布于此进口通道的上游侧壁上。这种堆积起的沉积物形成得相当快，将立即影响到在玻璃带表面上所形成之涂层的质量。此玻璃带上的涂层很快变质并成为不均匀的，表现为可在玻璃表面所沉积之涂层上看见的种种条纹要是想避免使这种涂层进一步变质，则必须中止这样的涂层过程，将涂层设备升高脱离开玻璃带，然后从涂层设备除去所不需之涂层料的沉积物。这项清洁作业显然是费时与浪费的。
显然需要有这样一种设备，其中不希望发生的涂层料之沉积问题能减到最低限度，而得以有较长时间的连续作业的涂层过程。
本发明即在于提供可达到上述目的之设备。
根据本发明，提出了一种设备，用来从至少两种气体试剂的反应来在运动的热玻璃带表面沉积上由之形成的涂层，此设备包括有一面敞开的涂层室，其中使气体试剂沿着基本上与玻璃运动方向相平行的方向，接触着从待涂层的玻璃表面流过而得以在其上形成所需的涂层，此涂层室朝下敞开向并超越过待涂层玻璃表面的宽度，涂层室有第一进口装置，用来在此室的整个宽度上使玻璃表面上方的第一种气体试剂通过此室，还有第二进口装置，它由一进口通道组成，此通道沿涂层室宽向延伸贯穿该室的板，用来将第二种气体试剂引至此涂层室内第一种气体试剂流中;
上述涂层室的顶板，它在所说进口通道与涂层室会合处呈阶梯形构型，使此室在进口通道上游侧(相对于第一种气体试剂的流向)的顶板，高于此室在进口通道下游侧(相对于第一种气体试剂的流向)的顶板，通过此顶板剖取纵向截面描出的线具有阶梯式构型;
第一气体分配器，用来从一供气导管将第一种气体试剂输送给前述第一进口装置，以及第二气体分配器，用来从一第二供气导管将第二种气体试剂输送给所说第二进口装置;
此外尚包括有排气装置，它位于该第一与第二进口装置的下游(相对于这些气体试剂的流向)，从涂层室中引出，用来从涂层室中除去各种无用的气体。
本发明的另一组成部分是提供了一种方法，将至少是两种气体试剂反应形成的涂层沉积到运动的热玻璃带上，此方法包括在玻璃上方的涂层室内，沿着基本上与玻璃运动方向相平行的方向，提供第一种气体试剂流，同时通过跨越着此室顶板的一进口通道构成的进口装置，将第二种气体试剂引入到第一种气体试剂流中，并使此第一与第二种气体试剂在大致平行于玻璃的运动方向上，与玻璃表面相接触地流过涂层室，以在玻璃上形成所需的涂层，此涂层室的顶板在上述进口通道与该室的会合处呈阶梯状构型，使得此室在此进口通道上游侧(相对于第一种气体试剂的流向)处的顶板，高于此室在该进口通道下游侧(相对于第一种气体试剂的流向)处的顶板，通过此顶板剖取纵向截面时描出的线具有阶梯式构型。
在本发明的一些最佳实施例中，在所述进口通道上游侧之涂层室顶板通常至少较此进口通道下游侧的涂层室顶板高出5mm，但一般不较后者高出75mm。本申请人等发现，采用不超过15mm的一个梯级高度来进行作业是有利的，而在一个实施例中，进口通道上游侧的这一顶板则是较下游侧上的顶板高10mm。
在一个进一步优选出的实施例中，前述进口通道基本上是同气体试剂通过此涂层室的流道成直角。
在一特别优选出的实施例中，进口通道下游侧壁的底部在此侧壁与涂层室顶板的会合处形成为凸曲面。
业已发现，采用这种配置形式，显著地减少了沉积在第二进口通道壁上的不希望有的涂层材料。因此，本发明的涂层设备比已知的涂层设备使用得更为长久，不会因清洗设备和从设备中除去不希望有的沉积物而中断涂层过程。
供给涂层设备的第一与第二种气体试剂分别来自相应的供气导管，并让这样的气体流通过各相应的第一与第二气体分配器而分布到待涂层之玻璃表面的整个面宽上，此种气体分配器可以界定在倒扇形的前后壁之间，这两堵壁从一中央进口起朝下岔开，终端形成一延伸过待涂层之玻璃表面宽度的槽口。在这个实施例中，上述倒扇形的前后壁则朝下相互相对地渐缩，终止于此槽口中。
此涂层设备还最好是在第一气体分配器与第一进口装置间设置一气流限制器，以在待涂层之玻璃表面的整个宽度上均匀地分布第一种气体试剂。在第二气体分配器与第二进口装置之间设置一第二气流限制器，则也可使第二种气体试剂获得与上类似的均匀分布，此第二气流限制器的结构一般与第一气流限制器相同。
典型的情况下，上述这类气流限制器包括一腔室，可用来接受供给的试剂气体和输出一定流量的试剂气体到待涂层的玻璃板的上方;还包括一列至少是两个截流件，各个截流件包括一块宽及涂层室并有一批通孔的板。
在下面的描述中以及在后附的权利要求中，“上游”与“下游”等词是相对于试剂气体通过涂层室的流向而言的。最好是如同以举例方式所述之具体实施例中的情形，这种气流对于玻璃的运动方向为顺流，但并非必须如此，当试剂气体的流向相对于玻璃运动方向为逆流时，采用本发明也同样是有益的。
下面限于以举例方式来对照附图更详细地描述本发明，在附图中
图1是本发明之设备的横剖面侧视图;
图2是沿图1中箭头H方向的图1所示设备的端视图;
图3是更详细地示明图1中设备所包括的那种气流限制器的横剖面侧视图;
图4是经部分切除，表明第二进口装置下端的一种最佳构型的横剖面侧视图;
在这些附图中，相同的参考数号指相同的部件。
具体地参看图1与2，一般以1表明的一种涂层设备悬架在处于滚筒(未示明)上面从左向右行进之玻璃带12的上向。
上述涂层设备挂在一滑架2上，后者包括一水平板3，此板的上表面上焊接有许多例如在4处所示的前向装配架和在5处所示的后向装配架。一般，横跨此设备的宽度设有三个前向与三个后向装配架;在各种情形下，一个架装在设备的中央，另两个架则靠近设备的边部安装。各装配架4、5分别挂在相应的水冷梁(未示明)上，后者横延过待涂层之玻璃板带的宽度。
此设备的下部包括许多成型的碳砖32、34、36、38、40与42，它们横延过相当于待涂层之玻璃表面的宽度。这些碳砖界定出一具有阶梯状构型之顶板9a、9b的涂层室10，涂层室10在第二进口通道15上游侧的顶板9a高于此涂层室在第二进口通道15下游侧的顶板9b。这些碳砖还界定出由垂直的第一进口通道14构成的第一进口装置，用于将第一种试剂气体导入涂层室;由垂直的第二进口通道15构成的第二进口装置，用来将二种试剂气体引入此涂层室;涂层室中在第一进口通道14与第二进口通道15之间的流入16;用来从涂层室中除去废气的排气通道18;以及涂层室中在第二进口通道15与排气通道18之间的流道17。
每块碳砖都是挂在一水平板件44之下。这些砖中有供传热流体例如冷水用的管道(未示明)，应用本设备时，碳砖的温度可以让冷水通过这些管道来控制。
涂层室10有一个超越待涂层之玻璃带12宽度的敞开的面。在此室的上游端，碳砖32与34界定出前述垂直的第一进口通道14，第一种气体试剂即通过它引至涂层室内。在此第一进口通道的下游，碳砖34与36之间界定出一第二垂直进口通道15，用来将第二种气体试剂引入涂层室内。
在涂层室的下游端，碳砖40与42界定出一用来从此室内除去废气的排气通道18。
第一种试剂气体是从一供气导管(未示明)，通过一扇尾状的分配器19与一气流限制器22送入第一进口通道14的。此扇尾状分配器是界定在倒扇形的前壁20与后壁21之间，此前壁与后壁朝下相对地相互会聚，而在此扇形尾件的底部形成一穿越待涂层玻璃带宽度的窄槽口48。
从扇尾状分配器19底部槽口48出来的第一种试剂气体，通过安装在此分配器19下方的气流限制器22。
气流限制器22更详细地示明在图3中，包括有成对设置的相对的长壁120、122与121、123，它们界定出一细长室124。长壁120、122与121、123在横向上跨过待涂层之玻璃带，壁120与121为上游壁而壁122与123为下游壁。在此细长室124的各端设有相对的端壁126，各端壁126按照与玻璃带运动方向相平行的设置。
在气流限制器22的进口端设有一进口截流件127，后者包括一跨越室124宽度的细长进口板件128。此进口板件128密封地装定在相向的水平板对130、132之间，各对板130、132例如是用焊接方式接附到相应的长壁120、122与扇尾状分配器19之上。各对板130、132是由螺纹连接件134牢牢地连在一起的。在各对板130、132与进口板件128之间设有垫圈(未示明)。
沿进口板件128的长向开有一排孔136、孔136使进口112与室124的其余部分通连。孔136呈圆形，直径最好是2mm至10mm。在一个特别优选出的实施例中，孔136的直径都是4mm，相邻两孔的中心距为20mm。这排孔136是开设在细长室124的上游侧，也就是说，这排孔136至室124上游壁120的距离小于至下游壁122的距离。
在气流限制器22的出口110的近旁设有一出口截流件138。此出口截流件的结构基本上与进口截流件127相同，它包括一细长出口板件140，后者密封地装配在两相向成对的板142、144之间，各对这样的板142、144中上方的板则用例如焊合的方法连接到相应的长壁121、124之上。板142、144由垫圈(未示明)与出口板件140隔开。板142、144由螺纹连接件146紧紧地连在一起，这些连接件也使板142、144，从而还使气流限制器22牢牢地接附到从上面挂下有碳砖32、34的板44之上。出口板件140上开有一排孔152，孔的直径最好从2mm至10mm，而在一特别优选出的实施例中，各孔的直径为4mm，相邻两孔的中心距为10mm。这排孔152是开设在细长室124的上游侧。
在出口板件140下方，于气流限制器22的出口110处安装一气流偏转器154。此气流偏转器154包括一与上述这对板142的下部成整体的长L形部件156，后者设在与孔152相邻处。L形部件156的自由臂向上朝出口板件140延伸，中间限定出一间隙160，来自孔152的试剂气体在为L形部件156的水平臂162偏转后就必须通过此间隙。
气流偏转器154是用来消除可能发生的气流的局部性增大。例如存在有这样的倾向在板件140的下方，此板件中各个孔152紧邻处的气流常会较强。气流偏转器154的存在使得这些局部增强的气流均匀化了。在某些情形下，可从本发明之气流限制器中省除此气流偏转器154。
在进口截流器127与出口截流器138之间有一中间截流器164，此中间截流器164的结构与进口截流器127相同，且包括一上面有一排孔168的细长的中间板件166。此中间板件166密封地固定在相向成对的水平板170、172之间，它们例如通过焊合分别接附到长壁120、121与122、123上。在板170、172与中间板件166之间设有垫圈(未示明)，而板170、172则是由螺纹连接件174紧固地连接在一起。中间板件166上的这排孔168，与进、出口板件128、140的情形相反，设在细长室124的下游侧，也就是说，这排孔168同室124下游壁122、123的距离要小于其同上游壁120、121的距离。这样的安排方式使得相邻细长板件中成排的孔相互不成一直线。
第二种试剂气体是通过另一个扇尾状的分配器24，从第二供气导管(未示明)送入第二进口通道15的，此种分配器的结构与扇尾状分配器19相同，然后此气流再通过一结构与气流限制22相同的气流限制器25。
从排气通道18排出的气体通过一分隔器装置52中的通道50，进入一包括有倒扇形前壁27与后壁28的一排气扇尾件26中，后者将废气、未反应的试剂气体与载体气体一齐输向一排气导管(未示明)。
界定出第一与第二进口通道14与15的碳砖32、34与36，它们各自的高度选择成，能使涂层室10的顶板9a、9b在第二进口通道15与此涂层室会合处呈阶梯状构型，此涂层室在进口通道15上游侧的顶板9a，高于涂层室在进口通道15下游侧的顶板9b，正如图1所示，通过此种顶板所截取的纵向剖面描出的线是不连续的，且有一阶梯状构型。例如，砖36的底部一般可以选择成较砖34之底部低10mm。结果使得此第二进口通道上游壁54之底部可较此第二进口通道下游壁56之底部高10mm，由此而形成一具有阶梯状构型的进口槽口58。已发现这种阶梯状的进口槽口58所在其邻区，使沉积到第二进口通道15之侧壁上的固体涂层料数量减至最少。确信这样一个阶梯式的级差可有效地将第一种气体试剂引向玻璃表面，并在同时可避免此第一种气体试剂流入第二进口通道的口中，而导致局部反应，使涂层材料沉积到上述进料通道口中的垂直表面上。
在一特别优选出的配置方式下，碳砖36的下部上游角隅形成为一种凸曲面57，例如图4中所示情形，通常，对于10mm高的阶梯状进口槽口58来说，该凸曲面的曲率半径为10mm。这一曲率半径应该充分地小，以保持在阶梯状级差能有效于大大避免沉积物堆砌在第二进口通道口中的麻烦。
使用时，本发明的涂层设备悬架在处于滚筒(未示明)上面从左朝右行进之玻璃带12的上方。此涂层设备悬架在玻璃带上方的高度，要使碳砖42在此设备下游端处保持在待涂层之玻璃带表面上方一约10mm的高度处。第一种试剂气体一般是在一种载体气体中稀释，送至扇尾状分配器19与气流限制器22，后者能在待涂层之玻璃的整个宽度上均匀地分布此种气体。从气流限制器22中出来的气体通过第一进口通道14，进入涂层室10，沿着室10中的流到16，依照一大致与玻璃平行的方向朝第二进口通道15的底部行进。第二种试剂气体一般是在一种载体气体中稀释，被送向扇尾形分配器24与气流限制器25，以保证此第二种气体试剂在整个玻璃宽度上均匀分布。
从限制器25底部出来的气体通过第二进口通道15，进入此涂层室内第一种气体试剂流中，而得以沿着流到17在玻璃表面上方提供一种相结合的气体试剂流，在此流道上，这两种气体试剂起反应，于热的玻璃表面上的沉积上一涂层。在某种作业方式中，例如更详细地描述在本申请人在同一日期的共同未决申请内的那种作业方式(该项未决申请中的内容已综合于此作为参考)中，可对玻璃的流动状况加以控制，以提供通过第二进口通道15的第二种试剂气体的紊流，和沿着流道17的相结合的气体试剂紊流，同时避免第二种试剂在第一种气体试剂中有沿着流道16的上游气体。来自这种反应中用过的气体(载体气体、未反应的试剂气体和废气)，通过扇尾形排气件26施加减压「例如由一排气扇(未示明)进行吸气」，便从此涂层区中经排气导管18抽出，而这一扇尾形排气件则是由向上开口的倒扇形的前壁27与后壁28构成。此种减压不仅从涂层区中抽出了气体，而且还在涂层设备上游与下游尽头29、30之下感生出一外部大气流。
上述设备可以常时间的运转，不会因涂层材料沉积于第二进口通道内而发生堵塞此通道的问题，因而便有利于以高产率在玻璃带上制配出均匀的涂层。
本发明特别适用于，例如以二氧化锡作第一种气体试剂而以水蒸汽为第二种气体试剂，来生产红外反射的氧化锡涂层。为了提高红外反射率，可采用锑源或氟源之类的掺杂剂加入到上述反应气体中。借助本发明的设备，也可应用二氧化钛或一氮化钛之类的其它涂层。在涂敷二氧化钛涂层时，可用四氯化钛作第一种气体试剂而以水蒸汽为第二种气体试剂。要获得一氮化钛涂层时，则可用四氯化钛为第一种气体试剂而以氨为第二种气体试剂。
权利要求
1.用来通过至少两种气体试剂的反应以在运动的热玻璃带表面沉积上由之形成的涂层的一种设备，特征在于此设备包括有一面敞开的涂层室，其中使气体试剂沿着基本上与玻璃运动方向相平行的方向，接触着待涂层的玻璃表面流过，而得以在此玻璃表面上形成所需的涂层，此涂层室朝下敞开并延伸穿越过待涂层玻璃表面的宽度，涂层室有第一进口装置，用来在此室的整个宽度上使玻璃表面上方的第一种气体试剂通过此室，还有第二进口装置，它由一进口通道组成，此通道延贯穿沿涂层室宽向的该室的顶板，用来将第二种气体试剂引至此涂层室内第一种气体试剂流中；上述涂层室的顶板，它在所说进口通道与涂层室会合处呈阶梯形构型，使此室在进口通道上游侧(相对于第一种气体试剂流向)的顶板，高于此室在该进口通道下游侧(相对于第一种气体试剂流向)的顶板，通过此顶板剖取纵向截面描出的线具有阶梯形构型；第一气体分配器，用来从一供气导管将第一种气体试剂输送给所说第一进口装置，以及第二气体分配器，用来从一第二供气导管将第二种气体试剂输送给所说第二进口装置；此外尚包括有排气装置，它位于该第一与第二进口装置的下游(相对于这些气体试剂的流向)，从涂层室中引出，用来从涂层室中除去各种无用的气体。
2.如权利要求1中所述的设备，特征在于此涂层室在前述进口通道上游侧上的顶板，较此涂层室在该进口通道下游侧上的顶板至少高5mm。
3.如权利要求1或2中所述的设备，特征在于此涂层室在所说进口通道上游侧上的顶板较此涂层室在该进口通道下游侧上的顶板最多可高出75mm。
4.如权利要求2或3中所述的设备，特征在于此涂层室在所说进口通道上游侧上顶板较此涂层室在该进口通道下游侧上的顶板高10mm
5.如前述权利要求任何一项中所述的设备，特征在于此第二进口通道配置成基本上是同试剂气体通过涂层室中的流道成直角关系。
6.如前述权利要求任何一项中所述的设备，所述进口通道下游侧壁的底部在此侧壁与涂层顶板会合处形成为凸曲面。
7.如前述权利要求任何一项中所述的设备，特征在于所说第一与第二气体分配器中的每一个都是界定在倒扇形的前壁与后壁之间，这两堵壁从一中央进口朝下岔开，终结成一跨越待涂层之玻璃表面宽度的槽口。
8.如权利要求7所述设备，特征在于上述倒扇形的前壁与后壁朝下相互相对渐缩，终结于前述槽口。
9.如上述权利要求任何一项中所述的设备，特征在于此设备还在第一气体分配器与第一进口装置间设有一气流限制器，用来使第一种气体试剂在待涂层玻璃表面的整个宽度上均匀分布。
10.如上述权利要求任何一项中所述的设备，特征在于此设备还在前述第二气体分配器与第二进口装置间设有一气流限制器，用来使第二种气体试剂在待涂层玻璃表面的整个宽度上均匀分布。
11.将至少是两种气体试剂的反应形成的涂层沉积到运动的热玻璃带上的一种方法，特征在于，此方法包括在玻璃上方的涂层室内，沿着基本上与玻璃运动方向相平行的方向，提供第一种气体试剂流，同时通过贯穿此室顶板的一进口通道构成的进口装置，将第二种气体试剂引入到第一种气体试剂流中，并使此第一与第二种气体试剂在大致平行于玻璃的运动方向上，与玻璃表面相接触地流过涂层室，以在玻璃上形成所需的涂层，此涂层室的顶板在上述进口通道与该室的会合处呈阶梯状构型，使得此室在此进口通道上游侧(相对于第一种气体试剂的流向)处的顶板，高于此室在该进口通道下游侧(相对于第一种气体试剂的流向)处的顶板，通过此顶板剖取纵向截面时描出的线具有阶梯状构型。
12.如权利要求11中所述的方法，特征在于第二种气体试剂是按如下的一个方向引入到第一种气体试剂流中的，此方向与这两种试剂气体通过涂层室的流道大致成直角。
13.按照权利要求11或12所述方法，或采用权利要求1至10中任何一项所述设备生产出的有涂层的玻璃。
全文摘要
从至少两种气体试剂的反应于运动的热玻璃带表面沉积上涂层的设备，它包括一涂层室，后者有第一与第二进口通道分别用来引入第一与第二种试剂，此室的顶板在通道与室会合处呈阶梯状，即相对于第一种气体试剂的流向，在进口通道上游侧上的顶板高于下游侧上的顶板。还包括有第一与第二气体分配器，分别用来经两种供气导管将第一种与第二种气体试剂输入第一与第二进口通道。此外有用来从涂层室中除去各种无用气体的排气装置。
文档编号C03C17/245GK1042138SQ8910793
公开日1990年5月16日 申请日期1989年10月14日 优先权日1988年10月14日
发明者柏瑞·瑟玛斯·哥雷德, 艾德华·哈哥云斯, 彼特·杰姆斯·威弗德 申请人:彼尔金顿公共有限公司