本实用新型涉及一种块状调料手动研磨器，属于日用品领域。
背景技术：
现市售的研磨器及有关的块状调味料的研磨器专利，多由容器、研磨头、手柄为分开 结构构成的长圆筒形结构，其体积大，不易携带，另外其内部的零件多，使用后不易清洗再装配。
技术实现要素：
针对现有技术存在的不足，本实用新型所要解决的技术问题是，提供一种块状调料手动研磨器，研磨效果好，并且零件少，结构简单，较易清洗。
为解决上述技术问题，本实用新型采取的技术方案是，一种块状调料手动研磨器，包括研磨腔体，研磨腔体的上端设置有上盖板，上盖板上设置有旋转支杆，旋转支杆的顶端设置有旋转把手，旋转支杆的下段设置有四个均匀设置的上端研磨球；所述研磨腔体内设置有四个均匀设置的下端研磨球，上端研磨球和下端研磨球接触，上端研磨球和下端研磨球为圆球形；所述上盖板的下端面上设置有一个上研磨罩，上端研磨球设置于上研磨罩内，研磨腔体内设置有下研磨罩，下端研磨球设置于下研磨罩内，上研磨罩和下研磨罩为圆锥形；所述上研磨罩和下研磨罩的内表面上设置有若干弧形的研磨凸起，上端研磨球的外表面上设置有若干导向凹槽，下端研磨球的表面上设置有若干研磨凸起；所述上盖板上设置有进料管，进料管的下端设置于上研磨罩内。
优化的，上述块状调料手动研磨器，所述上端研磨球的直径小于下端研磨球的直径，相邻的两个上端研磨球的间距与相邻的两个下端研磨球的间距相同。
优化的，上述块状调料手动研磨器，所述导向凹槽为弧形凹槽，导向凹槽的弧度为下端研磨球与上端研磨球的直径比值的两倍。
本实用新型的优点在于它能克服现有技术的弊端，结构设计合理新颖。本申请的设计中，使用上端研磨球和下端研磨球接触配合设置的形式，这样当调料在进行研磨时，通过上端研磨球和下端研磨球接触可以将调料磨碎，将上端研磨球和下端研磨球设置为球形能够起到在研磨过程中将块状的调料搅拌分散的目的。经过实验得出，上端研磨球的直径小于下端研磨球的直径，相邻的两个上端研磨球的间距与相邻的两个下端研磨球的间距相同时，研磨的效果较好，研磨颗粒较均匀。为了进一步提高研磨的均匀度，在上端研磨球的外表面上设置若干导向凹槽，下端研磨球的表面上设置若干研磨凸起，这样通过导向凹槽和研磨凸起的配合作用可以进一步提高研磨的均匀度，导向凹槽的弧度为下端研磨球与上端研磨球的直径比值的两倍时，效果较佳。上研磨罩和下研磨罩起到了导向的作用，将调料集中于上端研磨球和下端研磨球的研磨区域内，防止调料在研磨过程中四散。使得上研磨罩和下研磨罩的内表面上设置研磨凸起，这样可以在研磨过程中起到搅拌调料颗粒的作用，使得研磨颗粒大小均匀。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图中：1为研磨腔体、2为上盖板、3为旋转支杆、4为旋转把手、5为上端研磨球、6为下端研磨球、7为上研磨罩、8为下研磨罩、9为研磨凸起、10为导向凹槽、11为进料管。
具体实施方式
下面结合附图与具体实施例进一步阐述本发明的技术特点。
本实用新型为一种块状调料手动研磨器，包括研磨腔体，研磨腔体的上端设置有上盖板，上盖板上设置有旋转支杆，旋转支杆的顶端设置有旋转把手，旋转支杆的下段设置有四个均匀设置的上端研磨球；所述研磨腔体内设置有四个均匀设置的下端研磨球，上端研磨球和下端研磨球接触，上端研磨球和下端研磨球为圆球形；所述上盖板的下端面上设置有一个上研磨罩，上端研磨球设置于上研磨罩内，研磨腔体内设置有下研磨罩，下端研磨球设置于下研磨罩内，上研磨罩和下研磨罩为圆锥形；所述上研磨罩和下研磨罩的内表面上设置有若干弧形的研磨凸起，上端研磨球的外表面上设置有若干导向凹槽，下端研磨球的表面上设置有若干研磨凸起；所述上盖板上设置有进料管，进料管的下端设置于上研磨罩内。所述上端研磨球的直径小于下端研磨球的直径，相邻的两个上端研磨球的间距与相邻的两个下端研磨球的间距相同。所述导向凹槽为弧形凹槽，导向凹槽的弧度为下端研磨球与上端研磨球的直径比值的两倍。
本实用新型的优点在于它能克服现有技术的弊端，结构设计合理新颖。本申请的设计中，使用上端研磨球和下端研磨球接触配合设置的形式，这样当调料在进行研磨时，通过上端研磨球和下端研磨球接触可以将调料磨碎，将上端研磨球和下端研磨球设置为球形能够起到在研磨过程中将块状的调料搅拌分散的目的。经过实验得出，上端研磨球的直径小于下端研磨球的直径，相邻的两个上端研磨球的间距与相邻的两个下端研磨球的间距相同时，研磨的效果较好，研磨颗粒较均匀。为了进一步提高研磨的均匀度，在上端研磨球的外表面上设置若干导向凹槽，下端研磨球的表面上设置若干研磨凸起，这样通过导向凹槽和研磨凸起的配合作用可以进一步提高研磨的均匀度，导向凹槽的弧度为下端研磨球与上端研磨球的直径比值的两倍时，效果较佳。上研磨罩和下研磨罩起到了导向的作用，将调料集中于上端研磨球和下端研磨球的研磨区域内，防止调料在研磨过程中四散。使得上研磨罩和下研磨罩的内表面上设置研磨凸起，这样可以在研磨过程中起到搅拌调料颗粒的作用，使得研磨颗粒大小均匀。上端研磨球的球心处于同一平面内，下端研磨球的球心处于同一平面内。
当然，上述说明并非是对本实用新型的限制，本实用新型也并不限于上述举例，本技术领域的普通技术人员，在本实用新型的实质范围内，作出的变化、改型、添加或替换，都应属于本实用新型的保护范围。