细纱自清洁皮圈张力架的制作方法

文档序号:11614807阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种细纱自清洁皮圈张力架,包括固定在固定轴(1)上的基体(4),所述基体(4)通过连接体(5)固定连接有接触体(6),基体(4)与接触体(6)之间构成下皮圈(3)的皮圈通道(8),其特征是:所述接触体(6)上设有聚集槽(61),所述聚集槽(61)位于所述皮圈通道(8)的入口处,所述聚集槽(61)的槽口(611)朝向所述下皮圈(3)设置,所述接触体(6)上还固定有高弹刮片(7),所述高弹刮片(7)固定在所述聚集槽(61)出口处的槽边(612)上,所述高弹刮片(7)与所述下皮圈(3)抵触。

2.根据权利要求1所述的细纱自清洁皮圈张力架,其特征是:所述接触体(6)朝向所述皮圈通道(8)的表面设有若干圆槽(63),所述圆槽(63)为条状,所述圆槽(63)的长度方向与所述下皮圈(3)的回转方向垂直。

3.根据权利要求1所述的细纱自清洁皮圈张力架,其特征是:所述高弹刮片(7)与所述接触体(6)表面之间的角度设置为30°至60°。

4.根据权利要求1所述的细纱自清洁皮圈张力架,其特征是:所述槽边(612)设为圆弧形。

5.根据权利要求1所述的细纱自清洁皮圈张力架,其特征是:所述接触体(6)的侧面设有防止下皮圈(3)滑落的挡边(62)。

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