技术总结
本实用新型公开了一种细纱自清洁皮圈张力架，其技术方案要点是：包括固定在固定轴上的基体，基体通过连接体固定连接有接触体，基体与接触体之间构成下皮圈的皮圈通道，接触体上设有聚集槽，聚集槽位于皮圈通道的入口处，聚集槽的槽口朝向下皮圈设置，接触体上还固定有高弹刮片，高弹刮片固定在聚集槽出口处的槽边上，高弹刮片与下皮圈抵触；本实用新型的优点是能够自动清洁下皮圈表面粘附的短绒。
技术研发人员：宋军;曹正国
受保护的技术使用者：南京新一棉纺织印染有限公司
文档号码：201621470497
技术研发日：2016.12.29
技术公布日：2017.08.01