用于处理已成像的印版的方法

专利名称：用于处理已成像的印版的方法
技术领域：
本发明涉及用于处理已成像的印版的方法。此外，本发明涉及可 重复成像的印版及用于处理已成像的印版的装置。
背景技术：
所述类型的方法、印版及装置在对己成像/重复成像的印版进行成 像/重复成像及处理的领域内、尤其是在处理承印物页张的机器例如处 理纸张或硬纸板页张的平版胶印机的印刷装置中使用。由现有技术、例如由DE 102 27 054 Al公知了用两亲分子纳米级 地覆盖的平印版，这种平印版在循环过程中可多次成像，由此可重复 使用。公开了一种具有亲水印刷面的印版，它例如用自然氧化的钛制 成，其中，印刷面覆盖有强地连接在该表面上的两亲化合物。可在使 用红外激光器的情况下使印版逐点成像。为此，在使用激光辐射的情 况下将非图像区域中的对外起疏水作用的覆盖层去除或解吸，在此情 况下产生亲水的表面区域。还公知了给以这种方式成像的印版在成像 之后通过涂覆上胶物质层来上胶。在印刷之后并且在重新覆盖和重新 成像之前必须净化该表面，必要时进行初始化，因为上胶物质层的残 余可使得用两亲化合物重新覆盖变难。DE 103 45 388 Al描述了一种用于给平版印刷的平印版上胶的方 法及组合物。为了在成像时保护以图像形式暴露的载体、例如铝载体 以避免氧化、指纹等，使平印版经受上胶处理。例如用挤压辊并且在 成像之后紧接着涂覆在平印版上的所述上胶物质在存放及印刷机长时间停机时保护平印版，而在印刷时不出现油墨接收问题和/或差的空转特性。上胶溶液的pH值取值大于7，上胶厚度通常取值3pm。这种上胶物质的制造商例如Eggen Chemie对于上胶物质Agum Z 规定使所涂覆的上胶物质在涂覆之后紧接着干燥，例如在使用热空 气鼓风机的情况下干燥。这种干燥例如在Kodak的印版显影器 Polychrom 85中进行。在印版印刷之前再将已干燥的上胶物质层去除。 DE40 13464A1描述了印刷机的印版的自动上胶，其中，借助于 一个上胶装置通过润湿辊、必要时通过摩擦滚筒在印版上涂覆上胶液 体。为了自动去除上胶物质，借助于一个清洗装置来清洗印版并且同 时清洗润湿辊及摩擦滚筒。发明内容本发明的任务在于，提供一种相对于现有技术改进的方法，该方 法克服现有技术的所述这些缺点中的至少一个。本发明的另一个或替换的任务在于，提供一种相对于现有技术改 进的用于处理已成像的印版的方法，根据该方法，上胶物质的去除以 这样的方式进行，使得可简单且多次地重复使用印版。本发明的另一个或替换的任务在于，提供一种相对于现有技术改 进的用于处理已成像的印版的方法，根据该方法，上胶物质的去除以 这样的方式进行，使得可通过重复覆盖及重复成像简单且多次地重复 使用印版。本发明的另一个或替换的任务在于，提供一种相对于现有技术改 进的用于处理已成像的印版的方法，根据该方法，上胶物质的去除以 这样的方式进行，使得印版可以以很少的开机废页进行印刷。本发明的另一个或替换的任务在于，提供一种相对于现有技术改 进的可重复成像的印版，该印版可用简单的方式且多次地重复使用、尤其是重复覆盖及重复成像。本发明的另一个或替换的任务在于，提供一种相对于现有技术改 进的用于处理己成像的印版的装置，该装置可用简单的方式给印版上 胶以产生一个上胶物质覆盖层。根据本发明，这些任务各自通过开头所述类型的用于处理已成像 的印版的方法、通过开头所述类型的可重复成像的印版以及通过开头 所述类型的用于处理已成像的印版的装置来解决。从下述技术方案、说明和附图中得到本发明的有利的进一步构型。根据本发明的一种用于处理已成像的印版的方法，其中，在印版 的表面上涂覆液体状态的上胶物质，其特征在于在一个与直到平版 印刷的液体涂覆到表面上的时间段相比短的时间段之后使上胶物质 去除或减少，直到留下一个覆盖层。根据本发明，按照第一方案，将上胶物质在涂覆之后不久再去除 或减少，其中，虽然去除所涂覆的上胶物质层但不去除一个保留的纳 米级的上胶物质覆盖层。但保留的覆盖层以有利的方式足够用于印版 的继续处理该保留的覆盖层充分地保护印版的已成像的表面以免污 染并且充分地改善已成像的区域与未成像的区域之间的对比度。通过 减少覆盖层上的上胶物质使开机废页显著地降低并且由于可用两亲 分子重复覆盖得到改善而使可重复使用性也得到改善。根据本发明的一种用于处理己成像的印版的方法，其中，在印版 的表面上涂覆液体状态的上胶物质，其特征在于将上胶物质在仍为 液体的状态下去除或减少，直到留下一个覆盖层。根据本发明，按照第二方案，将上胶物质在仍为液体的状态下、 即还在干燥之前去除或减少，直到留下一个保留的纳米级的上胶物质 覆盖层。这得到与上面针对第一方案所述的优点相同的优点。根据本发明的方法的在减少开机废页及可用两亲分子重复覆盖 方面有利并且由此优选的进一步构型的特征可在于将上胶物质直接 在涂覆之后去除或减少。在此意义下"直接"可意味着涂覆与去除 /减少之间的时间段相对于为新印刷任务准备可重复使用的印版的总 时间段可忽略并且例如在计算装调时间时无需考虑。根据本发明的方法的在简单地并且化学上无问题地去除上胶物 质方面有利并且由此优选的另一个进一步构型的特征可在于将上胶 物质通过用VE水冲洗去除。根据本发明的方法的在所使用的装置方面简单并且因此有利且 优选的另一个进一步构型的特征可在于在使用一个合压在印版的表 面上的涂覆辊的情况下来涂覆上胶物质。根据本发明的方法的在用所使用的少量装置进行简单干燥方面 有利并且由此优选的另一个进一步构型的特征可在于通过在使用涂 覆辊的情况下滚压来干燥上胶物质。根据本发明的一种可重复成像的印版，具有一个通过成像结构化 的表面及一个在图像区域中的具有两亲分子或具有聚合物、尤其是糖 类的使表面化学官能化的纳米级的覆盖层，其特征在于设置有一个 在非图像区域中的具有上胶物质的纳米级的覆盖层。与现有技术的印版不同，根据本发明的印版不具有微米级厚度的 上胶物质层，而仅具有一个纳米级厚度的上胶物质覆盖层，但该纳米 级厚度的上胶物质覆盖层可充分保护印版并且以有利的方式使得开 机废页很少并且使得可用两亲分子重复覆盖得到改善。根据本发明的印版的在覆盖层的小厚度(或小层厚)方面有利并 且由此优选的一个进一步构型的特征可在于设置有一个厚度小于约 100nm、尤其是小于约10nm的具有上胶物质的覆盖层。根据本发明的一种用于处理已成像的印版的装置，该装置具有一个辊，该辊以涂覆辊的功能将液体状态的上胶物质涂覆在印版的表面 上，其特征在于该辊以清洁辊的功能在一个与直到平版印刷的液体 涂覆到表面上的时间段相比短的时间段之后去除或减少上胶物质，直 到留下一个覆盖层。根据本发明的装置包括一个可多功能地使用并且被多功能地使 用的辊，该辊不仅用于涂覆上胶物质而且用于去除或减少上胶物质。 该装置可包括一个控制装置，该控制装置在涂覆充分之后关断上胶物 质的输入并且保持所述辊继续合压在印版上一个预定的时间段，由此 通过该辊进行上胶物质的去除/减少。在使用根据本发明的装置时得到与上面针对本发明的方法己经 描述的优点相同的优点。在本发明的范围内还可提出一种处理承印物的机器、尤其是用于 平版胶印的印刷机或处理页张的轮转印刷机，其特征在于设置有至 少一个如上针对本发明所描述的装置。所述处理承印物的机器优选涉及用于平版胶印、尤其是湿式胶印 的处理页张的轮转印刷机。所述承印物可涉及硬纸板、薄膜或优选涉 及纸。所述印刷机可用单面印刷或优选用双面印刷的方式工作。所述 印刷机可使承印物具有单色的或优选多色的印刷图像。所述印刷机可 在承印物输送方向上具有一个续纸装置、 一个输纸台、多个印刷装置、 一个翻转装置、另外一些印刷装置、 一个上光装置、 一个干燥器、一 个洒粉装置和/或一个收纸装置。所述印刷机可包括一个操作台及一个 控制单元。也可规定，成像及上胶物质的涂覆可在分开的机器中实施。 所描述的本发明及本发明的所述有利的进一步构型也以彼此任 意的组合来表示本发明的有利的进一步构型。 ，


下面参照附图借助于至少一个优选实施例来详细描述本发明及 本发明的其它结构上及功能上有利的进一步构型。附图表示 图1根据本发明的方法的一个优选实施例的流程图；及 图2 根据本发明的装置及根据本发明的印版的一个优选实施 例的示意性视图。具体实施方式

图1示出了根据本发明的用于处理已成像的印版的方法的一个优 选实施形式的流程图。这种印版例如可包含二氧化钛或由二氧化钛构 成并且设置在载体上，例如金属或塑料。该印版优选构造成用于平版 胶印的平印版。根据本发明的方法不仅可在处理承印物的机器中尤其 是在印刷机中使用，而且可至少部分地即至少有几个方法步骤例如初 始化、覆盖、成像、上胶和/或去除在这样的机器外部实施。在方法步骤100 (初始化)中，在用分子重新覆盖110之前将粗 净化或选择性细净化(参见下面的方法步骤170)的表面初始化，其 方式是通过涂覆一种初始化液体尤其是水、VE水或含水的初始化溶 液来进行表面的处理——优选擦抹。优选用具有明矾结构的复盐的水 溶液、特别优选用例如0.1克分子的含水的硫酸铝钾溶液(明矾溶液， KA1(S04)242H20)进行处理。通过初始化为用分子覆盖、尤其是为均 质疏水化准备好表面，以便可实现用分子紧密覆盖、即高的覆盖程度。 然后，印版的表面具有用于分子的足够多的活化的对接部位。对于重 新均质覆盖来说显影剂的充分去除仅通过粗净化及细净化大多得不 到保证。在方法步骤110 (覆盖)中，将印版的表面在纳米范围内进行表 面改性，其方式是通过用分子处理——优选擦抹表面、尤其是通过用分子覆盖来进行表面的化学官能化。优选将分子溶解(例如在水中), 将该溶液或者直接地涂覆到表面上或者间接地通过一块布涂覆到表 面上，例如喷射。作为用于覆盖的分子优选使用两亲分子，例如水溶 液中的膦酸或异羟肟酸。作为替换方案也可使用聚合物、尤其是糖类。覆盖引起表面的纳米级变化，即在低于100nm或尤其是优选低于10nm 的范围内变化。不仅可使用强连接在表面上的分子而且可使用弱连接 在表面上的分子。在使用弱连接的分子时必须使这些分子优选在使用 红外辐射的情况下固定在表面上。在选择性的方法步骤115中(冲洗 及干燥)中，对表面优选用VE水冲洗，接着干燥。冲洗液体或者直 接地涂覆在表面上或间接地例如通过一块布涂覆在表面上。在方法步骤120 (成像)中，将被覆盖的表面成像或在图像区域 及非图像区域中结构化。为此，优选用红外激光器或其辐射来处理该 表面。在使用强连接的分子的情况下使这些分子通过激光辐射而在非 图像区域(引导润湿剂的区域)中去除。在使用弱连接的分子的情况 下使这些分子通过激光辐射而在图像区域(引导油墨的区域)中固定 以及在非图像区域(引导润湿剂的区域)中去除。在选择性的方法步 骤125 (冲洗及干燥)中按照方法步骤115进行冲洗及干燥(参见前 面)。在方法步骤130 (上胶)中，在印版的已成像的表面上全面地涂 覆液体状态的上胶物质(Gummierung)、优选阿拉伯树胶溶液或其它 上胶溶液(Gummierungsl6sung)，或给表面上胶。通过上胶使图像区 域与非图像区域之间的对比度由于非图像区域中亲水性的增强得到 改善并且同时使表面得到保护，例如以防指纹(在本申请中介质"上 胶物质"也应在此意义上理解)。上胶物质或者直接地涂覆在表面上 或者间接地例如通过一块布涂覆在表面上。 '例如印版通过一个在压力下合压的涂覆辊一次地或优选多次地被设置未稀释的上胶溶液(例如Eggen-Chemie的AgumZ)，其中，在 约0.9与1.0g/r^之间涂覆上胶物质。紧接着通过用VE水冲洗进行上 胶物质的去除，直到留下一个覆盖层。保留的上胶物质覆盖层以g/m2 为单位的量与所涂覆的量相比可以忽略。紧接着又在压力下在不添加 过程液体的情况下优选多次地进行表面与涂覆辊的滚压并且由此进 行干燥。在方法步骤140 (去除)中，在一个与直到平版印刷的液体、例 如润湿剂和/或印刷油墨涂覆到表面上(参见后面的方法步骤150)的 时间段相比短的时间段、优选几秒钟至几分钟之后、例如至多2分钟 之后再去除上胶物质，直到留下一个覆盖层。这意味着在现有技术 中在涂覆平版印刷的液体之前不久或在涂覆平版印刷的液体时、即在 平印版被存放的情况中在上胶后数小时才在期间已干燥并且固化的 状态中通过单独的清洗装置或通过润湿装置去除，而根据本发明，该 去除在上胶之后不久就已经进行。因此，上胶物质的涂覆与去除之间 的时间段优选比平版印刷的液体的去除与涂覆之间的时间段短。优选(或作为替换方案)将上胶物质在仍为液体的和/或未干燥的 状态下、即还在干燥之前再去除，直到留下一个覆盖层。特别优选直 接在上胶物质涂覆之后再将该上胶物质去除，直到留下一个保留的覆盖层。在方法步骤140中，使所涂覆的上胶物质层的厚度降低或减少， 优选到纳米级尺寸上，由此也可将所涂覆并保留在表面上的上胶物质 理解为纳米级的覆盖层。这样一个上胶物质覆盖层可作为单层存在。 但在表面上也可存在多个层。如果将上胶物质的涂覆及去除看作是一个唯一的过程，则不是涂 覆微米范围内的层，而是产生纳米范围内的覆盖层。但出人意料地'发 现，上胶物质覆盖层充分地改善了印版的已成像的表面的对比度并且充分地保护了已成像的表面。此外还发现，在具有根据本发明的上胶 物质覆盖层的印版中油墨接收及润湿剂引导以有利的方式非常快速 地、即在两张至三张承印物页张的开机废页之后就稳定下来。具有根 据本发明的上胶物质覆盖层的印版的存放能力在此可有利地与传统 的用上胶物质涂层的印版相比拟。因此，根据本发明可放弃微米级厚 度的上胶物质层。此外，根据本发明的且仅为纳米级厚度的上胶物质 覆盖层在初始化的方法步骤中基本上可无残余地去除，因此对可重复 覆盖性无实质性影响。在方法步骤150 (涂覆)中，在已成像和上胶的表面上涂覆平版 印刷的液体、例如润湿剂和/或印刷油墨。优选在该表面上首先涂覆润 湿剂，接着附加地涂覆印刷油墨，即将表面润湿及着墨。如果使用弱 连接的两亲分子，在非图像区域中就可通过涂覆润湿剂来去除这些两 亲分子。在方法步骤160 (印刷)中，已着墨的印版优选重复地在承印物 上印刷，由此产生至少一个印刷产品。在方法步骤170 (净化)中，对表面进行处理，其中，进行用于 去除油墨和/或污物的粗净化(例如在使用微乳液净化剂或传统的油墨 净化剂例如Printclean的情况下)。在选择性的方法步骤175 (冲洗及 干燥)中，按照方法步骤115 (参见前面)进行冲洗及干燥。然后在 使用例如异丙醇或优选使用表面活性剂的情况下对粗净化的表面进 行处理，其中，进行用于去除油墨残余和/或污物残余及用于去除粗净 化的可能的化学试剂残余的细净化。在选择性的方法步骤175 (冲洗 及干燥)中，按照方法步骤115 (参见前面)进行重新的冲洗及干燥。在本发明的范围内可多次实施这些涂覆和/或去除介质的方/去步 骤，其方式是例如承载有印刷技术表面的滚筒相应频繁地旋转粗净 化及细净化(例如直接相继地各进行可达4次)、冲洗/干燥(例如直接相继地各进行可达4次)、初始化(例如直接相继地各进行可达4 次)、覆盖(例如直接相继地各进行可达6次)及上胶(例如直接相 继地各进行可达6次)。图2示出了根据本发明的装置的一个优选实施形式。该图中示出 了一个滚筒200以及一个辊220，该滚筒作为处理承印物的机器的一 部分，该滚筒具有一个设置在其表面上的印版210，该印版已成像(表 示为图像区域250)，该辊将储备在一个槽230中的上胶物质涂覆在印 版210的表面240上(表示为非图像区域260)并且在第二模式中将 该上胶物质去除/减少，直到留下一个覆盖层。在此应当注意，无论是 划线表示的图像区域250还是以波型图表示的非图像区域260在真实 的印版上不能用肉眼直接识别。作为替换方案也可不使用辊而是使用 布处理装置、例如通过两个滚子引导的布来涂覆及去除/减少上胶物 质。参考标号清单100初始化110悪生115冲洗/干燥120成像125冲洗/干燥130上胶140去除150涂覆160印刷170净化175冲洗/干燥200滚筒210印版220辊230槽240印版表面250图像区域260非图像区域
权利要求
1.用于处理已成像的印版的方法，其中，在该印版的表面上涂覆(130)液体状态的上胶物质，其特征在于在一个与直到平版印刷的液体涂覆到该表面上的时间段相比短的时间段之后使该上胶物质减少(140)，直到留下一个覆盖层。
2. 尤其是根据权利要求1的用于处理已成像的印版的方法，其中， 在该印版的表面上涂覆(130)液体状态的上胶物质，其特征在于.-将该上胶物质在仍为液体的状态下减少(140)，直到留下一个覆盖层。
3. 根据权利要求1或2的方法，其特征在于将该上胶物质直接 在该涂覆之后减少(140)。
4. 根据权利要求1或2的方法，其特征在于将该上胶物质通过 用VE水冲洗(140)减少。
5. 根据权利要求1或2的方法，其特征在于在使用一个合压在 该印版的表面上的涂覆辊的情况下来涂覆(130)该上胶物质。
6. 根据权利要求5的方法，其特征在于通过在使用该涂覆辊的 情况下滚压来干燥(140)该上胶物质。
7. 可重复成像的印版，具有一个通过成像结构化的表面(240)及 一个在图像区域(250)中的具有两亲分子或具有聚合物、尤其是糖 类的使该表面化学官能化的纳米级的覆盖层，其特征在于设置有一 个在非图像区域(260)中的具有上胶物质的纳米级的覆盖层。
8. 根据权利要求7的可重复成像的印版，其特征在于设置有一 个厚度小于约lOOnm、尤其是小于约10nm的具有上胶物质的覆盖层。
9. 用于处理已成像的印版的装置，该装置具有一个辊，该辊以涂 覆辊(220)的功能将液体状态的上胶物质涂覆在印版(210)的表面(240)上，其特征在于该辊以清洁辊(220)的功能在一个与直到平版印刷的液体涂覆到该表面上的时间段相比短的时间段之后减少 该上胶物质，直到留下一个覆盖层。
10.处理承印物的机器、尤其是用于平版胶印的印刷机或处理页张 的轮转印刷机，其特征在于设置有根据权利要求9的装置。
全文摘要
本发明涉及一种用于处理已成像的、尤其是用两亲分子或用聚合物例如糖类覆盖的印版的方法，其中，在该印版的表面上涂覆(130)液体状态的上胶物质、尤其是显微上胶物质涂层，其特征在于在一个与直到平版印刷的液体、例如润湿剂或印刷油墨涂覆到该表面上的时间段相比短的或可忽略的时间段之后将该上胶物质去除(140)或减少，直到留下一个保留的纳米级的覆盖层。上胶物质的去除或减少优选在仍为液体的状态下、即在所涂覆的上胶物质干燥之前并且优选直接在涂覆之后进行。保留的上胶物质涂层保护印版免受污染并且提高亲水性-疏水性对比度。
文档编号B41N3/08GK101229735SQ2007101598
公开日2008年7月30日 申请日期2007年12月20日 优先权日2006年12月20日
发明者H·格兰特, M·帕祖赫, M·施勒霍尔茨 申请人:海德堡印刷机械股份公司