专利名称：用于处理可重复成像的印版的方法
技术领域：
本发明涉及用于处理可重复成像的印版的方法和用于处理与承 印物接触的表面的方法。此外，本发明还涉及用于实施所述方法的装 置。
背景技术：
所述类型的方法主要用于印刷表面、例如平印版的制造或成像/ 重复成像以及用于与承印物接触的表面、例如滚筒包衬的制造。这样 制造的表面尤其是在处理承印物页张的机器、例如处理纸张或硬纸板 页张的平版胶印机的印刷装置或页张输送路径中使用。
总是希望多次使用可更换的表面、如印版或滚筒包衬，以便将用 于印刷产品的生产成本降低到最低程度。因此在印刷机中已使用了可 重复成像的印版及可重复涂层的滚筒包衬可重复成像的印版可用于 一系列不同的印刷任务，可重复涂层的滚筒包衬在由于持续与承印物 接触而出现磨损现象时可修理或修复。
DE 102 27 054 Al公开了一种可重复使用或可重复成像的具有印 刷面的印版，它例如用自然氧化的钛制成，其中，印刷面覆盖有强地 连接在该表面上的两亲化合物。可在使用红外激光器的情况下使印版 逐点成像。为此，在使用激光辐射的情况下将非图像区域中的覆盖层 去除或解吸，在此情况下产生亲水的表面区域。未考虑对图像区域中 的起疏水作用的覆盖层进行处理、尤其是激光处理。但强连接的化合 物的解吸只有用相对高的激光功率才可实现，例如(钛表面，膦酸，
成像波长为1100nm)用约3瓦的功率及约6至约20J/cm2、优选约 12J/cn^的能量密度。
DE 102 41 671 Al公开了与承印物接触的元件、例如反压滚筒的 表面，它在微结构化载体的表面上具有排斥油墨的涂层，其中，该涂 层具有两亲化合物。作为例子可列举强连接的化合物。
EP 1 211 064Bl公开了具有印刷面的可重复成像的印版，它例如 用氧化钛制成，该印版为了产生疏水表面而设置有疏水有机化合物、 例如脂肪酸糊精的单层并且在使用干燥器的情况下有效地通过蒸发 来干燥。被涂层的印刷面用红外辐射来成像，由此使得该单层在图像 区域中固定。在非图像区域中，使疏水层或疏水化合物接着有效地通 过用应与以后使用的润湿剂不同的水或含水清洗剂喷射、即通过有效 的清洗过程清洗掉或通过涂覆油墨、即通过在此涂覆的油墨的吸附性 (粘性)去除并且由此使得用于接收润湿剂的氧化钛的亲水表面暴 露。
DE 10 2005 021 346 Al公开了一种可转换的层，该层可在平印版 上使用。为此例如对一个铝板用氧化钛进行涂层，在其上施加氧化钛 溶胶并且进行热处理，由此形成亲水表面。对这样获得的表面用聚丙 烯酸浸润、干燥并且接着用紫外辐射和红外辐射的组合来处理，由此 形成疏水表面。接着在使用强度低于烧蚀阈值的红外辐射的情况下成 像，由此形成亲水的图像区域。
发明内容
本发明的任务在于，提供一种相对于现有技术改进的方法，该方 法克服现有技术的所述这些缺点中的至少一个。
本发明的另一个或替换的任务在于，提供一种相对于现有技术改 进的方法，该方法可对可重复成像的印版进行简单的处理、尤其是制
造、成像或重复成像。本发明的另一个或替换的任务在于，提供一种 相对于现有技术改进的方法，该方法可对与承印物接触的表面进行简 单的处理、尤其是制造。简单的处理的特征可以是少量的过程步骤、 过程步骤的联合和/或其它公知的处理步骤的实施。
本发明的另一个或替换的任务在于，提供一种用来实施用于印版 及与承印物接触的表面的处理方法的装置。
根据本发明，这些任务通过用于处理可重复成像的印版的方法、 通过用于处理与承印物接触的表面的方法以及通过用于实施所述方 法的装置来解决。
从下述技术方案、说明和附图中得到本发明的有利构型。
己经发现，确定的两亲分子在确定的激光功率或确定的激光功率 范围内不被从表面去除或解吸，而是固定在该表面上。但在激光功率 高于所述确定的激光功率时，两亲分子被从表面去除。因此在本申请 中概念"固定"应如下地理解 一个被固定的覆盖层(即在一个表面 上通过激光辐射固定的分子)优选光化学地或光热地通过所述固定来 这样相对于一个未被固定的覆盖层变化，使得化学特性(例如亲水特 性/疏水特性)和/或相对于表面的连接状态发生变化、尤其是改善。 被固定的分子尤其是通过由于涂覆平版印刷的液体而进行去除的方 法步骤及通过印刷的方法步骤基本上不从表面去除。尤其是覆盖层通 过固定——与固定前的浸润性质无关——优选被疏水化，即该覆盖层 显示出疏水的表面性质。另外，固定尤其是意味着被固定的分子构 成一个对于印刷过程的要求及持续时间来说优选足够稳定的、最好是 疏水的覆盖层。
在本申请中，概念"去除"应如下地理解被去除的分子实际从 表面解吸或至少这样变化、例如被破坏，使得这些分子对该表面的表 面性质(疏水/亲水)产生影响的作用减小、消除或逆转。
在本申请中，作为"纳米范围"应理解为小于100nm、尤其是小 于10nm的范围。
一种根据本发明的用于处理可重复成像的印版的方法，其中，将 该印版的用作印刷面的表面在纳米范围内进行表面改性，其方式是通 过用分子覆盖来进行该表面的化学官能化，该印版经受用激光辐射成 像的初级过程及涂覆至少一种平版印刷的液体的初级过程，其中，在 图像区域中分子的固定通过成像的初级过程进行，其特征在于在非 图像区域中分子的去除基本上通过至少一个与印刷油墨的涂覆不同 的初级过程进行。
根据本发明，对于分子的去除使用初级过程(成像，涂覆或显影) 中的一个，由此，该方法可简单地实施。而不使用如现有技术中所述 的基于清洗或净化步骤的单独过程。
本发明通过固定得到的一个优点是可使用首先仅弱连接的分子 或用这些分子覆盖。通过固定，在印刷过程的要求及持续时间方面使 这些分子的化学特性或这些分子在表面上的连接得到改善。
本发明的另一个优点这样得到在使用弱连接的分子时用于基于 辐射来固定及去除的功率与用于基于辐射去除强连接的分子的功率 相比可降低。
根据本发明的方法在简单的可实施性方面基于使用其它公知方 法步骤而有利并且因此优选的进一步构型的特征可在于印版附加地 经受显影的初级过程，尤其是通过涂覆上胶溶液来经受。因此，显影 的初级过程也可用有利的方式用于去除。
根据本发明的方法的一个进一步构型的特征可在于印版附加地 经受净化、清洗、冲洗及干燥这些次级过程中的至少一个。
根据本发明的方法在简单的去除方面有利并且因此优选的另一 个进一步构型的特征可在于分子的固定通过用第一功率的激光辐射
成像来进行，分子的去除通过用与该第一功率不同的第二功率的激光 辐射成像来进行。该去除或解吸也可通过用相干或不相干的电磁辐射 大面积辐照来进行，其中，使用这样的波长，该波长与用于固定的波 长不同并且在该波长时被固定的分子不显示出相互作用或显示出比 未被固定的分子明显小的相互作用。
根据本发明的方法在简单的可实施性方面基于使用其它公知方 法步骤而有利并且因此优选的另一个进一步构型的特征可在于平版 印刷的液体的涂覆包括用与清洗剂不同的润湿剂来润湿印版。因此， 该涂覆的、尤其是润湿剂的涂覆的初级过程也可用有利的方式用于去 除。
根据本发明的方法在所使用的化合物方面有利并且因此优选的 另一个进一步构型的特征可在于对印版的表面用分子进行的覆盖作 为用两亲的分子或聚合物、尤其是用糖类进行的覆盖来进行。
另一种根据本发明的用于处理与承印物接触的表面的方法，其 中，将这种表面在纳米范围内进行表面改性，其方式是通过用分子覆 盖来进行该表面的化学官能化，根据该方法使该表面经受对分子用激 光辐射进行的固定。
分子根据本发明的固定在此也产生优点可使用首先仅弱连接的 分子。
根据本发明的方法在所使用的化合物方面有利并且因此优选的 另一个进一步构型的特征可在于对表面用分子进行的覆盖作为用两 亲的分子或聚合物、尤其是用糖类进行的覆盖来进行。
根据本发明的用于实施以上针对本发明所描述的方法的装置的 特征在于该装置具有一个在其功率方面可转换的激光器。
在使用可转换的激光器时可用简单的方式在功率低的情况下固 定图像区域中的分子以及在功率高的情况下去除非图像区域的分子。
成像持续时间在此情况下基本上不延长。
根据本发明的装置在简单的可转换性方面有利并且因此优选的 另一个进一步构型的特征可在于该可转换的激光器具有一个声光调 制器。
在本发明的范围内还可提出一种处理承印物的机器、尤其是用于 平版胶印的印刷机或处理页张的轮转印刷机，其特征在于设置有至 少一个如上针对本发明所描述的装置。
所述处理承印物的机器优选涉及用于平版胶印、尤其是湿式胶印 的处理页张的轮转印刷机。所述承印物可涉及硬纸板、薄膜或优选涉 及纸。所述印刷机可用单面印刷或优选用双面印刷的方式工作。所述 印刷机可使承印物具有单色的或优选多色的印刷图像。所述印刷机可 在承印物输送方向上具有一个续纸装置、 一个输纸台、多个印刷装置、 一个翻转装置、另外一些印刷装置、 一个上光装置、 一个干燥器、一 个洒粉装置和/或一个收纸装置。所述印刷机可包括一个操作台及一个 控制单元。
所描述的本发明及本发明的所述有利的进一步构型也以彼此任 意的组合来表示本发明的有利的进一步构型。
下面参照附图借助于至少一个优选实施例来详细描述本发明及 本发明的其它结构上及功能上有利的进一步构型。附图表示 图1 根据本发明的方法的第一实施例的流程图； 图2根据本发明的方法的第二实施例的流程图；及 图3用于实施根据本发明的方法的装置的实施例。
具体实施例方式
在实施根据本发明的用于处理、尤其是用于成像或重复成像的方 法的下述各个实施例时进行初级过程并且如果在实施例中有必要或 期望的话进行次级过程。次级过程在此仅起到支持该方法或改善该方 法的作用，而初级过程对于该方法是绝对必要的——如果不被看作是 选择性的。
在前两个实施例中，作为用于覆盖的两亲分子适用胺、羧酸或磺 酸(或它们各自的酯)的化学物质类别，它们的吸附特性按照经验很 小，它们与表面的连接状态通过根据本发明的固定得到改善。
此外，在前两个实施例中，作为用于覆盖的两亲分子适用所谓的
孪连表面活性剂或炔二醇(Sm"fynol)。对这些物质的说明可参考-
画F. M. Menger， J. S. Keiper (1981). "Gemini Tenside，，
Angewandte Chemie 112: 1980-1996. -R. Zana， M. Benrraou and R. Rueff (1991). "Alkanediyl-a, w-bis(dimethylalkylammonium bromide) surfactants. 1. Effect of the spacer chain length on the critical micelle concentration and micelle ionization degree." Langmuir 7(6): 1072-5. -F. Devinsky, L. Masarova and I. Lacko (1985). "Surface activity and micelle formation of some new bisquaternary ammonium salts." Journal of Colloid and Interface Science 105(1): 235-9.
-F. M. Menger and C. A. Littau (1991). "Gemini-surfactants: synthesis and properties." Journal of the American Chemical Society 113(4): 1451-2.
例子
羧酸(I) 或羧酸的盐(II)
R-C
O
OH<formula>formula see original document page 11</formula><formula>formula see original document page 11</formula>
磺酸(III)<formula>formula see original document page 11</formula>
或磺酸的盐(IV)<formula>formula see original document page 11</formula>
阳离子孪连表面活性剂(v)<formula>formula see original document page 11</formula>式中R-脂族的、芳族的或部分脂族的基团
M+=阳离子抗衡离子，例如Na+、 K+、 NH4+、 N(CH3)4+ A-阴离子抗衡离子，例如Br-、 Cl-、 I-、 ^SCMS-n》0
此外，在前两个实施例中，下面的首先弱吸附并且可固定的聚合 物适用于覆盖縮聚物、聚羟基羰基(Polyhydroxycarbonyle)、碳水 化合物/糖类、葡聚糖、直链葡聚糖、淀粉或优选糊精。尤其适合的是 阿拉伯树胶溶液或上胶溶液(Gummierungsl6sung)。但可用有利的方 式放弃使用聚合物中的光化学组分或放弃如在传统显微聚合物涂层 中所需的聚合物体系(自由基起始剂，交联剂，共聚物)。
所述分子的大部分在覆盖之后首先显示出亲水的或仅弱疏水的 性质并且仅在固定之后才显示出至少弱疏水的性质。
图1示出了根据本发明的方法的第一实施例的流程图。
在方法步骤100 (覆盖；初级过程)中，将一个可重复成像的印 版的用作印刷面的表面在纳米范围内进行表面改性，其方式是通过用 分子覆盖来进行该表面的化学官能化。该覆盖在此优选由水溶液或由 乙醇溶液进行。
在方法步骤110 (成像；初级过程)中，将被覆盖的表面用激光 辐射成像。方法步骤110分成在图像区域(引导油墨的疏水区域)中
分子的固定110a和在非图像区域(引导润湿剂的亲水区域)中分子的 去除110b或解吸的、优选并行进行的方法步骤。在图像区域中的固定 110a优选通过用(不同于零的)第一功率L1的激光辐射成像来进行。 在非图像区域中的去除110b优选通过用与第一功率不同的(也不同于 零的)第二功率L2的激光辐射成像来进行。优选图像区域中的第一 功率L1小于非图像区域中的第二功率(LKL2)。此外，优选所使用 的激光/激光辐射的功率在处理时或在扫过印版表面时位置分辨地 (ortsaufgel6st)变化。
下面是一个优选的例子将一个钛板印版用硬脂异羟肟酸覆盖并 且用波长为1100nm的红外纤维激光器成像。在此通过一个声光调制 器将第一功率Ll选择或转换到约1W并且将第二功率L2选择或转换 到约5W。
下面是另一个优选的例子将一个铝板印版或钛板印版首先进行
净化(次级过程)——如果需要的话。然后将表面用聚合物覆盖，其 方式是在使用一个涂覆单元的情况下涂覆包含糊精的上胶溶液(例如
AgumO或AgumZ， Eggen-Chemie ，约1:1至约1:20，用VE水稀释) 的薄层并且接着通过用VE水冲洗该表面(次级过程)将其去除，直 到留下纳米级表面覆盖层。在该覆盖之后，将印版用波长为1064nm 及功率约1 .OW至约3.5 W的红外激光辐射成像或根据图像来固定覆盖 层。而在非图像区域中在使用激光辐射的情况下去除聚合物覆盖层。
在选择性的方法步骤120 (显影；初级过程)中，将该表面显影、 即优选进行化学处理，其中，例如使印版的亲水区域与疏水区域之间 的对比度增强。该显影优选通过涂覆所谓的上胶溶液、即通过所谓的 上胶来进行。但优选无显影的方法。
在方法步骤130 (涂覆；初级过程)中，在印版的表面上涂覆至 少一种平版印刷的液体，例如与用于印版的清洗剂不同的润湿剂和/
或印刷油墨/亮油。优选首先将润湿剂涂覆130a在该表面上，接着附 加地将印刷油墨涂覆130b在该表面上，即将印版润湿及着墨。
在方法步骤140 (印刷)中，已着墨的印版优选重复地在承印物 上印刷，由此产生至少一个印刷产品。
在印刷之后，印版供重新的覆盖100及成像110使用，即该方法 作为重复成像的循环过程可多次实施。印刷了印刷油墨的印版的表面 的净化在此可在覆盖100之前或之后并且例如在使用Eurostar或异丙 醇的情况下进行。
此外，在重新覆盖之前选择性地进行印版表面的活化，例如通过 UV辐射或大气压等离子体来进行。
图2示出了根据本发明的方法的第二实施例的一个流程图。
在方法步骤200 (覆盖；初级过程)中，将一个可重复成像的印 版的用作印刷面的表面在纳米范围内进行表面改性，其方式是通过用 分子覆盖来进行该表面的化学官能化。该覆盖优选由水溶液或由乙醇 溶液进行。
在方法步骤210 (成像；初级过程)中，将被覆盖的表面用激光 辐射成像。方法步骤210包括在图像区域(引导油墨的疏水区域)中 分子固定210a的方法步骤。在图像区域中的固定210a通过用确定(不 同于零的)功率的激光辐射成像来进行。
下面是一个优选的例子将一个钢板印版或钛板印版(厚度例如
约0.125mm)用丙酮净化(次级过程)并且用受激准分子激光器的 UV辐射来活化约10分钟。接着将该板浸浴在"Gemini 10-2-10"
的约lmM的水溶液中约10分钟，然后用水冲洗(次级过程)并且用 氮吹干(次级过程)。用波长为830nm或1064nm的激光辐射在功率 约1.5W的情况下并且以约2.5m/s的成像速度进行成像或固定。
下面是另一个优选的例子将一个铝板印版或钛板印版首先进行 净化(次级过程)——如果需要的话。然后将表面用聚合物覆盖，其 方式是在使用一个涂覆单元的情况下涂覆包含糊精的上胶溶液(例如 AgumO或AgumZ， Eggen-Chemie，约1:1至约1:20，用VE水稀释) 的薄层并且接着通过用VE水冲洗该表面(次级过程)将其去除，l 到留下纳米级表面覆盖层。在该覆盖之后，将印版用波长为1064nm
及功率约1.0W至约3.5W的红外激光辐射成像或根据图像来固定覆盖层。
在选择性的方法步骤220 (显影；初级过程)中，将该表面显影， 例如使印版的亲水区域与疏水区域之间的对比度增强。该显影优选通 过涂覆所谓的上胶溶液、即通过所谓的上胶来进行。但尤其是在使用 聚合物覆盖层时优选无显影的方法。
下面是一个作为替换方案的优选的例子将一个钢板印版或钛板
印版(厚度例如约0.125mm)用丙酮净化(次级过程)并且用受激准 分子激光器的UV辐射或用Sidol来活化约10分钟。接着将该板的表 面用DuPont公司的所谓"Zonylen"例如"FSE"、 "FSP"或"9361" 以0.05mM与lmM之间的浓度由水溶液来覆盖(Zonyle:具有部分氟 化的烃链并且具有一个或两个锚定基团的两亲分子)。该成像用红外 激光辐射在功率约1W的情况下并且以约2.5m/s的成像速度来进行。 然后将表面用AgumZ上胶。
在方法步骤230 (涂覆；初级过程)中，在表面上涂覆至少一种 平版印刷的液体，例如与用于印版的清洗剂不同的润湿剂和/或印刷油 墨/亮油。优选首先将润湿剂涂覆230a在印版的该表面上，接着同时 将印刷油墨涂覆230b在印版的该表面上，即将印版润湿及着墨。
在非图像区域(排斥油墨的区域)中分子的去除220a、 230c或解 吸基本上通过选择性的显影220或者说在显影220 (如果设置有显影) 期间和/或通过涂覆230或者说在涂覆230期间进行。如果去除220a 通过选择性的显影220来进行，则非图像区域中的分子通过显影液、 优选由上胶溶液从该表面去除。如果去除230c通过涂覆230来进行， 则非图像区域中的分子通过与印刷油墨的涂覆不同的初级过程、优选 通过与用于印版的清洗剂不同的润湿剂从该表面去除。 '
在方法步骤240 (印刷)中，己成像和着墨的印版优选重复地在
承印物上印刷，由此产生至少一个印刷产品。
在印刷之后，印版供重新的覆盖200及成像210使用，即该方法 作为重复成像的循环过程可多次实施。印刷了印刷油墨的印版的表面 的净化在此可在覆盖200之前或之后并且在使用Eurostar或异丙醇的 情况下进行。
此外，在重新覆盖之前选择性地进行印版表面的活化，例如通过 UV辐射或大气压等离子体来进行。
虽然前述两个实施例涉及可重复写入的、即可重复使用的印版， 但也可处理相应的可单次使用的印版。
作为替换方案， 一个根据本发明的变型的方法也可实施用来处理 与承印物接触的表面，例如压印滚筒表面或压印滚筒包衬。对这样一 个面可相应于方法步骤200用起排斥油墨作用的两亲的分子或聚合 物、尤其是糖类进行覆盖并且相应于方法步骤210或210a为了其固定 而全面地优选用红外辐射进行处理。分子的去除则无必要。通过该固 定可产生封闭的并且排斥油墨的表面。如果通过与承印物持续接触导 致排斥油墨的表面磨损，则可用简单的方式重新覆盖该表面并且使该 覆盖分布固定。
作为对前述方法的补充也可提出使一个具有固定的覆盖层的表 面在使用期间至少在损伤部位上持久地更新，其方式是给该表面持久 地提供分子——例如通过使用一个包含分子的相应溶液的浸浴槽，并 且持久地固定分子。
除了前述初级过程(覆盖，成像，固定，去除，选择性的显影， 涂覆)之外，所述方法还可具有次级过程，例如净化/清洗(例如用丙 酮或异丙醇)、冲洗(例如用VE水)和/或干燥(例如通过用氮t^干)。
图3示出了一个用于实施根据本发明的方法的装置的实施例。
处理承印物的机器300 (或作为替换方案 一个分开的处理装置，
例如一个曝光器)具有一个装置302，该装置具有一个滚筒310，该 滚筒的表面320由滚筒壳本身或一个被接收在其上的面、例如平印版 构成。另外，装置302还具有一个在其功率方面可在使用声光调制器 332的情况下转换的激光器330，该激光器用于表面320的成像或用 于固定及用于去除。最后，该装置302还具有用于相应实施前述方法 步骤(覆盖，显影，涂覆，印刷，净化，活化)的其它单元。
参考标号清单
100覆盖220a去除
110成像230涂覆
110a固定230a涂覆润湿剂
謹去除230b涂覆油墨
120显影230c去除
130涂覆240印刷
130a涂覆润湿剂300印刷机
130b涂覆油墨302装置
140印刷310滚筒
200覆盖320表面
210成像330激光器
210a固定332声光调制器
220显影
权利要求
1.用于处理可重复成像的印版的方法，其中，将该印版的用作印刷面的表面在纳米范围内进行表面改性，其方式是通过用分子覆盖(100，200)来进行该表面的化学官能化，该印版经受-用激光辐射成像(110，210)的初级过程，及-涂覆(130，130a，130b，230，230a，230b)至少一种平版印刷的液体的初级过程，其中，-在图像区域中分子的固定(110a，210a)通过成像(110，210)的初级过程进行，其特征在于在非图像区域中分子的去除(110b，220a，230c)基本上通过至少一个与印刷油墨的涂覆(130b，230b)不同的初级过程进行。
2. 根据权利要求1的方法，其特征在于该印版附加地经受显影 (120， 220)的初级过程，尤其是通过涂覆上胶溶液来经受。
3. 根据权利要求1的方法，其特征在于该印版附加地经受净化、 清洗、冲洗及干燥这些次级过程中的至少一个。
4. 根据权利要求1的方法，其特征在于-分子的固定(110a)通过用第一功率的激光辐射成像来进行， -分子的去除(110b)通过用与该第一功率不同的第二功率的 激光辐射成像来进行。
5. 根据权利要求1的方法，其特征在于所述平版印刷的液体的 涂覆(130， 130a， 230， 230a)包括用与清洗剂不同的润湿剂来润湿 该印版。
6. 根据权利要求1的方法，其特征在于对该印版的表面用分子进行的覆盖(100， 200)作为用两亲的分子或用聚合物、尤其是用糖 类进行的覆盖来进行。
7. 用于实施根据权利要求4的方法的装置，其特征在于该装置 (302)具有一个在其功率方面可转换的激光器(330)。
8. 根据权利要求7的装置，其特征在于该可转换的激光器(330) 具有一个声光调制器(332)。
9. 处理承印物的机器、尤其是用于平版胶印的印刷机或处理页张 的轮转印刷机，其特征在于设置有根据权利要求7或8的装置。
10. 用于处理与承印物接触的表面的方法，其中，将这种表面在纳 米范围内进行表面改性，其方式是通过用分子覆盖(100， 200)来进 行该表面的化学官能化，并且使该表面经受对分子用激光辐射迸行的 固定(110a， 210a)。
11. 根据权利要求10的方法，其特征在于对该表面用分子进行的覆盖(100， 200)作为用两亲的分子或聚合物、尤其是用糖类进行 的覆盖来进行。
全文摘要
本发明涉及用于处理可重复成像的印版的方法，其中，将该印版的用作印刷面的表面在纳米范围内进行表面改性，其方式是通过用分子、尤其是用两亲分子或聚合物覆盖(100，200)来进行该表面的化学官能化，该印版经受用激光辐射成像(110，210)的初级过程以及涂覆(130，130a，130b，230，230a，230b)至少一种平版印刷的液体、例如润湿剂和/或印刷油墨/亮油的初级过程，其中，在图像区域中分子的固定(110a，210a)通过成像(110，210)的初级过程进行，其特征在于在非图像区域中分子的去除(110b，220a，230c)基本上通过至少一个与印刷油墨的涂覆(130b，230b)不同的初级过程、尤其是通过成像、润湿剂的涂覆或化学显影进行。
文档编号B41C1/10GK101204868SQ2007101598
公开日2008年6月25日 申请日期2007年12月20日 优先权日2006年12月20日
发明者G·E·豪普特曼, H·拉策尔, M·古特弗莱施, M·施勒霍尔茨, M·赫夫曼, U·特斯曼 申请人:海德堡印刷机械股份公司