纺织数码印花机的喷头清洗保湿装置的制作方法

本实用新型涉及纺织数码印花机技术领域，尤其是涉及一种纺织数码印花机的喷头清洗保湿装置。

背景技术：

目前，数码喷墨印花已在数码纺织印花行业广泛应用。印花过程中，无须直接接触物品，确保打印物品的完整，通过墨水喷射方式进行打印和染色，不会因热量和压力而发生变形等现象，利用电脑的直接输出打印方式，不用在前期做任何准备打印工作，既方便又快捷。但是，由于在喷墨打印中，不管采用什么墨水，都不可避免地会在喷头中产生残留，这样一来，精细的图案打印就会产生不可预知的影响。为此，现有技术中需要定期将喷头拆卸下来清洗，拆装过程麻烦，而且也难以频繁地进行操作。

技术实现要素：

本实用新型的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种不仅结构简单，使用操作方便的纺织数码印花机的喷头清洗保湿装置。

本实用新型是采用如下技术解决方案来实现上述目的：一种纺织数码印花机的喷头清洗保湿装置，其特征在于，它包括设置在纺织数码印花机的机架上的清洗盘、活动设置在清洗盘内的保湿装置和清洗装置；

保湿装置包括保湿基板、设置在保湿基板上的若干个与喷头对应的保湿座、连接于清洗盘与保湿基板之间并驱动保湿基板升降的升降驱动缸，通过驱动保湿基板升起和降低，对喷头保湿功能起到开关作用；

清洗装置包括清洗基板、设置在清洗基板上的与保湿座对应的若干片清洗胶片、固定在保湿基板上且连接清洗基板的清洗驱动缸、分设于清洗盘两侧的连接于清洗盘与保湿基板之间的水平导向机构、固定在清洗盘且连接在保湿基板上的水平驱动缸，清洗驱动缸使清洗胶片升起后高于保湿座；水平驱动缸动作同时带动保湿基板、清洗驱动缸、清洗基板、清洗胶片，通过水平导向机构为导向作前后运动达到清洗喷头的目的。

作为上述方案的进一步说明，水平导向机构包括设置在清洗盘侧壁的导轨和导轨上设置的滑块，通过滑块及导轨作为前后运动的导向构件；升降驱动缸设置在滑块上。

进一步地，所述清洗盘与机架之间设置有支架，支架上设置有支撑固定清洗盘的多根螺杆，清洗盘通过螺杆固定且调整平行。

所述清洗盘的底部设置有加强杆，螺杆的一端固定于加强杆上，另一端立于支架上。

进一步地，所述保湿基板的底部设置有固定板，水平驱动缸的活塞杆连接固定板。

本实用新型采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是：

本实用新型采用在纺织数码印花机的机架上设置清洗盘，并在清洗盘内活动设置保湿装置和清洗装置，实现对喷头的保湿功能和达到清洗喷头的目的，无需拆装，操作方便。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的结构示意图；

图3为本实用新型的结构示意图；

图4为本实用新型的结构示意图。

附图标记说明：1、清洗盘 2、保湿装置 2-1、保湿基板 2-2、保湿座 2-3、升降驱动缸 3、清洗装置 3-1、清洗基板 3-2、清洗胶片 3-3、清洗驱动缸 3-4、水平导向机构 3-41、导轨 3-42、滑块 3-5、水平驱动缸 4、固定板 5、支架 6、螺杆 7、加强杆。

具体实施方式

以下结合具体实施例对本技术方案作详细的描述。

如图1-图4所示，本实用新型是一种纺织数码印花机的喷头清洗保湿装置，它包括设置在纺织数码印花机的机架上的清洗盘1、活动设置在清洗盘1内的保湿装置2和清洗装置3；保湿装置2包括保湿基板2-1、设置在保湿基板上的若干个与喷头对应的保湿座2-2、连接于清洗盘1与保湿基板之间并驱动保湿基板升降的升降驱动缸2-3，通过驱动保湿基板升起和降低，对喷头保湿功能起到开关作用；清洗装置3包括清洗基板3-1、设置在清洗基板上的与保湿座对应的若干片清洗胶片3-2、固定在保湿基板上且连接清洗基板的清洗驱动缸3-3、分设于清洗盘两侧的连接于清洗盘与保湿基板之间的水平导向机构3-4、固定在清洗盘且连接在保湿基板上的水平驱动缸3-5，清洗驱动缸使清洗胶片升起后高于保湿座；水平驱动缸动作同时带动保湿基板2-1、清洗驱动缸3-3、清洗基板3-1、清洗胶片3-2，通过水平导向机构为导向作前后运动达到清洗喷头的目的。本实施例中，保湿基板的底部设置有固定板4，水平驱动缸的活塞杆连接固定板4。

其中，水平导向机构3-4包括设置在清洗盘侧壁的导轨3-41和导轨上设置的滑块3-42，通过滑块及导轨作为前后运动的导向构件；升降驱动缸2-3设置在滑块3-42上。清洗盘与机架之间设置有支架5，支架上设置有支撑固定清洗盘的多根螺杆6，清洗盘通过螺杆固定且调整平行。清洗盘的底部设置有加强杆7，螺杆的一端固定于加强杆上，另一端立于支架上。

本实用新型与现有技术相比，采用在纺织数码印花机的机架上设置清洗盘，并在清洗盘内活动设置保湿装置和清洗装置，实现对喷头的保湿功能和达到清洗喷头的目的，无需拆装，操作方便。

以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。