专利名称：图象曝光记录装置及图象曝光记录方法
技术领域：
本发明涉及在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象的图象曝光记录装置及图象曝光记录方法。
例如，如
图17所示，仅在横方向具有视差信息的全息立体图，是通过将从横方向的不同观察点依次拍摄被摄体100而获得的多个原图101a～101e在具备规定的光学系统的全息立体图制作装置中的显示器中依次显示，向显示的图象照射激光，将由图象调制后的物体光和参照光的干涉产生的干涉条纹作为矩形状的要素全息图，在全息记录介质102上依次曝光记录制作而成的。
这样制作的全息立体图，是将从横方向的不同观察点依次拍摄获得的图象信息作为矩形状的要素全息图在横方向上依次记录，因而，观察者从某位置用单眼观察时，作为各要素全息图的一部分记录的图象信息的集合体可识别成二维图象。在与该位置不同的其他位置用单眼观察时，作为各要素全息图的另一部分记录的图象信息的集合体可识别成另一个二维图象。从而，观察者用双眼观察全息立体图时，由于左右眼的视差，可以识别出作为三维图象的曝光记录图象。
作为适用这种全息立体图的应用，例如，如「Akira Shirakura，Nobuhiro Kihara and Shigeyuki Baba，“Instant holographicportrait printing system”，Proceeding of SPIE，Vol.3293，pp.246-253，Jan.1998」和「木原、白仓、马场＂高速ホログラムポ一トレイトプリントシステム＂，三维图象コンフアレンス1998、1998年7月」等中所记载，由拍摄被摄体并生成视差图象列的拍摄装置和象上述全息立体图制作装置一样将全息立体图或全息图作为印刷物输出的印刷装置组合而成的打印系统等。这种打印系统可以在同一场所提供从被摄体的拍摄到拍摄结果的印刷为止的业务。
上述全息立体图制作时，如图18所示，作为全息记录介质200，采用所谓的胶片涂布型记录介质，其由基胶片201和覆盖胶片203夹持由光致聚合型光聚合物组成的光聚合物层202而形成。这种具有多层构造并形成胶片状的全息记录介质200在全息立体图制作时，不必进行用玻璃等取代光聚合物层202进行粘贴的操作，可直接进行曝光记录，因而在处理上很便利。
作为这种全息记录介质200中的基胶片201及覆盖胶片203，主要采用聚对苯二甲酸乙二醇酯(Poly Ethylene Terephthalate；以下称为PET。)胶片。这是为了达到由制造全息记录介质200的工序中的各种要求。具体地说，全息记录介质200中，涂布光聚合物层202的工序中的基胶片201及覆盖胶片203要求具有耐化学性，而且，光聚合物层202和该光聚合物层202所包含的色素和感光剂等要求不产生反应和扩散等。因而，全息记录介质200中，作为满足这些要求的胶片，可采用PET胶片。另外，相关地，本案申请人也对采用其他材质的胶片作为基胶片及覆盖胶片的全息记录介质进行了比较实验并获得了验证。
这里，我们知道全息立体图会在由使用的全息记录介质200曝光记录的全息立体图象的亮度上产生偏差。作为该原因之一，在全息立体图制作时，认为是照射全息记录介质200的激光的干涉性。作为对该干涉性形成影响的要因，认为是全息记录介质200中的基胶片201及覆盖胶片203所引起的双折射。即，上述PET胶片是具有双折射的胶片，该PET胶片引起的双折射对激光的干涉性形成不良影响。
图19表示PET胶片引起的双折射的概念。例如，如同图中箭头aa表示的光波的振动方向，偏振光状态为直线偏振光的入射光I透射PET胶片PF时受到双折射的影响。因而，如同图中箭头bb表示的光波的振动方向，一般透射PET胶片PF的出射光E的偏振光状态变成椭圆偏振光。另外，由于该出射光E的椭圆偏振光的状态随着PET胶片PF的厚度和制造方法、裁断方向等而异，难以高精度地均一制造PET胶片PF。而且，该出射光E中的椭圆偏振光的状态随着入射光I中的直线偏振光的偏振光角度而变化。
全息立体图象的亮度除了由全息记录介质200的折射率调制度和厚度等的材质决定外，还与曝光记录时来自外部的振动和上述向全息记录介质200照射的激光的干涉性有关。激光的干涉性除了影响使用的激光源的可干涉距离等外，还影响物体光和参照光的偏振光状态等。其中，对于物体光和参照光的偏振光状态，理想为如图20所示，向全息记录介质200照射的物体光O和参照光R最好都是同方向的直线偏振光，如同图中箭头cc、dd表示的光波的振动方向所示，特别地，参照光R为S偏振光时可确认达到最高的干涉性。另外，对于物体光O和参照光R的偏振光状态，在实际记录全息立体图的层，即，必须注意，在全息记录介质200中的光聚合物层202中，物体光O和参照光R都必须为直线偏振光。
但是，图18所示由多层构造形成的全息记录介质200中，通过由PET胶片组成的基胶片201及覆盖胶片203引起的双折射，即使向全息记录介质200入射的物体光和参照光都是直线S偏振光，但是在到达光聚合物层202的阶段，都变成非直线S偏振光。
这样，全息立体图中，由于基胶片201及覆盖胶片203所引起的双折射，物体光和参照光当初具有的偏振光状态发生变化，对干涉性形成不良影响，结果，产生曝光记录的全息立体图象变暗的情况。
发明的公开本发明是解决上述实情的提案，其目的在于提供图象曝光记录装置及图象曝光记录方法，其可避免物体光和参照光透射具有双折射的全息记录介质而引起的物体光和参照光的干涉性的低下，并可导出制作全息立体图或全息图的最佳干涉性，除去全息立体图象或全息图象的亮度的不稳定性。
为达到上述目的而提案的本发明，是将全息立体图象或全息图象曝光记录到全息记录介质的图象曝光记录装置，其包括曝光记录单元，用激光作为物体光及参照光照射全息记录介质，曝光记录全息立体图象或全息图象；偏振光状态检出单元，检出透射全息记录介质的激光偏振光状态；偏振光状态可变单元，根据偏振光状态检出单元的检出结果，使入射全息记录介质的激光偏振光状态改变，使得全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性达到最高。
本发明的图象曝光记录装置，由曝光记录单元曝光记录全息立体图象或全息图象时，由偏振光状态检出单元检出透射全息记录介质的激光偏振光状态，根据偏振光状态检出单元的检出结果，偏振光状态可变单元改变激光偏振光状态，使全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性提高，从而，可制作可避免物体光和参照光透射具有双折射的金息记录介质引起的物体光和参照光的干涉性的低下并再现明亮的全息立体图象或全息图象的全息立体图或全息图。
本发明的图象曝光记录方法，是在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象的图象曝光记录方法，包括偏振光状态检出工序，用激光作为物体光及参照光照射全息记录介质、曝光记录全息立体图象或全息图象时，检出透射全息记录介质的激光偏振光状态；偏振光状态可变工序，根据偏振光状态检出工序的检出结果，使入射全息记录介质的激光偏振光状态改变，使得全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性达到最高。
本发明的图象曝光记录方法，在曝光记录全息立体图象或全息图象时，检出透射全息记录介质的激光偏振光状态，根据该检出结果，改变激光偏振光状态，使全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性提高，从而，可制作可避免物体光和参照光透射具有双折射的全息记录介质引起的物体光和参照光的干涉性的低下并再现明亮的全息立体图象或全息图象的全息立体图或全息图。
而且，本发明的图象曝光记录装置，是在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象的图象曝光记录装置，包括曝光记录单元，用激光作为物体光及参照光照射全息记录介质，曝光记录全息立体图象或全息图象；偏振光状态检出单元，检出透射全息记录介质的激光偏振光状态；记录介质旋转单元，根据偏振光状态检出单元的检出结果，旋转全息记录介质，使全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性达到最高。
本发明的图象曝光记录装置，由曝光记录单元曝光记录全息立体图象或全息图象时，由偏振光状态检出单元检出透射全息记录介质的激光偏振光状态，根据偏振光状态检出单元的检出结果，由记录介质旋转单元使全息记录介质旋转，使全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性提高，从而，可制作可避免物体光和参照光透射具有双折射的全息记录介质而引起的物体光和参照光的干涉性的低下并再现明亮的全息立体图象或全息图象的全息立体图或全息图。
并且，本发明的图象曝光记录方法，是在全息记录介质曝光记录全息立体图象或全息图象的图象曝光记录方法，包括偏振光状态检出工序，用激光作为物体光及参照光照射全息记录介质、曝光记录全息立体图象或全息图象时，检出透射全息记录介质的激光偏振光状态；记录介质旋转工序，根据偏振光状态检出工序中的检出结果，使全息记录介质旋转，使得全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高。
本发明的图象曝光记录方法，在曝光记录全息立体图象或全息图象时，检出透射全息记录介质的激光偏振光状态，根据检出结果，使全息记录介质旋转，使得全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性提高，从而，可制作可避免物体光和参照光透射具有双折射的全息记录介质而引起的物体光和参照光的干涉性的低下并再现明亮的全息立体图象或全息图象的全息立体图或全息图。
另外，本发明的图象曝光记录装置，是在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象的图象曝光记录装置，包括曝光记录单元，用激光作为物体光及参照光照射全息记录介质，曝光记录全息立体图象或全息图象；偏振光状态可变单元，改变入射全息记录介质的激光偏振光状态。曝光记录单元，在每次曝光记录至少一张以上的全息立体图象或全息图象时，作为用以决定使全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态的限定曝光记录，曝光记录由偏振光状态可变单元每次改变偏振光状态时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，偏振光状态可变单元改变激光偏振光状态，以获得使根据多个限定用的全息立体图象或全息图象检出的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态。
本发明的图象曝光记录装置，作为用以决定使全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态的限定曝光记录，由曝光记录单元曝光记录每次改变偏振光状态时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，由偏振光状态可变单元改变激光偏振光状态，以获得使根据多个限定用的全息立体图象或全息图象检出的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态，从而，可制作可避免物体光和参照光透射具有双折射的全息记录介质而引起的物体光和参照光的干涉性的低下并再现明亮的全息立体图象或全息图象的全息立体图或全息图。
而且，本发明的图象曝光记录方法，是在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象的图象曝光记录方法，包括限定曝光记录工序，在每次曝光记录至少一张以上的全息立体图象或全息图象时，用激光作为物体光及参照光照射全息记录介质，曝光记录每次改变偏振光状态时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，以决定使全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态；偏振光状态可变工序，改变激光偏振光状态，以获得使根据多个限定用的全息立体图象或全息图象检出的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态。
本发明的图象曝光记录方法，作为用以决定使全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态的限定曝光记录，曝光记录每次改变偏振光状态时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，通过改变激光偏振光状态，以获得使根据多个限定用的全息立体图象或全息图象检出的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态，从而，可制作可避免物体光和参照光透射具有双折射的全息记录介质而引起的物体光和参照光的干涉性的低下并再现明亮的全息立体图象或全息图象的全息立体图或全息图。
并且，本发明的图象曝光记录装置，是在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象的图象曝光记录装置，包括曝光记录单元，用激光作为物体光及参照光照射全息记录介质，曝光记录全息立体图象或全息图象；记录介质旋转单元，旋转全息记录介质。曝光记录单元，在每次曝光记录至少一张以上的全息立体图象或全息图象时，作为用以决定使全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态的限定曝光记录，曝光记录由记录介质旋转单元每次旋转全息记录介质时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，记录介质旋转单元旋转全息记录介质，以获得使根据多个限定用的全息立体图象或全息图象检出的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态。
本发明的图象曝光记录装置，作为用以决定使全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态的限定曝光记录，由曝光记录单元曝光记录每次旋转全息记录介质时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，由记录介质旋转单元旋转全息记录介质，以获得使根据多个限定用的全息立体图象或全息图象检出的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态，从而，可制作可避免物体光和参照光透射具有双折射的全息记录介质而引起的物体光和参照光的干涉性的低下并再现明亮的全息立体图象或全息图象的全息立体图或全息图。
而且，本发明的图象曝光记录方法，是在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象的图象曝光记录方法，包括限定曝光记录工序，在每次曝光记录至少一张以上的全息立体图象或全息图象时，用激光作为物体光及参照光照射全息记录介质，曝光记录每次旋转全息记录介质时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，以决定使全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态；记录介质旋转工序，旋转全息记录介质，以获得使根据多个限定用的全息立体图象或全息图象检出的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态。
本发明的图象曝光记录方法，作为用以决定使全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态的限定曝光记录，曝光记录每次旋转全息记录介质时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，通过旋转全息记录介质，以获得使根据多个限定用的全息立体图象或全息图象检出的物体光和参照光的干涉性达到最高的激光偏振光状态，从而，可制作可避免物体光和参照光透射具有双折射的全息记录介质而引起的物体光和参照光的干涉性的低下并再现明亮的全息立体图象或全息图象的全息立体图或全息图。
本发明的其他目的及本发明获得的具体优点通过以下参照图面说明的实施例的说明可以变得更加清楚。
图2A至图2C是本发明的全息记录介质的感光处理的说明图，图2A表示初始状态，图2B表示曝光状态，图2C表示定影状态。
图3是说明剥去全息记录介质中的覆盖胶片进行曝光记录时，入射全息记录介质的物体光和参照光的偏振光状态的概念图。
图4是说明剥去全息记录介质中的覆盖胶片进行曝光记录时，物体光和参照光的偏振光状态的概念图。
图5A至图5C是说明物体光和参照光的偏振光面的概念图，用以说明通过预先倾斜参照光的偏振光面进行的逆修正；图5A表示入射同一全息记录介质的参照光的偏振光面，图5B表示全息记录介质中的光聚合物层上的参照光的偏振光面，图5C表示光聚合物层上的物体光的偏振光面。
图6是图5A至图5C中说明的进行逆修正的逆修正系统的构成的说明图。
图7是应用图6所示逆修正系统的全息立体图制作装置的全体构成的说明图。
图8A及图8B是应用本发明的全息立体图制作装置的光学系统的说明图，图8A是全息立体图制作装置的光学系统的正面图，图8B是全息立体图制作装置的光学系统的平面图。
图9A至图9C是说明全息记录介质的旋转方向和物体光及参照光的偏振光面的概念图，用以说明通过旋转全息记录介质进行的逆修正；图9A表示全息记录介质的旋转方向，图9B表示全息记录介质中的光聚合物层上的参照光的偏振光面，图9C表示光聚合物层上的物体光的偏振光面。
图10是图9A至图9C说明的进行逆修正的逆修正系统的构成的说明图。
图11是应用图10所示逆修正系统的全息立体图制作装置的全体构成的说明图。
图12A及图12B是全息立体图制作装置的光学系统的说明图，图12A是全息立体图制作装置的光学系统的正面图，图12B是同一全息立体图制作装置的光学系统的平面图。
图13是说明全息立体图制作装置中进行有限定曝光记录时的一系列工序的流程图。
图14是通过有限定曝光记录而制作的全息立体图的正面图。
图15是复制装置中的逆修正系统的构成的说明图。
图16是通过有限定曝光记录而制作的全息图的正面图。
图17是一般的全息立体图的制作方法的说明图。
图18是说明一般的全息记录介质的主要部分的截面图。
图19是说明PET胶片的双折射的概念图。
图20是说明入射一般的全息记录介质的物体光和参照光的偏振光状态的概念图。
实施发明的最佳实施例以下，参照图面详细说明适用于本发明的实施例。
以下所示例的本发明为，将干涉条纹作为要素全息图以矩形状或点状依次曝光记录在由感光胶片形成的全息记录介质上，制作全息立体图的全息立体图制作装置。
采用本发明的全息立体图制作装置，可制作出避免由全息记录介质具有的双折射引起的物体光和参照光的干涉性的低下并再现明亮的全息立体图象的全息立体图。
首先，在全息立体图制作装置的说明之前，说明在全息记录介质上曝光记录要素全息图的原理。
如图1所示，全息记录介质3是所谓的胶片涂布型记录介质，例如在由聚对苯二中酸乙二醇酯(PolyEthylene Terephthalate；以下称为PET。)胶片组成的作为支持材料的基胶片4上，形成由光致聚合型光聚合物组成的作为记录层的光聚合物层5的同时，在该光聚合物层5上覆盖形成例如由PET胶片组成的作为支持材料的覆盖胶片6。
这种全息记录介质3，如图2A所示，构成光聚合物层5的光致聚合型光聚合物在初始状态中，母体聚合物中的单体M成均一分散的状态。光致聚合型光聚合物通过具有10mJ/cm2至400mJ/cm2功率的激光LA照射，如图2B所示，曝光部中的母体聚合物中，均一分散的单体M形成聚合的状态。
伴随着光致聚合型光聚合物的聚合，从周围移动来的单体M导致单体M的浓度不均，因而在曝光部和未曝光部产生折射率的调制。其后，如图2C所示，光致聚合型光聚合物通过1000mJ/cm2左右功率的紫外线或可见光LB的全面照射，母体聚合物中单体M的聚合结束。这样，由于构成光聚合物层5的光致聚合型光聚合物根据入射的激光LA其折射率改变，因而物体光和参照光的干涉产生的干涉条纹作为折射率的变化曝光记录到全息记录介质3。
全息立体图制作装置中，通过采用由这种光致聚合型光聚合物构成光聚合物层5的胶片涂布型记录介质作为全息记录介质，曝光后不必对全息记录介质3执行特别的显影处理的工序。从而，由于不需要显影装置等，全息立体图制作装置的构成可以简化，并可迅速制作全息立体图。
作为降低全息记录介质3中的基胶片4及覆盖胶片6引起的双折射的影响，提高物体光和参照光的干涉性的一个方法，考虑剥离基胶片4及覆盖胶片6来进行曝光记录。该方法中，光聚合物层5直接暴露在外部，由于其是刚性面，因而不能说是一个好的方法。
因而，作为降低全息记录介质3中的基胶片4及覆盖胶片6引起的双折射的影响的另一个方法，考虑从基胶片4或覆盖胶片6中至少剥离其一来进行曝光记录。例如，如图3所示，在全息记录介质3中，以参照光R照射的主面作为基胶片4的一侧，同时以物体光O照射的主面作为覆盖胶片6的一侧，考虑剥离该覆盖胶片6进行曝光记录的情况。此时，物体光O以图3中箭头a表示的光波的振动方向，偏振光状态采用直线偏振光，向全息记录介质3入射，同时，参照光R以图3中箭头b表示的光波的振动方向，偏振光状态采用直线S偏振光，向全息记录介质3入射。
此时，如图4所示，偏振光状态采用直线偏振光的物体光O不会受到双折射的影响，以图4中箭头a`表示的光波的振动方向且保持偏振光状态向光聚合物层5入射，因而不会发生任何问题。另一方面，对于参照光R，虽然偏振光状态采用直线S偏振光向基胶片4入射，但是以图4中箭头b`表示的光波的振动方向向基胶片4透射时，受到基胶片4引起的双折射的影响，变成椭圆偏振光，脱离了理想的偏振光状态。本案申请人进行实验时，确认该参照光R的直线偏振光的偏离程度与基胶片4有很大的依存性。即，可以确认，在采用厚度为50微米的基胶片4时，即使相对于照射的参照光R的基胶片4的设置角度仅仅倾斜1度左右，参照光R的偏振光状态也有很大变化，物体光O的干涉性也有很大变化。换言之，即使考虑进行基胶片4的筛选来降低双折射的影响，也由于筛选基准过于严格而变得不可行。而且，全息立体图制作装置中，如后述，在曝光记录时必须以一个要素全息图的大小间歇地发送全息记录介质3，此时，间歇发送所伴随的全息记录介质3的倾斜容限，即，全息记录介质3的角度精度必须非常高，在实用上不可行。
另外，作为降低全息记录介质3中的基胶片4及覆盖胶片6引起的双折射的影响的又一个方法，考虑用双折射小的材质至少替换覆盖胶片6。但是，该方法中，物体光O及参照光R的干涉性也产生同样的问题，并不是有效的对策。
因而，本案申请人在参照光R以直线偏振光入射全息记录介质3时，通过预先改变参照光R的偏振光状态执行逆修正，使得透射基胶片4到达光聚合物层5的参照光R和物体光O的干涉性达到最高。
即，如图5A的光波的振动方向所示，若向全息记录介质3入射的直线偏振光的参照光R的偏振光面发生变化，则与其响应，如图5B的光波的振动方向所示，透射基胶片4到达光聚合物层5的椭圆偏振光的参照光R的偏振光面也变化。这里，物体光O，如图5C的光波的振动方向所示，通过从全息记录介质3剥离覆盖胶片6，以保持直线偏振光的偏振光面的状态向全息记录介质3入射。从而，表示到达光聚合物层5的参照光R中的椭圆偏振光的长轴方向的偏振光面的矢量和表示到达光聚合物层5的物体光O中的直线偏振光的偏振光面的矢量之积达到最大时，即，光聚合物层5中参照光R中的椭圆偏振光的长轴方向和物体光O中的直线偏振光的方向一致时，干涉性达到最高，光聚合物层5中曝光记录的干涉条纹的对比度可达到最高，可获得明亮的全息立体图象。
作为进行这种逆修正的方法，考虑构成图6所示的逆修正系统。逆修正系统包括偏振光状态可变单元即半波片11，其旋转入射全息记录介质3的直线偏振光即参照光R的偏振光面；偏振光状态检出单元中的光学元件即偏振片12，其从透射全息记录介质3并双折射的参照光R中，仅仅透射具有规定的偏振光面的分量；偏振光状态检出单元中的强度检出单元即光检测器13，其检出透射该偏振片12的参照光R的强度。
这种逆修正系统，如图6中箭头c表示的光波的振动方向所示，由该光轴上配置的半波片11旋转偏振光状态为直线偏振光的参照光R的偏振光面，如图6中箭头d表示的光波的振动方向所示，偏振光面旋转了规定角度的参照光R向全息记录介质3入射。而且，逆修正系统将透射全息记录介质3的部分区域并双折射的参照光R导向偏振片12。该偏振片12设置成使参照光R具有与这里未图示的物体光相同的偏振光面时透射率达到最小或最大。另外，逆修正系统也可以取代偏振片12而设置具有同样机能的偏振光束分离器等的光学元件。逆修正系统通过光检测器13检出透射偏振片12的参照光R的强度。即，逆修正系统由偏振片12及光检测器13检出参照光R的偏振光状态。逆修正系统决定半波片11的旋转角度，使光检测器13检出的参照光R的强度达到最小或最大。
通过这样的构成，逆修正系统可倾斜参照光R的偏振光面进行逆修正，使到达光聚合物层5的参照光R和物体光的干涉性达到最高。
全息立体图制作装置在制作全息立体图时，通过采用这种逆修正系统，可制作能够再现明亮的全息立体图象的全息立体图。以下，说明该全息立体图制作装置。这里，说明了全息立体图制作装置通过在一张全息记录介质上曝光记录矩形状的多个要素全息图来制作具有横方向的视差信息的全息立体图，但是，作为全息立体图制作装置，也可以通过在一张全息记录介质上曝光记录点状的多个要素全息图来制作具有横方向及纵方向的视差信息的全息立体图。
例如图7所示，全息立体图制作装置20在上述感光胶片组成的全息记录介质3曝光记录全息立体图象。全息立体图制作装置20包括执行曝光记录对象的图象数据的处理的图象数据处理部21；综合控制该全息立体图制作装置20的控制用计算机22；执行后述的反馈控制的反馈控制装置23；具有全息立体图制作用光学系统的曝光记录单元即全息立体图制作部24。
图象数据处理部21至少具有图象处理用计算机25及存储装置26，根据包含由具有例如复眼式摄象机和移动式摄象机等的视差图象列摄像装置1供给的视差信息的摄像图象数据D1和包含由图象数据生成用计算机2生成的视差信息的计算机图象数据D2等的图象数据，生成视差图象数据列D3。
另外，摄像图象数据D1是用例如复眼式摄象机同时拍摄或移动式摄象机连续拍摄而获得的多个图象数据，包含有构成摄像图象数据D1的各图象数据间的视差信息。另外，计算机图象数据D2是作为例如CAD(Computer Aided Design计算机辅助设计)和CG(ComputerGraphics计算机图形)作成的多个图象数据，包含有构成计算机图象数据D2的各图象数据间的视差信息。
图象数据处理部21对基于这些摄像图象数据D1及/或计算机图象数据D2的视差图象数据列D3，进行由图象处理用计算机25执行的全息立体图用的规定图象处理，生成全息图象数据D4。全息图象数据D4暂时存储到例如内存和硬盘装置等的存储装置26。如后述，图象数据处理部21在全息记录介质3上曝光记录要素全息图象时，从存储装置26存储的全息图象数据D4依次读出一个图象大小的要素全息图象数据D5，这些要素全息图象数据D5供给控制用计算机22。
控制用计算机22控制全息立体图制作部24，将基于由图象数据处理部21供给的要素全息图象数据D5的要素显示图象作为矩形状的要素全息图依次曝光记录在设置于全息立体图制作部24的全息记录介质3。此时，如后述，控制用计算机22控制全息立体图制作部24的各机构的动作。特别地，如后述，控制用计算机22根据反馈控制装置23供给的反馈信号C1，决定全息立体图制作部24中的半波片11的旋转角度，控制参照光L3的偏振光面。
如后述，反馈控制装置23根据全息立体图制作部24供给的参照光的强度信号，生成用以控制半波片11的旋转角度的反馈信号C1。反馈控制装置23将生成的反馈信号C1供给控制用计算机22。
全息立体图制作部24如下构成，即，构成光学系统的各部分设置成由未图示的支持基板(光学台)支承，该支持基板设置成通过未图示的减震器等由装置外壳支承。全息立体图制作部24具有作为全息立体图制作用的光学系统的入射光学系统、物体光学系统及参照光学系统。另外，全息立体图制作装置20中，由于采用了感光材料的全息记录介质3，因而装置外壳形成至少保持光学系统的遮光性的构造。
如图8A所示，作为入射光学系统，全息立体图制作部24包括出射规定波长的激光的激光源31；配置于来自该激光源31的激光L1的光轴上，使激光L1入射到后级或遮断激光L1的遮光机构32；将激光L1分割成物体光L2和参照光L3的半透明反射镜33。
激光源31由例如出射单一波长且干涉性高的激光L1的半导体激励YAG激光装置、水冷氩离子激光装置或水冷氪激光装置等的激光装置构成。激光源31出射直线S偏振光即激光L1。
遮光机构32对应要素全息图象数据D5的输出定时，根据控制用计算机22输出的控制信号C2执行开闭动作，使激光L1入射到后级的光学系统，或，遮断激光L1入射到后级的光学系统。
半透明反射镜33将入射的激光L1分割成透射光和反射光。激光L1的透射光作为上述物体光L2，另一方面，反射光作为参照光L3。物体光L2和参照光L3分别入射后级设置的物体光学系统或参照光学系统。
另外，虽然未图示，但是入射光学系统中可设置适当改变激光L1的行进方向，使物体光L2和参照光L3的光路长相同的反射镜等。另外，遮光机构32也可以是诸如机械驱动遮光片的结构和采用音响光学调制器(Acousto-Optic Modulation；AOM)的电子遮光的结构。即，遮光机构32可以是任何可遮蔽及透射激光L1的自由开闭的结构。
另外，如图8A及图8B所示，作为物体光学系统，全息立体图制作部24包括反射镜34；空间滤光片35；准直透镜36，投影透镜37；圆筒透镜38及遮幅框39等的光学部件，这些各光学部件沿光轴从输入侧开始依次配置。
反射镜34将透射半透明反射镜33的物体光L2反射。该反射镜34反射的物体光L2入射到空间滤光片35。
空间滤光片35由例如凸透镜和针孔组合构成，对应后述的透射型液晶显示器40的显示面宽度，各向同性地扩大反射镜34反射的物体光L2。
准直透镜36平行校正由空间滤光片35扩大的物体光L2，并将其导向透射型液晶显示器40。
投影透镜37稍微扩散物体光L2，投影到圆筒透镜38。该投影透镜37通过稍微扩散物体光L2，可提高制作的全息立体图的画质。
圆筒透镜38将平行校正的物体光L2在横方向上聚光。
遮幅框39具有矩形状的开口部，使由圆筒透镜38聚光的物体光L2中通过开口部的部分入射剥离了覆盖胶片6的全息记录介质3。
物体光学系统中，在准直透镜36和投影透镜37之间配置了透射型液晶显示器40。透射型液晶显示器40中，根据控制用计算机22供给的要素全息图象数据D5依次显示要素全息图象。另外，控制用计算机22对应要素全息图象数据D5的输出定时，将驱动信号C3供给后述的全息记录介质3的记录介质传动机构44，通过执行其动作控制来控制全息记录介质3的传动动作。
这种物体光学系统中，由入射光学系统分割后入射的细光束状且为直线偏振光的物体光L2由空间滤光片35扩大，同时，通过入射准直透镜36而被平行校正。而且，物体光学系统中，经由准直透镜36入射透射型液晶显示器40的物体光L2根据该透射型液晶显示器40显示的要素全息图象进行图象调制，同时，经由投影透镜37入射圆筒透镜38。当遮光机构32处于开启动作时，物体光学系统将图象调制后的物体光L2经由遮幅框39的开口部入射全息记录介质3，对应要素全息图象进行曝光记录。
而且，全息立体图制作部24作为参照光学系统，包括半波片11、空间滤光片41、准直透镜42及反射镜43，这些各光学部件沿光轴从输入侧开始依次配置。
半波片11是例如构成上述逆修正系统的云母波片，使由半透明反射镜43反射分割的直线S偏振光即参照光L3的偏振光面以例如光轴为旋转中心旋转规定角度。此时，半波片11根据控制用计算机22输出的控制信号C4，通过例如由马达驱动未图示的旋转机构进行旋转动作，以具有高精度和再现性，从而以规定角度旋转参照光L3的偏振光面。
空间滤光片41与上述物体光学系统中的空间滤光片45不同，例如由圆筒透镜和狭缝组合构成，使具有透射半波片11的规定角度的偏振光面的直线S偏振光的参照光L3对应规定宽度，具体地说，对应透射型液晶显示器40的显示面宽度，在一个方向上扩大。
准直透镜42平行校正由空间滤光片41扩大的参照光L3。
反射镜43反射参照光L3，导向并入射到全息记录介质3的后方。
具有这种光学系统的全息立体图制作部24这样构成，使得由半透明反射镜33分割的物体光L2通过的光学系统即物体光学系统和参照光L3通过的光学系统即参照光学系统的光路长大致相同。从而，全息立体图制作部24可提高物体光L2和参照光L3的干涉性，可制作具有更鲜明的再现图象的全息立体图。
而且，全息立体图制作装置20还具备记录介质传动机构44，将全息记录介质3以一个要素全息图的大小间歇地以图8B中箭头f所示方向发送。
记录介质传动机构44根据控制用计算机22供给的驱动信号C3，间歇地移动驱动全息记录介质3。全息立体图制作装置20与该记录介质传动机构44的动作联动，根据控制用计算机22供给的控制信号C2，使上述遮光机构32动作并开启激光L1的光路。
并且，全息立体图制作装置20具备构成上述逆修正系统的偏振片12及光检测器13。
如上述，偏振片12设置成当参照光L具有与物体光L2相同的偏振光面时，透射率成为最小或最大。偏振片12从透射全息记录介质3的部分区域并双折射的参照光L3中仅仅透射具有规定的偏振光面的分量。
如上述，光检测器13检出透射偏振片12的参照光L3的强度。光检测器13将表示检出的参照光L3的强度的强度信号供给反馈控制装置23。
这种全息立体图制作装置20，在一个要素图象大小的曝光记录结束时，通过从控制用计算机22向记录介质传动机构44供给与一个要素全息图对应的驱动信号C3，驱动全息记录介质3沿移动路径移动与一个要素全息图对应的量，并对应遮幅框39的开口部的未曝光部位而停止。另外，全息立体图制作装置20形成使伴随全息记录介质3的移动动作而产生的该全息记录介质3的振动迅速停止的结构。这里，全息记录介质3由长条状的感光胶片形成，卷绕在未图示的全体保持遮光状态的胶片暗盒内部设置的可自由旋转的供给滚筒上。该胶片暗盒若装到全息立体图制作装置20上，则全息记录介质3可导出到全息立体图制作装置20的内部，并通过记录介质传动机构44驱动移动到移动路径。
在该状态下，全息立体图制作装置20使遮光机构32开启，将图象调制的物体光L2和参照光L3从全息记录介质3的正反面入射全息记录介质3，曝光记录与要素全息图象对应的干涉条纹。一个要素图象的曝光记录结束后，全息立体图制作装置20从控制用计算机22向记录介质传动机构44供给驱动信号C3，驱动全息记录介质3迅速移动规定量后停止。
此时，如上述，全息立体图制作装置20为了使光检测器13检出的参照光L3的强度达到最小或最大，由反馈控制装置23生成反馈信号C1，根据该反馈信号C1，通过控制用计算机22的控制信号C4旋转半波片11。通常，全息立体图制作装置20不必频繁进行使该半波片11旋转动作的反馈控制。即，由于全息记录介质3中的基胶片4引起的双折射的变化通常不剧烈，因而全息立体图制作装置20可在一张全息立体图象的曝光记录时或多张全息立体图象的曝光记录时进行反馈控制。
例如，一张全息立体图象的曝光记录结束后，全息立体图制作装置20还可以规定的间隔另外曝光记录用以识别下次曝光记录的全息立体图象的边界的标记，与其配合进行反馈控制。
全息立体图制作装置20也可以以规定张数的全息立体图象的曝光记录作为一个周期，在周期内，由偏振片12及光检测器13持续检出参照光L3的偏振光状态，由反馈控制装置23算出参照光L3的强度的时间平均值等的统计信息，根据该统计信息使半波片11旋转动作。
根据全息记录介质3的种类和品质的偏差等的各种要因，全息立体图制作装置20必须进行反馈控制的次数也不同，因而不必以规定周期进行反馈控制，以在进行全息立体图象的曝光记录以外的时间进行反馈控制作为条件，可根据状况任意选择是否进行反馈控制。例如，全息立体图制作装置20在进行至少一张以上的全息立体图象的曝光记录期间，由偏振片12及光检测器常时持续检出参照光L3的偏振光状态，偏振光状态偏离规定的偏振光状态时，即，光检测器13检出的参照光L3的强度为规定的值以下或以上时，判断物体光L2和参照光L3的干涉性与允许的状态相比为不良，可执行反馈控制。此时，全息立体图制作装置20也可以通过反馈控制装置23算出由光检测器13检出的参照光L3的强度的时间平均值等的统计信息，根据该统计信息使半波片11旋转动作。
全息立体图制作装置20也可在每次曝光记录要素全息图时执行反馈控制。此时，全息立体图制作装置20必须另外向全息记录介质3照射与参照光L3同样的激光。具体地说，虽然未图示，全息立体图制作装置20使透射至少半波片11的参照光L3分支照射，以透射全息记录介质3中的全息立体图象的记录区域以外的区域。这里，与参照光L3分开，向全息记录介质3另外照射的激光必须与参照光L3相同，注意该相同不仅指波长，还包括光路长和对全息记录介质3的入射角度等所有条件一致的状态。
本发明的全息立体图制作装置20在使遮光机构32开启、向全息记录介质3照射物体光L2及参照光L3期间，即，曝光记录要素全息图或全息立体图象期间，不旋转半波片11，而在遮光机构32遮断、不向全息记录介质3照射物体光L2及参照光L3的状态下，旋转半波片11。
这样曝光记录全息立体图象的全息立体图制作装置20，还执行定影处理，包括由未图示的定影处理部向全息记录介质3照射紫外线的处理和以规定温度对全息记录介质3进行加热的处理，使曝光记录到全息记录介质3的全息立体图象定影。全息立体图制作装置20将执行了定影处理的全息记录介质3以每个全息立体图象的规定大小依次切割，作为一张全息立体图向外部输出。
全息立体图制作装置20通过依次执行该动作，向长条状的全息记录介质3依次曝光记录多个全息立体图象，制作成曝光记录了一张全息立体图象的全息立体图。
这样，全息立体图制作装置20，令物体光L2及参照光L3都为直线偏振光，在剥离覆盖全息记录介质3中的一个主面的覆盖胶片6的状态下入射物体光L2，同时，向由基胶片4覆盖另一个主面的全息记录介质3入射参照光L3时，通过倾斜参照光L3的偏振光面进行逆修正，可使参照光L3和物体光L2的干涉性达到最高，可解决因双折射引起的全息立体图象的亮度的不稳定性，制作可再现明亮的全息立体图象的全息立体图。
本发明的全息立体图制作装置20，在剥离全息记录介质3中的基胶片4的状态下入射参照光L3的同时，向由覆盖胶片6覆盖的全息记录介质3入射物体光L2，可倾斜物体光L2的偏振光面进行逆修正。但是，根据以下的理由，最好通过倾斜上述的参照光L3的偏振光面进行逆修正。
首先，第1理由为，如图8B所示，物体光L2是在全息记录介质3上聚光形成的。即，聚光的物体光L2是具有多个行进方向的光波的集合，因而对全息记录介质3的入射角也多种多样。由于双折射时刻随着入射角的变化而变化，当倾斜物体光L2的偏振光面进行逆修正时，聚光的物体光L2中，难以判别具有哪个行进方向的光波的强度由偏振片12及光检测器13而检出。因而，全息立体图制作装置20难以进行物体光L2的强度检出。相对地，倾斜参照光L3的偏振光面进行逆修正时，平行校正参照光L3后向全息记录介质3入射，因而不会产生这种问题。
第2理由为，透射型液晶显示器40的存在而引起的。即，由于全息立体图制作装置20具备透射型液晶显示器40，因而，作为用以倾斜物体光L2的偏振光面的半波片11，不能设置在透射型液晶显示器40的后级。这样，采用在透射型液晶显示器40的后级设置半波片11的构成时，与透射型液晶显示器40的显示面宽度对应，由空间滤光片35各向同性地扩大的物体光L2，为了使其偏振光面旋转，必须采用至少透射型液晶显示器40的显示面宽度以上大小的半波片11，因而是不现实的。相对地，倾斜参照光L3的偏振光面进行逆修正时，只要准备可覆盖由半透明反射镜33分割的细光束状的参照光L3大小的半波片11就足够了。
第3理由为，如图8A所示，参照光L3以规定的角度入射全息记录介质3的主面，而物体光L2正面入射全息记录介质3的主面。即，对于双折射的情况，与正面入射全息记录介质3的主面的物体光L2所引起的情况比较，以规定的角度入射全息记录介质3的主面的参照光L3所引起的情况会灵敏地响应全息记录介质3的设置角度的变化而变化。因而，作为全息立体图制作装置20，最好对双折射的变化剧烈的参照光L3进行修正。
根据这些理由，全息立体图制作装置20通过倾斜参照光L3的偏振光面进行逆修正具有实质的意义。
接着，作为降低全息记录介质3中的基胶片4及覆盖胶片6引起的双折射的影响并提高物体光和参照光的干涉性的其他方法，还提出上述偏振光面的逆修正法以外的方法。
该方法利用全息记录介质3自身的波片的机能。即，本案申请人发现，全息记录介质3自身具有与波片同样地旋转偏振光面、改变偏振光状态的性质。因而，本案申请人在将参照光R以直线偏振光入射全息记录介质3时，通过在全息记录介质3中的主面内方向旋转该全息记录介质3进行逆修正，使透射基胶片4、到达光聚合物层5的参照光R和物体光O的干涉性达到最高。这里，全息记录介质3若是例如水晶和云母等可保持偏振光轴的物质，则偏振光轴和参照光R的偏振光面一致时，以直线偏振光入射的参照光R从全息记录介质3出射时也保持直线偏振光。实际上，全息记录介质3具有与水晶和云母等不同的性质，虽然不能保持偏振光轴，但是通过同样的效果可获得高干涉性。
即，图9A表示从正面观察主面时全息记录介质3的旋转方向，响应全息记录介质3的旋转，如图9B的光波的振动方向所示，透射基胶片4到达光聚合物层5的椭圆偏振光的参照光R的偏振光面和椭圆率也变化。这里，如图9C表示的光波的振动方向，物体光O通过从全息记录介质3剥离覆盖胶片6，以保持直线偏振光的偏振光面的状态入射全息记录介质3。从而，表示到达光聚合物层5的参照光R中的椭圆偏振光的长轴方向的偏振光面的矢量和表示到达光聚合物层5的物体光O中的直线偏振光的偏振光面的矢量之积达到最大时，即，光聚合物层5上中参照光R中的椭圆偏振光的长轴方向和物体光O中的直线偏振光的方向一致时，达到最高干涉性，光聚合物层5中曝光记录的干涉条纹的对比度可达到最高，可获得明亮的全息立体图象。
作为进行这种逆修正的方法，可考虑构成图10所示参照光R的逆修正系统。逆修正系统包括旋转全息记录介质3的记录介质旋转单元即记录介质旋转机构51；从透射全息记录介质3并双折射的参照光R仅仅透射具有规定的偏振光面的分量的偏振光状态检出单元中的光学元件即偏振片52；检出透射该偏振片52的参照光R的强度的偏振光状态检出单元中的强度检出单元即光检测器53。
这种逆修正系统，如图10中箭头9表示的光波的振动方向所示，偏振光状态为直线偏振光的参照光R入射全息记录介质3。而且，逆修正系统在全息记录介质3中的主面内方向由记录介质旋转机构51旋转该全息记录介质3，如图10中箭头h表示的光波的振动方向所示，以规定的角度旋转偏振光状态为椭圆偏振光的参照光R的偏振光面，改变偏振光状态。而且，逆修正系统将透射全息记录介质3的部分区域并双折射的参照光R导向偏振片52。该偏振片52与上述偏振片12同样，设置成当参照光R具有与这里未图示的物体光相同的偏振光面时透射率达到最小或最大。另外，逆修正系统也可设置具有同样的机能的偏振光束分束器等的光学元件，以取代偏振片52。然后，逆修正系统通过光检测器53检出透射偏振片52的参照光R的强度。即，逆修正系统通过偏振片52及光检测器53检出参照光R的偏振光状态。逆修正系统决定记录介质旋转机构51旋转全息记录介质3的角度，使由光检测器53检出的参照光R的强度达到最小或最大。
从而，逆修正系统可以执行逆修正，通过旋转全息记录介质3，使透射全息记录介质3的参照光R的偏振光面尽可能靠近直线S偏振光，使得到达光聚合物层5的参照光R和物体光的干涉性达到最高。
以下，说明适用这种逆修正系统的全息立体图制作装置。另外，以下的说明中，与上述全息立体图制作装置20同样的构成附上同一符号，省略详细的说明。
如图11所示，除了上述图象数据处理部21及控制用计算机22以外，全息立体图制作装置20A还具备进行后述的反馈控制的反馈控制装置23A和具有全息立体图制作用光学系统的曝光记录单元即全息立体图制作部24A。
如上述，控制用计算机22控制全息立体图制作部24A，将基于图象数据处理部21供给的要素全息图象数据D5的要素显示图象作为矩形状的要素全息图依次曝光记录到设置于全息立体图制作部24A的一部分的全息记录介质3。特别地，如后述，控制用计算机22根据反馈控制装置23A供给的反馈信号C11，决定全息立体图制作部24A中设置的全息记录介质3的旋转角度，控制全息立体图制作部24A中的记录介质旋转机构51的动作，控制参照光L3的偏振光状态。
如后述，反馈控制装置23A根据全息立体图制作部24A供给的参照光的强度信号，生成用以控制全息记录介质3的旋转角度的反馈信号C11。反馈控制装置23A将生成的反馈信号C11供给控制用计算机22。
如图12A及图12B所示，全息立体图制作部24A的入射光学系统及物体光学系统与上述全息立体图制作装置24相同，但是参照光学系统形成除去上述半波片11的构成。
全息立体图制作装置20A具备记录介质传动机构44，其如图12B中箭头i所示方向，以一个要素全息图的大小间歇传动全息记录介质3。
全息立体图制作装置20A具备构成上述逆修正系统的记录介质旋转机构51、偏振片52及光检测器53。
记录介质旋转机构51根据控制用计算机22输出的控制信号C4，以全息记录介质3中的例如主面中心部为旋转中心，向其面内方向以规定角度旋转该全息记录介质3。另外，记录介质旋转机构51不限于以主面中心部作为全息记录介质3的旋转中心，只要是使全息记录介质3和曝光部的位置匹配的结构，可以采用主面内的任意点作为旋转中心。
偏振片52与上述偏振片12同样，设置成当参照光L3具有与物体光L2相同偏振光面时使透射率达到最小或最大。偏振片52从透射全息记录介质3的部分区域并双折射的参照光L3中仅仅透射具有规定的偏振光面的分量。
光检测器53与上述光检测器13同样，检出透射偏振片52的参照光L3的强度。光检测器53将表示检出的参照光L3的强度的强度信号供给反馈控制装置23A。
这种全息立体图制作装置20A与上述全息立体图制作装置20同样，在每次结束一个要素图象的曝光记录时，通过从控制用计算机22将与一个要素全息图对应的驱动信号C3供给记录介质传动机构44，沿移动路径驱动全息记录介质3移动与一个要素全息图对应的量，并与遮幅框39的开口部中未曝光部位对应，停止移动。这里，如上述，全息记录介质3是卷绕在胶片暗盒的内部中可自由旋转的供给滚筒上的长条状的感光胶片，通过由记录介质旋转机构51保持的供给滚筒和卷绕输出的全息记录介质3的卷绕滚筒，进行旋转动作。此时，全息立体图制作装置20A中，通过旋转全息记录介质3，全息记录介质3中的主面上曝光记录的全息立体图象的方向通常不一样，可能发生歪斜，因而，为了使来自全息记录介质3的全息立体图象不中断，适宜修正由记录介质传动机构44间歇传动全息记录介质3的方向，进行间歇传动。
在该状态下，全息立体图制作装置20A使遮光机构32开启，将图象调制的物体光L2和参照光L3从全息记录介质3的正反面入射全息记录介质3，曝光记录与要素全息图象对应的干涉条纹。一个要素图象的曝光记录结束后，全息立体图制作装置20A从控制用计算机22向记录介质传动机构44供给驱动信号C3，驱动全息记录介质3迅速移动规定量后停止。
此时，如上述，全息立体图制作装置20A由反馈控制装置23A生成反馈信号C11，根据该反馈信号C11，通过控制用计算机22的控制信号C4使记录介质旋转机构51动作，旋转全息记录介质3，使得由光检测器53检出的参照光L3的强度达到最小或最大。如上述，全息立体图制作装置20A可以在每次曝光记录一张全息立体图象或多张全息立体图象时进行使该全息记录介质3的旋转的反馈控制，另外，曝光记录至少一张以上的全息立体图象期间，由偏振片52及光检测器53常时连续检出的偏振光状态偏离规定的偏振光状态时，可进行反馈控制，也可采用上述方法之一。
这样，全息立体图制作装置20A，令物体光L2及参照光L3都为直线偏振光，在剥离覆盖全息记录介质3中的一个主面的覆盖胶片6的状态下入射物体光L2，同时，向由基胶片4覆盖另一个主面的全息记录介质3入射参照光L3，通过进行旋转全息记录介质3、使透射全息记录介质3的参照光L3的偏振光面尽可能靠近直线S偏振光的逆修正，可使参照光L3和物体光L2的干涉性达到最高，可解决因双折射引起的全息立体图象的亮度的不稳定性，制作可再现明亮的全息立体图象的全息立体图。
另外，根据全息立体图制作装置20的说明中说明的理由，全息立体图制作装置20A最好根据参照光L3的强度进行逆修正。
上述全息立体图制作装置20、20A中都必须在剥离全息记录介质3中覆盖物体光入射的一个主面的覆盖胶片6的状态下进行曝光记录，因而感到处理麻烦。另外，由于上述全息立体图制作装置20、20A中都采用利用偏振片12、52及光检测器13、53，检出透射全息记录介质3并双折射的参照光的偏振光状态的手法，因而作为光学系统的一部分，必须另外设置偏振片12、52及光检测器13、53。因而，以下，作为解决这些问题的手法，提出了不必剥离覆盖胶片6且不必设置偏振片12、52及光检测器13、53，使参照光和物体光的干涉性达到最高的检出参照光的偏振光面的手法。
该手法在每次向一根长条状的全息记录介质3曝光记录至少一张以上的全息立体图象时，进行限定曝光记录，以决定最佳参照光的偏振光面。另外，如上述，该手法可通过旋转光学系统内设的半波片11、旋转全息记录介质3，进行参照光的偏振光面的逆修正。这里，目前说明光学系统内设置半波片11的情况。
适用该手法的全息立体图制作装置是在前面的图7、图8A及图8B所示全息立体图制作装置20中，除去偏振片12及光检测器13、反馈控制装置23而构成。从而，这里，与上述全息立体图制作装置20同样的构成附上同一符号，省略其详细说明。
首先，全息立体图制作装置在安装上内部卷绕有长条状的感光胶片形成的全息记录介质3的胶片暗盒后，进行决定半波片11的旋转角度的限定曝光记录。该限定曝光记录，例如将全白色的图象作为基于上述要素全息图象数据D5的要素全息图象，在透射型液晶显示器40上显示，将半波片11的旋转角度设定成规定角度，透射透射型液晶显示器40的激光作为物体光L2，曝光记录规定个数的要素全息图。限定曝光记录执行这样的动作，改变半波片11的旋转角度，制作出由呈现与半波片11的旋转角度的阶段变化相应的多个亮度的要素全息图组成的限定用的全息立体图象。
具体地说，全息立体图制作装置通过图13所示一系列的工序进行限定曝光记录。
首先，如同图所示，全息立体图制作装置在步骤S1中探索成为参照光学系统中设置的半波片11的旋转角度基准的原点。该原点可以是任意的旋转角度，半波片11设置该原点时，令旋转角度为“0°”。全息立体图制作装置探索半波片11的原点后，使图象数据处理部21及控制用计算机22处于待机状态。
接着，全息立体图制作装置在步骤S2中根据控制用计算机22输出的控制信号C4，旋转半波片11，设定规定角度。例如，全息立体图制作装置最好将半波片11设定成“-45°”。这是因为，实验确认若使半波片11旋转90°，则偏振光面旋转180°，若以原点为中心在±45°的范围内旋转半波片11，则可检出最佳偏振光面。从而，以下，进一步说明半波片11设定成“-45°”的情况。
接着，在步骤S3中，全息立体图制作装置在控制用计算机22的控制下，使上述记录介质传动机构44可动作，保持全息记录介质3后，在步骤S4中，为了找到全息记录介质3的开始端，根据控制用计算机22供给的驱动信号C3，由记录介质传动机构44驱动全息记录介质3移动规定距离，例如1mm。
接着，在步骤S5中，全息立体图制作装置为了抑制旋转引起的半波片11的振动及移动驱动引起的全息记录介质3的振动，待机到经过足够的振动等待时间T’，将作为来自控制用计算机22的基于要素全息图象数据D5的要素全息图象，例如全白色的图象在透射型液晶显示器40显示。
在步骤S6中，全息立体图制作装置根据控制用计算机22供给的控制信号C2，使上述遮光机构32执行一次开闭动作，曝光记录要素全息图。
接着，全息立体图制作装置在步骤S7中判别是否进行了N次曝光记录，即，在步骤S2中设定的半波片11的旋转角度“-45°”的条件下，判别是否曝光记录了N个要素全息图。
这里，未进行N次曝光记录时，全息立体图制作装置转移到步骤S8的处理，根据控制用计算机22供给的驱动信号C3，由记录介质传动机构44驱动全息记录介质3移动规定的间距，例如0.2mm。
然后，在步骤S9中，全息立体图制作装置为了抑制在移动驱动引起的全息记录介质3的振动，待机到经过足够的振动等待时间T后，重复步骤S6以下的处理。
这样，N次曝光记录后，即，在步骤S7中判别N个要素全息图的曝光记录结束时，全息立体图制作装置转移到步骤S10的处理。另外，曝光记录的次数即“N”设定成这样的值，即，设定成使半波片11在某同一角度的条件下曝光记录的N个要素全息图的亮度和半波片11在另一同一角度的条件下曝光记录的N个要素全息图的亮度的差异可通过后述的图象处理和目视等检出的程度。
接着，全息立体图制作装置在步骤S10中，判别是否Q次旋转了半波片11。
这里，未进行Q次旋转时，全息立体图制作装置在步骤S11中，根据控制用计算机22输出的控制信号C4，以微小角即规定间隔角+P°旋转半波片11。另外，如上述，由于半波片11总共旋转90°就足够，因而，例如令规定间隔角+P°为“1°”时，步骤S10中判别的次数即“Q”变成“90”。即，次数Q用规定间隔角+P°表示成“90/P”。
在步骤S12中，全息立体图制作装置根据控制用计算机22供给的驱动信号C3，由记录介质传动机构44驱动全息记录介质3移动规定间距，例如0.2mm，在步骤S13中，为了抑制由旋转引起的半波片11的振动及移动驱动引起的全息记录介质3的振动，待机到经过足够的振动等待时间T’后，重复上述步骤S6以下的处理。
重复这种处理，当步骤S10中的判别结果为旋转了Q次时，即，进行Q次N个要素全息图的曝光记录、半波片11的旋转角度从步骤S2中设定的“-45°”旋转+90°到旋转角度“+45°”时，全息立体图制作装置转移到步骤S14的处理。
在步骤S14中，全息立体图制作装置根据控制用计算机22供给的驱动信号C3，由记录介质传动机构44驱动全息记录介质3移动规定距离，在步骤S15中，解除记录介质传动机构44对全息记录介质3的保持，结束一系列的处理。
这样，曝光记录由N个要素全息图组成的全息立体图象的全息立体图制作装置还进行上述定影处理，对全息记录介质3上曝光记录的全息立体图象定影。全息立体图制作装置将进行定影处理后的全息记录介质3以规定的大小依次切割，作为一张全息立体图向外部输出。
如图14所示，由这种限定曝光记录制作的全息立体图，形成连续曝光记录的Q个全息立体图象HS1，HS2，…，HSQ。即，全息立体图由，以步骤S2中设定的半波片11的旋转角度“-45°”的状态下曝光记录的N个要素全息图组成的横宽为N×0.2mm的全息立体图象HS1，以第2次曝光记录前在步骤S11中设定的半波片11的旋转角度“(-45+P)°”的状态下曝光记录的N个要素全息图组成的横宽为N×0.2mm的全息立体图象HS2，…，第Q次曝光记录前在步骤S11中设定的半波片11的旋转角度(-45+P×Q)°＝(-45+P×90/P)°＝“+45°”的状态下曝光记录的N个要素全息图组成的横宽为N×0.2mm的全息立体图象HSQ，连续曝光记录而形成。这些全息立体图象HS1，HS2，…，HSQ为空白且再现时的亮度互不相同。
全息立体图制作装置再现这种全息立体图，采用例如未图示的光检测器等进行图象处理，通过比较各全息立体图象HS1，HS2，…，HSQ的辉度信息，可以求出物体光和参照光的干涉性为最高状态下进行曝光记录的半波片11的旋转角度。然后，全息立体图制作装置将半波片11设定成求出的旋转角度，进行任意图象的全息立体图的制作。
全息立体图制作装置在每次曝光记录至少一张以上、例如100张左右的全息立体图象时，通过进行上述限定曝光记录，不必剥离全息记录介质3中的覆盖胶片6且不必在光学系统内另外设置偏振片及光检测器，可以检出使参照光L3的偏振光方向最适于全息记录介质3的定向方向的条件，可制作可再现明亮的全息立体图象的全息立体图。
本发明的全息立体图制作装置进行限定曝光记录时，不必将全白色的图象作为基于要素全息图象数据D5的要素全息图象在透射型液晶显示器40中显示，可在不显示图象的状态下进行曝光记录。即，全息立体图制作装置在进行限定曝光记录时，为了容易地比较与半波片11的旋转角度相应的全息立体图象HS1，HS2，…，HSQ的亮度，期望获得基于无实质内容的空白图象的全息立体图象，只要可实现以上目的，可以采用任意的方法。
本发明的全息立体图制作装置中，在求出最佳半波片11的旋转角度时也可以不进行图象处理，只要是可检出全息立体图象HS1，HS2，…，HSQ的亮度，也可以通过目视进行比较确认。
另外，伴随这种限定曝光记录的偏振光状态的检出手法，也可适用于上述通过旋转全息记录介质3进行的参照光的偏振光面的逆修正。此时，全息立体图制作装置是从前面图11及图12所示全息立体图制作装置20A中除去了偏振片52、光检测器53及反馈控制装置23A的构成。该全息立体图制作装置不进行前面图13所示一系列的处理中半波片11的旋转角度的控制，而是进行全息记录介质3的旋转角度的控制，同样可以检出偏振光状态，使参照光和物体光的干涉性达到最高。
但是，应该注意，此时的全息立体图制作装置中，理论上，全息记录介质3必须总共旋转180°而不是象半波片11一样总共旋转90°。但是实际上，全息立体图制作装置若在全息记录介质3的偏振光轴的角度的范围内旋转该全息记录介质3，就可获得所有的偏振光状态。虽然与全息记录介质3的规格有关，但是，例如，以规定的原点作为中心在±20°左右的范围内旋转半波片11就足够了。
本发明的全息立体图制作装置中，在进行限定曝光记录时，通过旋转全息记录介质3，在全息记录介质3中的主面内，曝光记录具有不同方向的多个全息立体图象。因而，全息立体图制作装置中，为了使曝光记录的全息立体图象相互不重叠，在进行限定曝光记录时，在每次旋转全息记录介质3时必须适宜修正记录介质传动机构44间歇传动全息记录介质3的方向。
如上所述，适用本发明的全息立体图制作装置通过利用半波片、预先倾斜入射全息记录介质的光的偏振光面并旋转全息记录介质自身来进行逆修正，从而，可避免双折射引起的物体光和参照光的干涉性的低下，除去全息立体图象的亮度的不稳定性。从而，全息立体图制作装置可制作再现明亮的全息立体图象的全息立体图。
另外，本发明不限于上述例。例如，上述例中，说明了作为半波片采用了云母波片等的情况，在制作彩色全息立体图时，作为半波片，也可采用菲涅耳罗姆波片。即，本发明的全息立体图制作装置在制作彩色全息立体图时，由于需要多个波长的激光，通过采用波长依存性少的菲涅耳罗姆波片，可制作稳定的彩色全息立体图。
另外，上述例中，说明了至少剥离全息记录介质中的基胶片及覆盖胶片之一进行曝光记录的情况，但是，本发明若是至少仅仅一层胶片具有双折射，另层胶片不具有双折射而构成的全息记录介质，则可以不剥离这两层胶片进行曝光记录。
而且，上述例中，说明个别独立地适用2种逆修正系统的全息立体图制作装置，但是本发明也适用于这两者的组合，从而，可制作更稳定的全息立体图。这对采用通过限定曝光记录检出最佳偏振光状态的手法的情况也一样。
并且，本发明不仅适用全息立体图也适用全息图。即，上述实施例中，说明了由全息立体图制作装置制作全息立体图的情况，但本发明也可容易地适用于全息图的制作。换言之，只要是通过光入射具有双折射的胶片组成的全息记录介质进行图象的曝光记录，本发明都适用。
作为应用例，图15表示了在通过所谓的接触晒印的手法复制全息图时应用本发明的情况。该手法将曝光记录了全息立体图象或全息图象的原版即母片60和全息记录介质3贴合，从全息记录介质3一侧照射参照光R，通过将该参照光R由母片60反射的反射光F模拟成物体光与参照光R进行干涉，可将母片60上曝光记录的全息立体图象或全息图象记录到全息记录介质3。此时，制作复制的复制装置，在剥离了覆盖全息记录介质3中的一个主面的覆盖胶片6状态下，向该主面与母片60的主面贴合同时另一个主面由基胶片4覆盖的全息记录介质3入射参照光R，进行曝光记录。
复制装置采用上述逆修正系统，由这里未图示的半波片旋转偏振光状态为直线偏振光的参照光R的偏振光面，以规定的角度向全息记录介质3入射偏振光面旋转后的参照光R。而且，复制装置将透射全息记录介质3的部分区域并双折射的参照光R导向偏振片61，由光检测器62检出透射该偏振片61的参照光R的强度。然后，复制装置决定半波片的旋转角度，使得光检测器62检出的参照光R的强度达到最小或最大。另外，复制装置可由偏振片61及光检测器62仅仅检出参照光R的偏振光状态，这是因为，由母片60反射前的参照光R的偏振光状态基本可保持到反射后，因而参照光R的偏振光状态和反射光F的偏振光状态大致相同。
另外，复制装置不采用半波片，通过应用采用这里未图示的记录介质旋转机构使全息记录介质3旋转、进行逆修正系统，也可获得同样的效果。
复制装置通过进行这样的逆修正，使参照光R和反射光F的干涉性达到最高，可以降低全息记录介质3具有的双折射的影响，可以制作出可再现明亮的全息立体图象或全息图象的复制物。
本发明不仅适用于全息立体图，在适用于全息图的情况，在采用限定曝光记录检出最佳偏振光状态的手法时，可在制作全息立体图时，在设置上述透射型液晶显示器40的位置，即，应作为全息图象曝光记录的物体的放置位置，设置例如反射镜和散光镜。即，此时，例如，如图16的全息图所示，取代上述N个要素全息图组成的全息立体图象，在改变半波片11或全息记录介质3的旋转角度的同时，依次曝光记录由具有圆等的规定面积的区域组成的Q个全息图象H1，H2，…，HQ并比较亮度，可以求出最佳半波片11或全息记录介质3的旋转角度。
这样，本发明在不脱离其精神的范围内可进行适宜变更。
工业上的利用可能性本发明可避免因物体光和参照光透射具有双折射的全息记录介质而引起的物体光和参照光的干涉性的低下，导出制作全息立体图或全息图所需的最佳干涉性，除去全息立体图象或全息图象的亮度的不稳定性，制作出可再现明亮的全息立体图象或全息图象的全息立体图或全息图。
权利要求书(按照条约第19条的修改)第1页1.一种图象曝光记录装置，将全息立体图象或全息图象曝光记录到全息记录介质，其特征在于包括曝光记录单元，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质，曝光记录所述全息立体图象或全息图象；偏振光状态检出单元，检出透射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态；偏振光状态可变单元，根据所述偏振光状态检出单元的检出结果，使入射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态改变，使得所述全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性达到最高。
2.如权利要求1所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态可变单元，使所述激光的偏振光面旋转，改变偏振光状态。
3.(修改后)如权利要求2所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态可变单元具有使所述激光的偏振光面旋转的半波片，根据所述偏振光状态检出单元的检出结果，使所述半波片旋转，控制所述激光的偏振光面。
4.(删除)5.(修改后)如权利要求1所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态检出单元包括偏振片，其仅仅使透射所述全息记录介质的所述激光中具有规定偏振光面的分量透射；光检测器，其检出透射所述偏振片的所述激光的强度。
6.(删除)7.如权利要求1所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元在至少剥离覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中的其一的状态下，用所述激光照射所述全息记录介质。
8.(修改后)如权利要求1所述的图象曝光记录装置，其特征在于
所述曝光记录单元在从覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中剥离覆盖物体光所照射的主面的支持材料的状态下，向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光，所述偏振光状态检出单元检出透射所述全息记录介质的所述参照光的偏振光状态，所述偏振光状态可变单元，根据所述偏振光状态检出单元的检出结果，使入射所述全息记录介质的参照光的偏振光状态改变。
9.(删除)10.(删除)11.(删除)12.如权利要求1所述的图象曝光记录装置，其特征在于在不向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光的状态下，所述偏振光状态可变单元使所述激光的偏振光状态改变。
13.如权利要求12所述的图象曝光记录装置，其特征在于在每次曝光记录一张或多张所述全息立体图象或所述全息图象时，所述偏振光状态可变单元使所述激光的偏振光状态改变。
14.如权利要求12所述的图象曝光记录装置，其特征在于在曝光记录规定张数的所述全息立体图象或所述全息图象期间，所述偏振光状态检出单元检出所述激光的偏振光状态，所述偏振光状态可变单元根据所述偏振光状态检出单元的检出结果的统计信息，使所述激光的偏振光状态改变。
15.如权利要求12所述的图象曝光记录装置，其特征在于在曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象期间，所述偏振光状态检出单元检出所述激光的偏振光状态，所述偏振光状态可变单元在所述偏振光状态检出单元的检出结果为偏离规定的偏振光状态时，使所述激光的偏振光状态改变。
16.(删除)17.(删除)
18.一种图象曝光记录方法，在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象，其特征在于包括偏振光状态检出工序，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质、曝光记录所述全息立体图象或所述全息图象时，检出透射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态；偏振光状态可变工序，根据所述偏振光状态检出工序的检出结果，使入射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态改变，使得所述全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性达到最高。
19.如权利要求18所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序中，使所述激光的偏振光面旋转，改变偏振光状态。
20.(修改后)如权利要求19所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序中，根据所述偏振光状态检出单元的检出结果，使所述半波片旋转，由所述半波片控制所述激光的偏振光面。
21.(删除)22.(修改后)如权利要求18所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中，通过偏振片仅仅使透射所述全息记录介质的所述激光中具有规定偏振光面的分量透射；通过强度检出单元检出透射所述偏振片的所述激光的强度。
23.(删除)24.如权利要求18所述的图象曝光记录方法，其特征在于在至少剥离覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中的其一的状态下，用激光照射所述全息记录介质。
25.(修改后)如权利要求18所述的图象曝光记录方法，其特征在于在从覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中剥离覆盖物体光所照射的主面的支持材料的状态下，向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光，所述偏振光状态检出工序中，检出透射所述全息记录介质的所述参照光的偏振光状态。
所述偏振光状态可变工序中，根据所述偏振光状态检出工序的检出结果，使入射所述全息记录介质的参照光的偏振光状态改变。
26.(删除)27.(删除)28.(删除)29.如权利要求18所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序中，在不向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光的状态下，使所述激光的偏振光状态改变。
30.如权利要求29所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序中，在每次曝光记录一张或多张所述全息立体图象或所述全息图象时，使所述激光的偏振光状态改变。
31.如权利要求29所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中，在曝光记录规定张数的所述全息立体图象或所述全息图象期间，检出所述激光的偏振光状态，所述偏振光状态可变工序中，根据所述偏振光状态检出工序的检出结果的统计信息，使所述激光的偏振光状态改变。
32.如权利要求29所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中，在曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象期间，检出所述激光的偏振光状态，所述偏振光状态可变工序中，在所述偏振光状态检出工序的检出结果为偏离规定的偏振光状态时，使所述激光的偏振光状态改变。
33.(删除)34.(删除)35.(修改后)一种图象曝光记录装置，在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象，其特征在于包括
曝光记录单元，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质，曝光记录所述全息立体图象或所述全息图象；偏振光状态检出单元，检出透射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态；记录介质旋转单元，根据所述偏振光状态检出单元的检出结果，在所述全息记录介质中的主面内方向旋转所述全息记录介质，使所述全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性达到最高。
36.(删除)37.(修改后)如权利要求35所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态检出单元包括偏振片，其仅仅使透射所述全息记录介质的所述激光中具有规定偏振光面的分量透射；光检测器，其检出透射所述偏振片的所述激光的强度。
38.(删除)39.如权利要求35所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元在至少剥离覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中的其一的状态下，用所述激光照射所述全息记录介质。
40.(修改后)如权利要求35所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元在从覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中剥离覆盖物体光所照射的主面的支持材料的状态下，向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光，所述偏振光状态检出单元检出透射所述全息记录介质的所述参照光的偏振光状态。
41.(删除)42.(删除)43.如权利要求35所述的图象曝光记录装置，其特征在于在不向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光的状态下，所述记录介质旋转单元旋转所述全息记录介质。
44.如权利要求43所述的图象曝光记录装置，其特征在于在每次曝光记录一张或多张所述全息立体图象或所述全息图象时，所述记录介质旋转单元旋转所述全息记录介质。
45.如权利要求43所述的图象曝光记录装置，其特征在于在曝光记录规定张数的所述全息立体图象或所述全息图象期间，所述偏振光状态检出单元检出所述激光的偏振光状态，所述记录介质旋转单元根据所述偏振光状态检出单元的检出结果的统计信息，旋转所述全息记录介质。
46.(删除)47.(删除)48.一种图象曝光记录方法，在全息记录介质曝光记录全息立体图象或全息图象，其特征在于包括偏振光状态检出工序，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质、曝光记录所述全息立体图象或所述全息图象时，检出透射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态；记录介质旋转工序，根据所述偏振光状态检出工序中的检出结果，使所述全息记录介质旋转，使得所述全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高。
49.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述记录介质旋转工序中，在所述全息记录介质中的主面内方向旋转该全息记录介质。
50.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中通过光学元件仅仅使透射所述全息记录介质的所述激光中具有规定偏振光面的分量透射；通过强度检出单元检出透射所述光学元件的所述激光的强度。
51.如权利要求50所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述光学元件采用偏振片，所述强度检出单元采用光检测器。
52.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于在至少剥离覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中的其一的状态下，用激光照射所述全息记录介质。
53.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中，检出透射所述全息记录介质的所述参照光的偏振光状态。
54.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于在从覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中剥离覆盖物体光所照射的主面的支持材料的状态下，向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光。
55.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于向所述全息记录介质照射偏振光状态为直线偏振光的所述物体光和所述参照光。
56.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述记录介质旋转工序中，在不向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光的状态下，旋转所述全息记录介质。
57.如权利要求56所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述记录介质旋转工序中，在每次曝光记录一张或多张所述全息立体图象或所述全息图象时，旋转所述全息记录介质。
58.如权利要求56所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中，在曝光记录规定张数的所述全息立体图象或所述全息图象期间，检出所述激光的偏振光状态，所述记录介质旋转工序中，根据所述偏振光状态检出工序的检出结果的统计信息，旋转所述全息记录介质。
59.如权利要求56所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中，在曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象期间，检出所述激光的偏振光状态，所述记录介质旋转工序中，在所述偏振光状态检出工序的检出结果为偏离规定的偏振光状态时，旋转所述全息记录介质。
60.如权利要求56所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述记录介质旋转工序中，在每次曝光记录构成所述全息立体图象的要素全息图时，旋转所述全息记录介质。
61.一种图象曝光记录装置，在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象，其特征在于包括曝光记录单元，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质，曝光记录所述全息立体图象或所述全息图象；偏振光状态可变单元，改变入射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态，所述曝光记录单元，在每次曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象时，作为用以决定使所述全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态的限定曝光记录，曝光记录由所述偏振光状态可变单元每次改变偏振光状态时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，偏振光状态可变单元改变激光偏振光状态，以获得使根据多个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象检出的物体光和参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
62.(删除)63.(删除)64.(删除)65.(删除)66.(删除)67.(删除)68.(删除)69.(删除)70.(删除)71.(删除)72.(删除)
73.(删除)74.(删除)75.(删除)76.(删除)77.(删除)78.(删除)79.一种图象曝光记录装置，在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象，其特征在于包括曝光记录单元，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质，曝光记录所述全息立体图象或所述全息图象；记录介质旋转单元，旋转所述全息记录介质，曝光记录单元，在每次曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象时，作为用以决定使所述全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态的限定曝光记录，曝光记录由所述记录介质旋转单元每次旋转全息记录介质时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，记录介质旋转单元旋转所述全息记录介质，以获得使根据多个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象检出的所述物体光和所述参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
80.(删除)81.(删除)82.(删除)83.(删除)84.(删除)85.(删除)86.(删除)87.(删除)88.(删除)
89.(删除)90.(删除)91.(删除)92.(删除)93.(删除)94.(删除)95.(删除)96.(删除)
权利要求
1.一种图象曝光记录装置，将全息立体图象或全息图象曝光记录到全息记录介质，其特征在于包括曝光记录单元，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质，曝光记录所述全息立体图象或全息图象；偏振光状态检出单元，检出透射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态；偏振光状态可变单元，根据所述偏振光状态检出单元的检出结果，使入射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态改变，使得所述全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性达到最高。
2.如权利要求1所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态可变单元，使所述激光的偏振光面旋转，改变偏振光状态。
3.如权利要求2所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态可变单元具有使所述激光的偏振光面旋转的半波片。
4.如权利要求3所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态可变单元，根据所述偏振光状态检出单元的检出结果使所述半波片旋转，控制所述激光的偏振光面。
5.如权利要求1所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态检出单元包括光学元件，其仅仅使透射所述全息记录介质的所述激光中具有规定偏振光面的分量透射；强度检出单元，其检出透射所述光学元件的所述激光的强度。
6.如权利要求5所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述光学元件是偏振片，所述强度检出单元是光检测器。
7.如权利要求1所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元在至少剥离覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中的其一的状态下，用激光照射所述全息记录介质。
8.如权利要求1所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态可变单元，根据所述偏振光状态检出单元的检出结果，使入射所述全息记录介质的参照光的偏振光状态改变。
9.如权利要求8所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态检出单元检出透射所述全息记录介质的所述参照光的偏振光状态。
10.如权利要求8所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元在从覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中剥离覆盖物体光所照射的主面的支持材料的状态下，向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光。
11.如权利要求1所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元向所述全息记录介质照射偏振光状态为直线偏振光的所述物体光和所述参照光。
12.如权利要求1所述的图象曝光记录装置，其特征在于在不向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光的状态下，所述偏振光状态可变单元使所述激光的偏振光状态改变。
13.如权利要求12所述的图象曝光记录装置，其特征在于在每次曝光记录一张或多张所述全息立体图象或所述全息图象时，所述偏振光状态可变单元使所述激光的偏振光状态改变。
14.如权利要求12所述的图象曝光记录装置，其特征在于在曝光记录规定张数的所述全息立体图象或所述全息图象期间，所述偏振光状态检出单元检出所述激光的偏振光状态，所述偏振光状态可变单元根据所述偏振光状态检出单元的检出结果的统计信息，使所述激光的偏振光状态改变。
15.如权利要求12所述的图象曝光记录装置，其特征在于在曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象期间，所述偏振光状态检出单元检出所述激光的偏振光状态，所述偏振光状态可变单元在所述偏振光状态检出单元的检出结果为偏离规定的偏振光状态时，使所述激光的偏振光状态改变。
16.如权利要求12所述的图象曝光记录装置，其特征在于在每次曝光记录构成所述全息立体图象的要素全息图时，所述偏振光状态可变单元使所述激光的偏振光状态改变。
17.如权利要求1所述的图象曝光记录装置，其特征在于包括记录介质旋转单元，其根据所述偏振光状态检出单元的检出结果旋转所述全息记录介质，使得所述全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性达到最高。
18.一种图象曝光记录方法，在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象，其特征在于包括偏振光状态检出工序，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质、曝光记录所述全息立体图象或所述全息图象时，检出透射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态；偏振光状态可变工序，根据所述偏振光状态检出工序的检出结果，使入射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态改变，使得所述全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性达到最高。
19.如权利要求18所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序中，使所述激光的偏振光面旋转，改变偏振光状态。
20.如权利要求19所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序中通过半波片使所述激光的偏振光面旋转。
21.如权利要求20所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序，根据所述偏振光状态检出工序的检出结果使所述半波片旋转，控制所述激光的偏振光面。
22.如权利要求18所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中，通过光学元件仅仅使透射所述全息记录介质的所述激光中具有规定偏振光面的分量透射；通过强度检出单元检出透射所述光学元件的所述激光的强度。
23.如权利要求22所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述光学元件采用偏振片，所述强度检出单元采用光检测器。
24.如权利要求18所述的图象曝光记录方法，其特征在于在至少剥离覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中的其一的状态下，用激光照射所述全息记录介质。
25.如权利要求18所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序中，根据所述偏振光状态检出工序的检出结果，使入射所述全息记录介质的参照光的偏振光状态改变。
26.如权利要求25所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中检出透射所述全息记录介质的所述参照光的偏振光状态。
27.如权利要求25所述的图象曝光记录方法，其特征在于在从覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中剥离覆盖物体光所照射的主面的支持材料的状态下，向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光。
28.如权利要求18所述的图象曝光记录方法，其特征在于向所述全息记录介质照射偏振光状态为直线偏振光的所述物体光和所述参照光。
29.如权利要求18所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序中，在不向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光的状态下，使所述激光的偏振光状态改变。
30.如权利要求29所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序中，在每次曝光记录一张或多张所述全息立体图象或所述全息图象时，使所述激光的偏振光状态改变。
31.如权利要求29所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中，在曝光记录规定张数的所述全息立体图象或所述全息图象期间，检出所述激光的偏振光状态，所述偏振光状态可变工序中，根据所述偏振光状态检出工序的检出结果的统计信息，使所述激光的偏振光状态改变。
32.如权利要求29所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中，在曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象期间，检出所述激光的偏振光状态，所述偏振光状态可变工序中，在所述偏振光状态检出工序的检出结果为偏离规定的偏振光状态时，使所述激光的偏振光状态改变。
33.如权利要求29所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序中，在每次曝光记录构成所述全息立体图象的要素全息图时，使所述激光的偏振光状态改变。
34.如权利要求18所述的图象曝光记录方法，其特征在于包括记录介质旋转工序，其根据所述偏振光状态检出工序的检出结果旋转所述全息记录介质，使得所述全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性达到最高。
35.一种图象曝光记录装置，在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象，其特征在于包括曝光记录单元，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质，曝光记录所述全息立体图象或所述全息图象；偏振光状态检出单元，检出透射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态；记录介质旋转单元，根据所述偏振光状态检出单元的检出结果，旋转所述全息记录介质，使所述全息记录介质中的记录层上物体光和参照光的干涉性达到最高。
36.如权利要求35所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述记录介质旋转单元在所述全息记录介质中的主面内方向旋转该全息记录介质。
37.如权利要求35所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态检出单元包括光学元件，其仅仅使透射所述全息记录介质的所述激光中具有规定偏振光面的分量透射；强度检出单元，其检出透射所述光学元件的所述激光的强度。
38.如权利要求37所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述光学元件是偏振片，所述强度检出单元是光检测器。
39.如权利要求35所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元在至少剥离覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中的其一的状态下，用激光照射所述全息记录介质。
40.如权利要求35所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态检出单元检出透射所述全息记录介质的所述参照光的偏振光状态。
41.如权利要求35所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元在从覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中剥离覆盖物体光所照射的主面的支持材料的状态下，向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光。
42.如权利要求35所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元向所述全息记录介质照射偏振光状态为直线偏振光的所述物体光和所述参照光。
43.如权利要求35所述的图象曝光记录装置，其特征在于在不向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光的状态下，所述记录介质旋转单元旋转所述全息记录介质。
44.如权利要求43所述的图象曝光记录装置，其特征在于在每次曝光记录一张或多张所述全息立体图象或所述全息图象时，所述记录介质旋转单元旋转所述全息记录介质。
45.如权利要求43所述的图象曝光记录装置，其特征在于在曝光记录规定张数的所述全息立体图象或所述全息图象期间，所述偏振光状态检出单元检出所述激光的偏振光状态，所述记录介质旋转单元根据所述偏振光状态检出单元的检出结果的统计信息，旋转所述全息记录介质。
46.如权利要求43所述的图象曝光记录装置，其特征在于在曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象期间，所述偏振光状态检出单元检出所述激光的偏振光状态，所述记录介质旋转单元在所述偏振光状态检出单元的检出结果为偏离规定的偏振光状态时，旋转所述全息记录介质。
47.如权利要求43所述的图象曝光记录装置，其特征在于在每次曝光记录构成所述全息立体图象的要素全息图时，所述记录介质旋转单元旋转所述全息记录介质。
48.一种图象曝光记录方法，在全息记录介质曝光记录全息立体图象或全息图象，其特征在于包括偏振光状态检出工序，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质、曝光记录所述全息立体图象或所述全息图象时，检出透射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态；记录介质旋转工序，根据所述偏振光状态检出工序中的检出结果，使所述全息记录介质旋转，使得所述全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高。
49.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述记录介质旋转工序中，在所述全息记录介质中的主面内方向旋转该全息记录介质。
50.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中通过光学元件仅仅使透射所述全息记录介质的所述激光中具有规定偏振光面的分量透射；通过强度检出单元检出透射所述光学元件的所述激光的强度。
51.如权利要求50所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述光学元件采用偏振片，所述强度检出单元采用光检测器。
52.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于在至少剥离覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中的其一的状态下，用激光照射所述全息记录介质。
53.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中，检出透射所述全息记录介质的所述参照光的偏振光状态。
54.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于在从覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料中剥离覆盖物体光所照射的主面的支持材料的状态下，向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光。
55.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于向所述全息记录介质照射偏振光状态为直线偏振光的所述物体光和所述参照光。
56.如权利要求48所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述记录介质旋转工序中，在不向所述全息记录介质照射所述物体光和所述参照光的状态下，旋转所述全息记录介质。
57.如权利要求56所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述记录介质旋转工序中，在每次曝光记录一张或多张所述全息立体图象或所述全息图象时，旋转所述全息记录介质。
58.如权利要求56所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中，在曝光记录规定张数的所述全息立体图象或所述全息图象期间，检出所述激光的偏振光状态，所述记录介质旋转工序中，根据所述偏振光状态检出工序的检出结果的统计信息，旋转所述全息记录介质。
59.如权利要求56所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态检出工序中，在曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象期间，检出所述激光的偏振光状态，所述记录介质旋转工序中，在所述偏振光状态检出工序的检出结果为偏离规定的偏振光状态时，旋转所述全息记录介质。
60.如权利要求56所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述记录介质旋转工序中，在每次曝光记录构成所述全息立体图象的要素全息图时，旋转所述全息记录介质。
61.一种图象曝光记录装置，在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象，其特征在于包括曝光记录单元，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质，曝光记录所述全息立体图象或所述全息图象；偏振光状态可变单元，改变入射所述全息记录介质的所述激光偏振光状态，所述曝光记录单元，在每次曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象时，作为用以决定使所述全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态的限定曝光记录，曝光记录由所述偏振光状态可变单元每次改变偏振光状态时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，所述偏振光状态可变单元改变激光偏振光状态，以获得使根据多个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象检出的物体光和参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
62.如权利要求61所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态可变单元，具有使所述激光的偏振光面旋转的半波片，以改变偏振光状态。所述曝光记录单元，作为限定曝光记录，在每次由所述偏振光状态可变单元以预定的微小角度阶段地旋转所述半波片时，曝光记录一个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
63.如权利要求62所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元，作为限定曝光记录，曝光记录与由所述偏振光状态可变单元阶段地改变的所述半波片的旋转角度对应的多个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
64.如权利要求63所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态可变单元，在曝光记录通常的所述全息立体图象或所述全息图象时，设定所述半波片的旋转角度，以获得使通过对限定用的所述全息立体图象或所述全息图象执行图象处理而检出的所述物体光和所述参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
65.如权利要求64所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述图象处理是限定用的所述全息立体图象或所述全息图象的各个辉度信息的比较处理。
66.如权利要求63所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述偏振光状态可变单元，在曝光记录通常的所述全息立体图象或所述全息图象时，设定所述半波片的旋转角度，以获得使通过目视比较限定用的所述全息立体图象或所述全息图象而检出的所述物体光和所述参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
67.如权利要求61所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元，曝光记录基于无实质内容的空白图象的全息立体图象或全息图象，作为限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
68.如权利要求61所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元，曝光记录由规定个数的要素全息图组成的全息立体图象或具有规定面积的区域组成的全息图象，作为限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
69.如权利要求61所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元在不剥离覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料的状态下，向所述全息记录介质照射所述激光。
70.一种图象曝光记录方法，在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象，其特征在于包括限定曝光记录工序，在每次曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象时，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质，曝光记录每次改变偏振光状态时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，以决定使所述全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态；偏振光状态可变工序，改变所述激光偏振光状态，以获得使根据多个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象检出的所述物体光和所述参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
71.如权利要求70所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述限定曝光记录工序中，在每次以预定的微小角度阶段地旋转使所述激光的偏振光面旋转的所述半波片、以改变偏振光状态时，曝光记录一个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
72.如权利要求71所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述限定曝光记录工序中，曝光记录与阶段地改变的所述半波片的旋转角度对应的多个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
73.如权利要求72所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序中，在曝光记录通常的所述全息立体图象或所述全息图象时，设定所述半波片的旋转角度，以获得使通过对限定用的所述全息立体图象或所述全息图象执行图象处理而检出的所述物体光和所述参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
74.如权利要求73所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述图象处理是限定用的所述全息立体图象或所述全息图象的各个辉度信息的比较处理。
75.如权利要求72所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述偏振光状态可变工序中，在曝光记录通常的所述全息立体图象或所述全息图象时，设定所述半波片的旋转角度，以获得使通过目视比较限定用的所述全息立体图象或所述全息图象而检出的所述物体光和所述参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
76.如权利要求70所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述限定曝光记录工序中，曝光记录基于无实质内容的空白图象的全息立体图象或全息图象，作为限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
77.如权利要求70所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述曝光记录工序中，曝光记录由规定个数的要素全息图组成的全息立体图象或具有规定面积的区域组成的全息图象，作为限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
78.如权利要求70所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述曝光记录工序中，在不剥离覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料的状态下，向所述全息记录介质照射所述激光。
79.一种图象曝光记录装置，在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象，其特征在于包括曝光记录单元，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质，曝光记录所述全息立体图象或所述全息图象；记录介质旋转单元，旋转所述全息记录介质，所述曝光记录单元，在每次曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象时，作为用以决定使所述全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态的限定曝光记录，曝光记录由所述记录介质旋转单元每次旋转全息记录介质时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，所述记录介质旋转单元旋转所述全息记录介质，以获得使根据多个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象检出的所述物体光和所述参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
80.如权利要求79所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述记录介质旋转单元，在所述全息记录介质中的主面内方向旋转该全息记录介质，所述曝光记录单元，作为限定曝光记录，在每次由所述记录介质旋转单元以预定的微小角度阶段地旋转所述全息记录介质时，曝光记录一个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
81.如权利要求80所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元，作为限定曝光记录，曝光记录与由所述记录介质旋转单元阶段地改变的所述全息记录介质的旋转角度对应的多个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
82.如权利要求81所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述记录介质旋转单元，在曝光记录通常的所述全息立体图象或所述全息图象时，设定所述全息记录介质的旋转角度，以获得使通过对限定用的所述全息立体图象或所述全息图象执行图象处理而检出的所述物体光和所述参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
83.如权利要求82所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述图象处理是限定用的所述全息立体图象或所述全息图象的各个辉度信息的比较处理。
84.如权利要求81所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述记录介质旋转单元，在曝光记录通常的所述全息立体图象或所述全息图象时，设定所述全息记录介质的旋转角度，以获得使通过目视比较限定用的所述全息立体图象或所述全息图象而检出的所述物体光和所述参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
85.如权利要求79所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元，曝光记录基于无实质内容的空白图象的全息立体图象或全息图象，作为限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
86.如权利要求79所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元，曝光记录由规定个数的要素全息图组成的全息立体图象或具有规定面积的区域组成的全息图象，作为限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
87.如权利要求79所述的图象曝光记录装置，其特征在于所述曝光记录单元在不剥离覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料的状态下，向所述全息记录介质照射所述激光。
88.一种图象曝光记录方法，在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象，其特征在于包括限定曝光记录工序，在每次曝光记录至少一张以上的所述全息立体图象或所述全息图象时，用激光作为物体光及参照光照射所述全息记录介质，曝光记录每次旋转所述全息记录介质时的多个限定用的全息立体图象或全息图象，以决定使所述全息记录介质中的记录层上的物体光和参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态；记录介质旋转工序，旋转所述全息记录介质，以获得使根据多个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象检出的所述物体光和所述参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
89.如权利要求88所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述限定曝光记录工序中，当每次在所述全息记录介质的主面内方向上以预定的微小角度阶段地旋转所述全息记录介质时，曝光记录一个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
90.如权利要求89所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述限定曝光记录工序中，曝光记录与阶段地改变的所述全息记录介质的旋转角度对应的多个限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
91.如权利要求90所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述记录介质旋转工序中，在曝光记录通常的所述全息立体图象或所述全息图象时，设定所述全息记录介质的旋转角度，以获得使通过对限定用的所述全息立体图象或所述全息图象执行图象处理而检出的所述物体光和所述参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
92.如权利要求91所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述图象处理是限定用的所述全息立体图象或所述全息图象的各个辉度信息的比较处理。
93.如权利要求90所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述记录介质旋转工序中，在曝光记录通常的所述全息立体图象或所述全息图象时，设定所述全息记录介质的旋转角度，以获得使通过目视比较限定用的所述全息立体图象或所述全息图象而检出的所述物体光和所述参照光的干涉性达到最高的所述激光偏振光状态。
94.如权利要求88所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述曝光记录工序中，曝光记录基于无实质内容的空白图象的全息立体图象或全息图象，作为限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
95.如权利要求88所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述限定曝光记录工序中，曝光记录由规定个数的要素全息图组成的全息立体图象或具有规定面积的区域组成的全息图象，作为限定用的所述全息立体图象或所述全息图象。
96.如权利要求88所述的图象曝光记录方法，其特征在于所述限定曝光记录工序中，在不剥离覆盖所述全息记录介质的两个主面的支持材料的状态下，向所述全息记录介质照射所述激光。
全文摘要
本发明是在全息记录介质上曝光记录全息立体图象或全息图象的图象曝光记录装置，具备逆修正系统，其通过半波片(11)旋转参照光R的偏振光面，将该参照光R入射到全息记录介质(3)，从透射全息记录介质的部分区域的参照光R中，由光检测器(13)检出透射偏振片(12)的参照光R的强度。逆修正系统决定半波片的旋转角度，使由光检测器检出的参照光R的强度成为最小或最大，从而，可避免因物体光和参照光透射具有双折射的全息记录介质而引起的物体光和参照光的干涉性的低下，制作可再现明亮的全息立体图象的全息立体图。
文档编号G03H1/26GK1466709SQ02802720
公开日2004年1月7日 申请日期2002年6月19日 优先权日2001年6月27日
发明者木原信宏, M·江面, 白仓明 申请人:索尼公司