专利名称：光掩模的缺陷检查方法以及光掩模的制作方法
技术领域：
本发明是关于适用于例如制造液晶显示装置(Liquid CrystalDisplay下面称为LCD)的薄膜晶体管(Thin Film Transistor下面称为TFT)等的生产的光掩模、以及检查该光掩模中的图案的缺陷的光掩模的缺陷检查方法。
背景技术：
LCD与CRT(阴极射线管)相比，具有容易制作得较薄、耗电量低的优点，所以现在正在急速地商品化。如图6所示的光掩模100用于制造所述LCD。该光掩模100具有具备重复了相同的像素图案的重复图案的像素图案区域109，和设置在该像素图案区域109的周边、没有重复图案的周边图案区域110A、110B、110C、110D。该周边图案区域110A、110B、110C、110D是布线图案区域和测试图案区域等。
所述图案区域109、110A～110D中，在构成图案的遮光部103、透光部104等中会产生气孔等脱落缺陷(白缺陷)、和点等多余缺陷(黑缺陷)，需要对该图案缺陷进行检查。在像素图案区域109，由于重复着相同图案，所以如特开2002-174602号公报所述，利用比较来自实际的图案的透过量信号的模对模(Die to Die)的检查方式(DD检查方式)，检查图案的缺陷。与此相对，在具有由遮光部103和透光部104构成的图案、且其为非重复图案的周边图案区域110D中，不能实施所述DD检查方式，所以采用比较来自周边图案区域110D的透过量信号和该周边图案区域110D的设计数据的模对数据库(Dieto Data base)的检查方式(DDB检查方式)。
另外，关于周边图案区域110A、110B、110C，其具有遮光部103和透光部104、以及降低曝光光的透过量的由半透光膜构成的灰色调部105构成图案，所以把该灰色调部105视为遮光部(黑)或者透光部(白)，实施根据所述DDB检查方式的检查。即，当灰色调部105的光透过率较高时，如图7(A)所示，把灰色调部105看作透光部104，利用DDB检查方式检查图案的缺陷。另外，当灰色调部105的光透过率较低时，如图7(B)所示，把灰色调部105看作遮光部103，利用DDB检查方式检查图案的缺陷。
但是，DDB检查方式与DD检查方式相比，检查精度较低，检查需要较长的时间。
另外，在检查具备灰色调部105的周边图案区域110A、110B、110C的图案缺陷的情况下，把灰色调部105看作透光部104时(图7(A))，不能检查灰色调部105中的白缺陷、和在遮光部103上附着了形成灰色调部105用的半透光膜的缺陷等。另外，把灰色调部105看作遮光部103时(图7(B))，不能检查灰色调部105中的黑缺陷，进而，在半透光膜上层叠遮光膜、形成有遮光部103的情况下，所述遮光膜上即便产生白缺陷也不能检查该白缺陷。
发明内容
本发明是考虑了上述情况而进行的，其目的在于提供可以以高精度且在短时间内检查光掩模中的图案的缺陷的光掩模的缺陷检查方法以及光掩模。
关于本发明第1方面的光掩模的缺陷检查方法，是检查具有具备重复了相同图案的重复图案的像素图案区域、和设在该像素图案区域的周边、没有重复图案的周边图案区域的光掩模中所述图案的缺陷的光掩模的缺陷检查方法，其特征在于，在所述光掩模中，在不存在所述像素图案区域以及所述周边图案区域的空白空间上，设置排列有与所述周边图案区域的图案相同的图案的检查用图案区域，通过比较这些周边图案区域和检查用图案区域，检查该周边图案区域中图案的缺陷。
关于本发明第2方面的光掩模的缺陷检查方法，其特征在于，在本发明第1方面所述的方法中，通过将所述检查用图案区域与所述周边图案区域的间隔设定为规定的距离以上，使由检查装置的光学系统进行的比较检查成为可能。
关于本发明第3方面的光掩模的缺陷检查方法，其特征在于，在本发明第1方面所述的方法中，所述检查用图案区域，设置在夹持所述像素图案区域、与所述周边图案区域相反位置上。
关于本发明第4方面的光掩模的缺陷检查方法，其特征在于，在在本发明第1方面所述的方法中，所述光掩模中，仅对于多个设置在所述像素图案区域的周边的周边图案区域中、规定的被选定的周边图案区域设置对应的检查用图案区域，比较所述规定的被选定的周边图案区域和所述检查用图案区域，检查该周边图案区域中图案的缺陷。
关于本发明第5方面的光掩模的缺陷检查方法，其特征在于，在本发明第1至第4方面中的任一项所述的方法中，所述周边图案区域具有由遮光部、透光部、和使用光掩模时用的降低曝光光的透过量的用半透光膜构成的灰色调部构成的图案。
关于本发明第6方面的光掩模，具有具备重复了相同图案的重复图案的像素图案区域、和设在该像素图案区域的周边、没有重复图案的周边图案区域，其特征在于，在不存在所述像素图案区域以及所述周边图案区域的空白空间上，设置了排列有与所述周边图案区域的图案相同的图案的检查用图案区域。
关于本发明第7方面的光掩模，其特征在于，在本发明第6方面所述的掩模中，通过将所述检查用图案区域与所述周边图案区域的间隔设定为规定的距离以上，而使利用检查装置的光学系统的比较检查成为可能。
关于本发明第8方面的光掩模，其特征在于，所述检查用图案区域，设置在夹持所述像素图案区域、与所述周边图案区域相反的位置上。
关于本发明第9方面的光掩模，其特征在于，在本发明第6方面所述的掩模中，仅对于多个设置在所述像素图案区域的周边的周边图案区域中、规定的被选定的周边图案区域，设置所述检查用图案区域。
关于本发明第10方面的光掩模，其特征在于，在本发明第6至第9方面的任一项所述的掩模中，所述周边图案区域具有由遮光部、透光部、和使用光掩模时用的降低曝光光的透过量的用半透光膜构成的灰色调部构成的图案。
根据本发明第1或第6方面，在光掩模的空白空间上，设置排列有与周边图案区域的图案相同的图案的检查用图案区域，比较这些周边图案区域和检查用图案区域，可以检查该周边图案区域中图案的缺陷。即，在没有重复图案的周边图案区域，也能够实施比较实际的各图案的模对模检查方式(DD检查方式)的检查。结果，本发明与实施比较实际的图案和该图案的设计数据的模对数据库的检查方式(DDB检查方式)的情况相比，即便在没有重复图案的周边图案区域，也可以高精度且在短时间内检查图案的缺陷。
根据本发明第2或第7方面，由于检查用图案区域设在周边图案区域的附近，所以可以容易地比较这两个图案区域的图案，检查图案缺陷。
根据权利要求3或8所述的发明，由于检查用图案区域设在夹持像素图案区域的、与周边图案区域相反的位置上，所以可以使得周边图案区域和检查用图案区域之间的距离切实为基于比较检查装置的透镜间隔的最小检查间隔以上。即，本发明可以在切实满足了由比较检查装置的光学系统产生的制约条件的状态下，比较这些周边图案区域和检查用图案区域的图案，检查该周边图案区域中的图案的缺陷。
根据本发明第4或第9方面，由于仅对规定的(例如对于掩模厂商重要的特定的)被选择的周边图案区域，与检查用图案区域进行比较，检查该周边图案区域的图案的缺陷，所以可以对于该规定的被选择的周边图案区域，通过DD检查方式，高精度且在短时间内实施图案的缺陷检查。在此，所谓规定的被选择的周边图案区域，是虽然是周边图案、但也与主要图案(像素图案)同样程度地需要缺陷检查精度的图案。
根据本发明第5或第10方面，由于对于具有由遮光部、透光部和灰色调部构成的图案的周边图案区域，也可以利用具有与该周边图案区域的图案相同的图案的检查用图案区域，实施DD检查方式的图案缺陷检查，所以可以高精度且在短时间内对该周边图案区域的图案的缺陷进行检查。
图1是表示关于本发明的光掩模的第1实施方式的平面图。
图2是用于说明图1的光掩模中具备中间色调部的周边图案区域的概略图，(A)为平面图，(B)为侧剖面图。
图3是表示关于本发明的光掩模的第2实施方式的平面图。
图4是表示关于本发明的光掩模的第3实施方式的平面图。
图5是表示具备中间色调部的周边图案区域的其他形态的平面图。
图6是表示过去的光掩模的平面图。
图7是表示在图6的光掩模中、检查具备中间色调部的周边图案区域的图案的缺陷之际的情况的平面图。
具体实施例方式
下面，参照附图，说明用于实施本发明的最佳方式。
第1实施方式(图1、图2)图1是表示关于本发明的光掩模的第1实施方式的平面图。图2是用于说明在图1的光掩模中具备中间色调部的周边图案区域的概略图，(A)为平面图，(B)为侧剖面图。
图1所示的光掩模10，用于制造例如液晶显示装置(LCD)的薄膜晶体管(TFT)或滤色器、或者等离子显示面板(PDP)等。该光掩模10，具有具备重复了相同的像素图案的重复图案的像素图案区域9，多个设置在该像素图案区域9的周边、没有重复了相同图案的重复图案的周边图案区域10A、10B、10C、10D，和用于检查该周边图案区域10A～10D的检查用图案区域20A、20B、20C和20D。
所述周边图案区域10A、10B、10C、10D，具体地为布线图案区域、测试图案区域或者对准标记图案区域等。布线图案区域是用于形成连接到像素图案区域9中各像素图案上的布线的图案。测试图案区域是使用光掩模10时例如用于转印测试的图案。另外，对准标记图案区域是使用光掩模10时用于与被转印基板对齐位置的图案等。
所述周边图案区域10D，具有由使用光掩模10时使曝光光被遮光(光透过率大约0％)的遮光部13、和使曝光光大约100％透过的透光部14构成的图案。遮光部13是在透光性基板的表面上设置遮光性的遮光膜(未图示)而构成的。
与此相对，周边图案区域10A、10B以及10C也如图2所示，具有由使用光掩模10时使曝光光被遮光(透过率大约0％)的遮光部13、使曝光光大约100％透过的透光部14、和使曝光光的透过率降低成10～60％左右的灰色调部15而构成。灰色调部15是在玻璃基板等的透光性基板16的表面上设置光半透过性的半透光膜17而构成的。另外，遮光部13是在透光性基板16的表面上设置遮光性的遮光膜18以及所述半透光膜17而构成的。
作为所述半透光膜17，可以列举铬化合物、MoSi、MoSiON、MoSiCON、Si、W、Al。其中，铬化合物有氧化铬(CrOx)、氮化铬(CrNx)、氮氧化铬(CrOxN)、氟化铬(CrFx)或在这些化合物中含有碳或氢的。另外，作为遮光膜18，在周边图案区域10D的情况下也相同，可以列举Cr、Si、W、Al等。所述遮光部13和灰色调部15的透过率，通过选择半透光膜17、遮光膜18的膜材质和膜厚来设定。
使用光掩模10时，在周边图案区域10A、10B、10C中，在遮光部13处曝光光不透过，在灰色调部15处曝光光被减少。因此，附着在被转印体11上的抗蚀剂膜(正型光致抗蚀剂膜)，在曝光以及显影之后，形成在与遮光部13对应的部分膜厚变厚、在与灰色调部15对应的部分膜厚变薄、与透光部14对应的部分没有膜的抗蚀剂图案12。由此，就可以在抗蚀剂图案12的没有膜的部分，对被转印体11中例如膜19A以及膜19B实施第1蚀刻，通过灰化等除去抗蚀剂图案12的膜较薄的部分，在此部分，对被转印体11中例如膜19B实施第2蚀刻。
图1所示的所述检查用图案区域20A、20B、20C、20D，在光掩模10中，设置在不存在像素图案区域9以及周边图案区域10A～10D的空白空间21上。检查用图案区域20A排列有与周边图案区域10A的图案相同的图案，设置在该周边图案区域10A的附近。另外，检查用图案区域20B排列有与周边图案区域10B的图案相同的图案，设置在该周边图案区域10B的附近。另外，检查用图案区域20C排列有与周边图案区域10C的图案相同的图案，设置在该周边图案区域10C的附近。另外，检查用图案区域20D排列有与周边图案区域10D的图案相同的图案，设置在该周边图案区域10D的附近。
检查用图案区域20A与对应的周边图案区域10A的距离La(间距)，考虑基于检查周边图案区域10A～10D中图案的缺陷的比较检查装置的透镜(上透镜、下透镜都未图示)间隔的最小检查间隔(例如4cm)等、使用的光学系统的制约，设定为可以进行比较检查的间隔以上。同样地，检查用图案区域20B与对应的周边图案区域10B的距离Lb，检查用图案区域20C与对应的周边图案区域10C的距离Lc，检查用图案区域20D与对应的周边图案区域10D的距离Ld，也都设定为所述间隔以上。
在此，所述的上透镜和下透镜，如后所述，在所述比较检查中，一个扫描周边图案区域10A、10B、10C、10D的图案，另一个扫描检查用图案区域20A、20B、20C、20D的图案。
接着，对检查在所述光掩模10的像素图案区域9和周边图案区域10A、10B、10C、10D的每个图案中产生的缺陷的缺陷检查方法进行说明。
把光掩模10设定为例如纵置，令位于比较检查装置的上侧的上透镜单元的上透镜(未图示)，在像素图案区域9、周边图案区域10A、10B、10C、10D上进行扫描。另外，令位于比较检查装置的下透镜单元的下透镜(未图示)，在像素图案区域9、检查用图案区域20A、20B、20C、20D上进行扫描。然后，通过比较从这些实际的图案得到的透过量信号的模对模检查方式(DD检查方式)，检查图案的缺陷。
在检查像素图案区域9的图案缺陷之际，由于该像素图案区域9是重复了相同的像素图案的重复像素图案区域，所以把该像素图案区域9划分为上下2个区，在各个区上分别配置上透镜单元的上透镜、下透镜单元的下透镜并进行扫描。由此，各透镜单元内的CCD线传感器检测透过量信号。由于像素图案区域9是相同的图案，所以这些透过量信号理应成为相同波形，但如果一个图案中存在缺陷(例如气孔等白缺陷、点等黑缺陷)，则成为反映该缺陷的波形。因此，对两个透过量信号进行差分(减法运算)求出差分信号，则在该差分信号中可提取反映所述缺陷的缺陷信号。然后，通过该缺陷信号的电平是否为规定阈值以上，检查缺陷的有无。
另外，在检查周边图案区域10A～10D的图案缺陷之际，通过分别比较这些周边图案区域10A～10D和对应的检查用图案区域20A～20D，实施通过DD检查方式的图案缺陷检查。
即，在周边图案区域10A和检查用图案区域20A的一方和另一方上分别配置上透镜和下透镜，并使各透镜扫描。由此，各透镜单元内的CCD线传感器检测出透过量信号。由于周边图案区域10A和检查用图案区域20A是相同的图案，所以这些透过量信号理应成为相同波形，但如果周边图案区域10A的图案中存在缺陷(例如气孔等脱落缺陷(白缺陷)、点等多余缺陷(黑缺陷))，则成为反映该缺陷的波形。因此，对两个透过量信号进行差分(减法运算)求出差分信号，则可在该差分信号中提取反映所述缺陷的缺陷信号。然后，根据该缺陷信号的电平是否为规定阈值以上，检查周边图案区域10A的图案中缺陷的有无。
在周边图案区域10B中，也在该周边图案区域10B和检查用图案区域20B的一方上配置上透镜，在另一方上配置下透镜。另外，在周边图案区域10C中，也在该周边图案区域10C和检查用图案区域20C的一方上配置上透镜，在另一方上配置下透镜。进一步，在周边图案区域10D中，也在该周边图案区域10D和检查用图案区域20D的一方上配置上透镜，在另一方上配置下透镜。如此，与周边图案区域10A的情况同样地，检查周边图案区域10B、10C、10D中的图案缺陷。无论是具有灰色调部15的周边图案区域10A、10B、10C，还是没有灰色调部15的周边图案区域10D，都同样地利用DD检查方式检查图案的缺陷。
因为如上述那样来构成，所以根据所述实施方式可以得到以下的效果(1)～(3)。
(1)在光掩模10的空白空间21中，设置排列有分别与周边图案区域10A、10B、10C、10D的图案相同的图案的检查用图案区域20A、20B、20C、20D，分别比较这些周边图案区域10A～10D、和检查用图案区域20A～20D，检查该周边图案区域10A～10D中的图案缺陷。因此，在没有重复图案的周边图案区域10A～10D中，也能够实施对实际的图案之间进行比较的模对模检查方式(DD检查方式)。结果，与比较实际的图案和该图案的设计数据的模对数据库的检查方式(DDB检查方式)的情况相比较，在没有重复图案的周边图案区域10A～10D中，也能够高精度且在短时间内检查图案的缺陷。
(2)关于具有由遮光部13、透光部14和灰色调部15构成的图案的周边图案区域10A、10B、10C，也可以利用分别具有与该周边图案区域10A、10B、10C的图案相同的图案的检查用图案区域20A、20B、20C，实施DD检查方式的图案缺陷检查，所以能够高精度且在短时间内检查该周边图案区域10A、10B、10C图案的缺陷。即，根据本实施方式的发明，成为检查对象的周边图案，即便是在遮光部、透光部之外还具有灰色调部的情况下，也可以通过比较各个区域中的透过量信号和对应的检查用图案区域的透过量信号，仅根据其差分是否在允许范围内，来简便地判断缺陷的有无。假设对于相同的图案进行DDB检查，则为了回避所述段0009所述的问题，需要双重检查，即把灰色调部看作遮光部进行的检查、和把灰色调部看作透光部进行的检查。这不仅需要双重检查，而且由于检查装置处理的数据量变得庞大，不可避免地招致处理时间的大幅度增加。因此，本发明，在由遮光部和透光部构成的所谓二元掩模之外、还具有半透光部的灰色调掩模中，可以带来特别显著的效果。
(3)各检查用图案区域20A、20B、20C、20D设在各周边图案区域10A、10B、10C、10D的附近，所以可以容易地比较两图案区域的图案、检查图案缺陷。
第2实施方式(图3)图3是表示关于本发明的光掩模的第2实施方式的平面图。在该第2实施方式中，对于与所述第1实施方式相同的部分附加相同符号，并省略其说明。
在该第2实施方式的光掩模30中，具有与周边图案区域10A、10B、10C、10D的各自的图案相同的图案的检查用图案区域20A、20B、20C、20D，在光掩模30的空白空间21中，设置在夹持像素图案区域9的相反侧。即，检查用图案区域20A设在夹持像素图案区域9、与周边图案区域10A相反的位置上，检查用图案区域20B设在夹持像素图案区域9、与周边图案区域10B相反的位置上，检查用图案区域20C设在夹持像素图案区域9、与周边图案区域10C相反的位置上，检查用图案区域20D设在夹持像素图案区域9、与周边图案区域10D相反的位置上。然后，与所述第1实施方式相同地，利用检查用图案区域20A～20D，通过DD检查方式检查周边图案区域10A～10D的图案的缺陷。
因此，根据该第2实施方式的光掩模30，在所述实施方式的效果(1)以及(2)之外，还得到下面效果(4)。
(4)检查用图案区域20A、20B、20C、20D的每一个，设置在夹持像素图案区域9、周边图案区域10A、10B、10C、10D的每一个相反的位置上。因此，周边图案区域10A～10D和对应的检查用图案区域20A～20D的距离分别比像素图案区域9的宽度大。这就意味着，周边图案区域10A～10D和对应的检查用图案区域20A～20D的距离，必然满足由基于用于像素图案区域9的缺陷检查的比较检查装置的透镜间隔的最小检查间隔等的、光学系统产生的制约条件。因此，在本实施方式中，可在周边图案区域10A～10D和对应的检查用图案区域20A～20D的距离切实满足由基于比较检查装置的透镜间隔的最小检查间隔等的、光学系统产生的制约条件的状态下，比较这些周边图案区域10A～10D和检查用图案区域20A～20D的图案，检查该周边图案区域10A～10D中的图案的缺陷。
第3实施方式(图4)图4是表示关于本发明的光掩模的第3实施方式的平面图。在该第3实施方式中，对于与所述第1实施方式相同的部分附加相同符号，并省略其说明。
在该第3实施方式的光掩模40中，特别是空白空间21狭窄的情况下，在空白空间21上设置具有与多个周边图案区域、即周边图案区域10A、10B、10C、10D中、特定的(例如对于掩模厂商重要的)被选定的周边图案区域(例如周边图案区域10B)的图案相同的图案的检查用图案区域(例如检查用图案区域20B)。该检查用图案区域20B设置在夹持像素图案区域9、与周边图案区域10B相反位置上，或者设在周边图案区域10B的附近。然后，与所述第1实施方式相同地，利用检查用图案区域20B，通过DD检查方式检查特定的被选定的周边图案区域10B的图案缺陷。
关于其他的周边图案区域10A、10C、10D，实施比较来自这些周边图案区域的透过量信号和周边图案区域10A、10C、10D的各自的设计数据的模对数据库的检查方式(DDB检查方式)，检查周边图案区域10A、10C、10D的图案的缺陷。
因此，根据该第3实施方式，对于重要的周边图案区域(例如周边图案区域10B)，除了获得所述第1实施方式的效果(1)以及(2)之外，还得到下面效果(5)。
(5)仅对于重要的例如周边图案区域10B，与检查用图案区域20B进行比较，检查该周边图案区域10B的图案的缺陷，所以对于该重要的周边图案区域10B，可以利用DD检查方式、高精度且在短时间内实施图案的缺陷检查。
上面，根据所述实施方式对本发明进行了说明，但本发明并不限于此。例如，对于没有灰色调部15的周边图案区域10D，在光掩模10、30的空白空间21上，不设置排列有与该周边图案区域10D的图案相同的图案的检查用图案区域20D也可以。在此情况下，对于该周边图案区域10D，通过DDB检查方式检查图案的缺陷。
另外，在所述实施方式中，阐述了对于存在具有灰色调部15、且没有重复图案部的周边图案区域10A、10B、10C的光掩模10、30、40，适用本发明的情况，但对于在像素图案区域9的周边上设有没有灰色调部15的周边图案区域的光掩模，也可以适用本发明。
进一步，阐述了所述周边图案区域10A、10B、10C的灰色调部15由具备光半透过性的半透光膜17构成，但也可以是由遮光图案构成的灰色调部。即，如图5所示，该灰色调部50是形成了由使用光掩膜的大型LCD用曝光机的析像界限以下的微细图案构成的遮光图案51的区域。例如，该遮光图案51的线宽和该线的间隔为所述曝光机的析像界限以下、例如不足3μm。另外，该遮光图案51，与遮光部13相同，由铬或者铬化物构成，以相同的膜厚来形成。
权利要求
1.一种光掩模的缺陷检查方法，是检查具有具备重复了相同图案的重复图案的像素图案区域、和设在该像素图案区域的周边、没有重复图案的周边图案区域的光掩模中的所述图案的缺陷的方法，其特征在于，在所述光掩模中，在不存在所述像素图案区域以及所述周边图案区域的空白空间上，设置排列有与所述周边图案区域的图案相同的图案的检查用图案区域，通过比较这些周边图案区域和检查用图案区域，检查该周边图案区域中的图案的缺陷。
2.根据权利要求1所述的光掩模的缺陷检查方法，其特征在于，通过将所述检查用图案区域与所述周边图案区域的间隔设定为规定的距离以上，而使利用检查装置的光学系统进行的比较检查成为可能。
3.根据权利要求1所述的光掩模的缺陷检查方法，其特征在于，所述检查用图案区域，设置在夹持所述像素图案区域、与所述周边图案区域相反的位置上。
4.根据权利要求1所述的光掩模的缺陷检查方法，其特征在于，所述光掩模中，仅对于多个设置在所述像素图案区域的周边的周边图案区域中的规定的被选定的周边图案区域设置有对应的检查用图案区域，通过比较所述规定的被选定的周边图案区域和所述检查用图案区域，检查该周边图案区域中的图案的缺陷。
5.根据权利要求1至4的任一项所述的光掩模的缺陷检查方法，其特征在于，所述周边图案区域具有由遮光部、透光部、和使用光掩模时用的降低曝光光的透过量的用半透光膜构成的灰色调部构成的图案。
6.一种光掩模，其具有具备重复了相同图案的重复图案的像素图案区域、和设在该像素图案区域的周边、没有重复图案的周边图案区域，其特征在于，在不存在所述像素图案区域以及所述周边图案区域的空白空间上，设置了排列有与所述周边图案区域的图案相同的图案的检查用图案区域。
7.根据权利要求6所述的光掩模，其特征在于，通过将所述检查用图案区域与所述周边图案区域的间隔设定为规定的距离以上，而使利用检查装置的光学系统进行的比较检查成为可能。
8.根据权利要求6所述的光掩模，其特征在于，所述检查用图案区域，设置在夹持所述像素图案区域、与所述周边图案区域相反的位置上。
9.根据权利要求6所述的光掩模，其特征在于，仅对于多个设置在所述像素图案区域的周边的周边图案区域中的规定的被选定的周边图案区域，设置所述检查用图案区域。
10.根据权利要求6至9的任一项所述的光掩模，其特征在于，所述周边图案区域具有由遮光部、透光部、和使用光掩模时用的降低曝光光的透过量的用半透光膜构成的灰色调部构成的图案。
全文摘要
本发明提供一种光掩模的缺陷的检查方法，所述光掩模具有具备重复了相同图案的重复图案的像素图案区域(9)、和设在该像素图案区域的周边、没有重复图案的周边图案区域(10A、10B、10C、10D)，在所述光掩模中，在不存在像素图案区域或者周边图案区域的空白空间(21)上，设置排列有分别与周边图案区域(10A、10B、10C、10D)的图案相同的图案的检查用图案区域(20A、20B、20C、20D)，通过比较这些周边图案区域和检查用图案区域，检查该周边图案区域中的图案的缺陷。
文档编号G03F1/00GK101025563SQ20071000586
公开日2007年8月29日 申请日期2007年2月25日 优先权日2006年2月20日
发明者佐野道明 申请人:Hoya株式会社