专利名称：阵列基板制造用的光掩模、阵列基板及其制造方法
技术领域：
本发明涉及用于制作液晶显示装置阵列基板用的光掩模、阵列基板 及其制造方法。
背景技术：
用于液晶显示装置的阵列基板通常是由大母玻璃基板制作多片阵列 基板而成，即从一张母玻璃基板取得多片的阵列基板。在从母玻璃基 板上制得阵列基板后的状态下检查各个阵列基板时，利用检查用的探
针(probe)电气接触设置在母玻璃基板周边的检查用焊盘(pad)来 进行检查。这时，即使阵列基板的尺寸或者从一张母玻璃基板取得的 阵列基板的片数不同，只要设置在母玻璃基板周边的检查用的焊盘的 位置相同，就可以使用相同的检查用探针装置(probe block,它是按 照检查焊盘的位置嵌入检查用的探针的装置)进行检查，这样能够节 约费用，同时还能提高生产率。因此，在阵列基板的尺寸、或者从一 张母玻璃基板上取得的阵列基板的片数不同的情况下，也尽可能的使 检查用的焊盘的位置相同，并谋求检查用的探针装置的通用化。
但是，在使用1张母玻璃基板制作n英寸的阵列基板和使用1张母 玻璃基板制作19英寸的阵列基板的情况下，设置在母玻璃基板周边的 检查用焊盘的位置不同，不能使用相同的检查用探针装置进行检查。 其理由是，在与配置17英寸阵列基板的母玻璃基板相同的基板上配置 19英寸的阵列基板的情况下，与在母玻璃基板上配置17英寸阵列基板 时相比，阵列基板的检查点位置有改变，不能够与17英寸阵列基板的 情况下同样地形成连接从19英寸的阵列基板的检查点到设置在母玻璃 基板周边的检查用焊盘之间的配线。下面根据附图进行说明。
图1是表示在母玻璃基板上设置检查用焊盘的概况的母玻璃基板的 平面图。
图1中，IOI是母玻璃基板，102是检查用焊盘，121~123分别为
与1片阵列基板对应的多个检查焊盘构成的检查焊盘的集合(下称"检 查焊盘组")。131 ~ 133也分别是检查1片阵列基板用的检查焊盘组。
图7是将12片17英寸的阵列基板配置在与图l相同的母玻璃基板 上的情况下母玻璃基板的概略平面图。
图7中，711~713是被配置在母玻璃基板最上段的17英寸的阵列 基板，721到723是配置在从母玻璃基板最上段开始起笫2段的阵列基 板，731到733是配置在从母玻璃基板最上段开始起第3段的阵列基 板，741到743是配置在从母玻璃基板最上段开始起第4段的阵列基 板，751与752是分别利用1张光掩模啄光的啄光区域，121到123、 791、 792以及131到133是检查焊盘组，761是包含于检查焊盘组121 中的检查焊盘，762是包含于检查焊盘组791中的检查焊盘，763是包 含于检查焊盘组792中的检查焊盘，764是包含于检查焊盘组131中的 检查焊盘，771是阵列基板711的检查点(point), 772是阵列基板731 的检查点，781是连接检查焊盘761、阵列基板711的检查点771与检 查焊盘762的配线，782是连接检查焊盘763、阵列基板731的检查点 772与检查焊盘764的配线。
图7所示的母玻璃基板的情况下，为了对配置在母玻璃基板上段的 阵列基板711通过检查点771进行检查，只要让探针装置与检查焊盘 761接触即可。这时检查焊盘761通过配线781也与未用于检查的检 查焊盘762连接，但由于没有使用配置在母玻璃基板中段的检查焊盘 组791，检查焊盘762不会被使用，而形成电气开路状态，所以不会给 通过检查焊盘761的检查带来不良影响。其次，对于配置在母玻璃基 板下段的阵列基板731，为了通过阵列基板731的检查点772进行检 查，只要让探针装置接触下面的检查焊盘764即可。这时，检查焊盘 764通过配线782也与未用于检查的检查焊盘763接触，但由于没有使 用配置在母玻璃基板中段的检查焊盘组792，所以检查焊盘763不会 被使用，形成电气上的开路状态，所以不会给通过检查焊盘764进行 的检查带来不良影响。
也就是说，如果预先设置像配线781那样将阵列基板711或721的
各检查点连接于一个曝光区域内的上侧的检查焊盘组121和下侧的检 查焊盘组791两者的检查焊盘上的配线，则在使用相同的光掩模对膝 光区域751与752进行膝光，制作配置在上侧的阵列基板711、 721和 配置在下侧的阵列基板731、 741，检查配置在母玻璃基板101上侧的 阵列基板711或721的情况下，可以使用母玻璃基板101上部的检查焊 盘组121内的任意检查焊盘进行检查，在检查配置在母玻璃基板101
查焊盘组131内的任意检查焊盘进行检查。
也就是说，无论是配置在母玻璃基板IOI上段的阵列基板711、 721 还是配置在下段的阵列基板731、 741，都可以只使用配置在母玻璃基 板101上段或下段的检查焊盘组而不使用配置在母玻璃基板101中段 的检查焊盘组进行检查。
但是，使用与图7所示的配置12片17英寸的阵列基板的母玻璃基 板相同的母玻璃基板101，并在母玻璃基板101上形成多片的19英寸 的阵列基板的情况下，如果像形成17英寸的阵列基板时那样只采用设 置将19英寸的各阵列基板的各检查点连接于上下两方的检查焊盘组上
的配线的方法，则不能够像n英寸的情况那样进行检查。下面根据附
图进行说明。
图2是表示在图7所示的母玻璃基板上配置9片19英寸的阵列基板 的情况的平面图。
图2中，202到204是通过相同的光掩模分别膝光的各膝光区域， 101是母玻璃基板。
另外，通过对啄光区域202的曝光形成配置在曝光区域202内的检 查焊盘组121、阵列基板221和检查焊盘组241。对于其他曝光区域也 相同。
221到223是配置于母玻璃基板上段的阵列基板，281到283是配置 于母玻璃基板中段的阵列基板，291到293是配置于母玻璃基板下段的 阵列基板。
另外，121是位于通过对曝光区域202啄光形成的阵列基板221的 上部的检查焊盘组，122与123也同样是分别位于各阵列基板222和223
的上部的检查焊盘组。
同样，241是位于通过对膝光区域202曝光形成的阵列基板221的 下部的检查焊盘组，242与243也同样是分别位于各阵列基板222和223 的下部的检查焊盘组。
251是位于通过对膝光区域203膝光形成的阵列基板281的上部的 检查焊盘组，252与253也同样是分别位于各阵列基板282和283的上
部的检查焊盘组。
261是位于通过对膝光区域203膝光形成的阵列基板281的下部的 检查焊盘组，262与263也同样是分别位于各阵列基板282、 283的下 部的检查焊盘组。
271是位于通过对曝光区域204曝光形成的阵列基板291的上部的 检查焊盘组，272与273也同样是分别位于各阵列基板292、 293的上 部的检查焊盘组。
131是位于通过对曝光区域204曝光形成的阵列基板291的下部的 检查焊盘组，132与133也同样是分别位于各阵列基板292、 293的下
部的检查焊盘组。
另外，21是阵列基板221的检查点(图中用[X]表示，下同)。22 是阵列基板281的检查点，23是阵列基板291的检查点，761是检查焊 盘，762也是检查焊盘，765、 766、 763、及764都是检查焊盘。31是 连接检查焊盘761、检查点21以及检查焊盘762的配线，32是连接检 查焊盘765、检查点22及检查焊盘766的配线，33是连接检查焊盘 763、检查点23以及检查焊盘764的配线。
检查图2所示的母玻璃基板上的各阵列基板时，若只使用存在于母 玻璃基板最上部的检查焊盘组121 ~ 123或存在于最下部的检查焊盘组 131 ~ 133，而对于存在于母玻璃基板中间部的检查焊盘组241 -243、 或检查焊盘组251 ~ 253、或检查焊盘组261 ~ 263、或检查焊盘组271 ~ 273任何一组都不使用也能够进行检查的话，那么19英寸的阵列基板 也可以与17英寸的阵列基板一样进行检查。
为了通过检查点检查配置在母玻璃基板最上段的阵列基板221，如 果与检查图7所示的17英寸的阵列基板711时使用检查点771的情况
一样通过探针装置与图2的检查焊盘761接触，则通过配线31连接检 查点21就能够进行检查。对于阵列基板222和223，通过与检查焊盘 组122或检查焊盘组123中的检查焊盘接触，也可同样进行检查。
在通过检查点23检查配置在母玻璃基板最下段的阵列基板291的情 况下，也与检查图7所示的检查点772的情况一样，若与图2的检查 焊盘764接触，则通过配线33连接检查点23就可进行检查。对于阵列 基板292和293，通过与检查焊盘组132或者检查焊盘组133中的检 查焊盘接触，可同样进行检查。
也就是说，对于配置在母玻璃基板最上段或最下段的阵列基板，与 17英寸的情况一样，可以从检查焊盘组121~123中的任意一个检查焊 盘或检查焊盘组131 ~ 133中的任意一个检查焊盘开始进行检查。
但是，对于配置在母玻璃基板中段的阵列基板，却不能够与检查n
英寸阵列基板的情况一样从母玻璃基板最上段的检查焊盘组121 ~ 123 中的检查焊盘或最下段的检查焊盘组131 ~ 133中的任意检查焊盘开始 检查。
下面以配置在图2母玻璃基板中段的阵列基板281为例进行具体说明。
为了从检查焊盘组121 ~ 123中的任意检查焊盘或检查焊盘组131 ~ 133中的任意检查焊盘开始检查配置在图2的母玻璃基板中段的阵列基 板281，需要将阵列基板281的检查点22与检查焊盘组121~123中的 检查焊盘或者检查焊盘组131 ~ 133中的检查焊盘中的任意一个连接。 但是，配线32是通过对曝光区域203进行曝光形成的，因此通常不能 与曝光区域203的外侧的区域连接。因此，配线32与检查焊盘组121 ~ 123中的检查焊盘或者检查焊盘组131-133中的检查焊盘中的任何检 查焊盘都不连接。
因此，母玻璃基板最上段的检查焊盘组121 ~ 123中的检查焊盘或最 下段的检查焊盘组131 ~ 133中的检查焊盘中的任意检查焊盘都不能检 查阵列基板281。对于阵列基板282与283也相同。
接下来就以阵列基板281的检查点22为例进行说明在这样的情况下 也能够进行检查的方法。 为了通过与检查焊盘组121中的任意一个检查焊盘接触以利用检查 点22对阵列基板281进行检查，需要在图2的阵列基板281的检查点 22与检查焊盘组121中的特定的检查焊盘之间铺设配线来连接检查点 22与检查焊盘组121中的特定的检查焊盘。
阵列基板281的检查点与检查焊盘组121中的特定的检查焊盘之间 横跨有通过对曝光区域202曝光而形成的设置配线的区域和通过对曝 光区域203膝光而形成的设置配线的区域。因此阵列基板281的检查 点与检查焊盘组121中的特定的检查焊盘之间的配线仅靠对曝光区域 202或爆光区域203单独啄光是不能形成的。
但是，如果将连接对曝光区域202曝光制成的检查焊盘组121中的 特定检查焊盘的配线连接于通过对曝光区域203曝光制成的阵列基板 281的检查点上连接的配线，就能够使阵列基板281的检查点与检查焊 盘组121中的特定的检查焊盘之间电连接。该连接依靠下述方法实现， 即使曝光区域202的曝光与膝光区域203的曝光的部分重叠，使该部 分重叠的区域双重曝光，并在曝光重叠的部分使配线连接。下面参照 附图进行说明。
图3是表示在具有图7所示的检查用焊盘的母玻璃基板上配置3片 19英寸阵列基板的情况的母玻璃基板的平面图。
图3中，361是包含于检查焊盘组121中的一个检查焊盘，381是通 过对啄光区域202膝光制成的配线，391也是通过对曝光区域202曝光 制成的配线，382是通过对啄光区域203啄光而制成的配线，392也是 通过对啄光区域203曝光而制成的配线，383是通过对曝光区域204曝 光而制成的配线，393也是通过对曝光区域204曝光而制成的配线。还 有，333是对膝光区域202和曝光区域203部分重叠地膝光的双重曝光 区域，334是对曝光区域203和曝光区域204部分重叠地曝光的双重曝 光区域。
双重膝光区域的范围可通过在曝光时使啄光位置改变来简单地进行 调整，所以通过调整双重啄光区域333的范围，能够使配线391与382
重叠地进行双重曝光，因而能够实现位于双重曝光区域上侧的区域与 位于下側的区域之间的电气连接。
具体说明如下。通过对曝光区域202曝光制作配线381和配线391。 又通过对啄光区域203曝光制作配线382和配线392。因此，若利用双 重膝光，在双重曝光区域333调整膝光位置，使配线391与配线382 重叠，则可以将配线391与配线382电气连接。
利用这样的双重啄光方法可以连接横跨曝光区域而存在的检查焊盘 361与阵列基板281中的检查点。
但是，因情况的不同，有时候希望要在双重曝光区域333进行连接， 而不希望在双重啄光区域334进行连接。假设例如利用检查焊盘361 通过检查点来检查阵列基板281。在这种情况下，若在双重曝光区域 334里配线重叠，则与包含在不想与检查焊盘连接的阵列基板291中的 检查点也连接，因此利用检查焊盘361不能正确地检查阵列基板281。
相关的现有技术可以参照专利文献l:日本特开平8-50295。
发明内容
因此，本发明的目的在于，提供在由1张母玻璃基板使用相同的光 掩模制作多片阵列基板的情况下，能自由地调整联系邻接的曝光区域 间的配线的连接与切断，在同一张母玻璃基板上配置不同大小的阵列 基板的情况下，也能够利用相同的检查用探针装置进行检查的光掩 模、用该光掩模制造的阵列基板、及该阵列基板的制造方法，
本发明第1方面是一种光掩模，用于制造能多片取得液晶显示装置 用的TFT阵列基板、即以下简称为"阵列基板，，，其特征在于，
所述光掩模具有在阵列基板的上端部形成上下走向的配线、即下述 "上部上下走向的配线"的区域、在阵列基板的下端部形成上下走向 的配线、即下述"下部上下走向的配线，，的区域，以及在所述下部上 下走向的的配线与所述上部上下走向的配线的两者中的至少一配线的 任一侧形成转弯部的区域。
本发明第2方面是一种光掩模，其特征在于，所述转弯部为U型转 弯部。
本发明第3方面是一种液晶显示装置用的TFT阵列基板，其特征在 于，使用本发明笫1方面所述的光掩模制作。
本发明第4方面是一种液晶显示装置用的TFT阵列基板的制造方
法，其特征在于，使用本发明第1方面所述的光掩模进行曝光处理。
如果采用本发明，在由1张母玻璃基板使用相同的光掩模制作多片 阵列基板的情况下，可以自由地调整连接邻接的膝光区域间的配线的 连接与切断；即使是对在相同的母玻璃基板上制作不同大小的阵列基 板的母玻璃基板进行检查的情况下，也能够利用相同的检查用探针装 置进行检查。
图1是表示设置母玻璃基板上的检查用焊盘的概况的母玻璃基板的 平面图。
图2是表示在具有图1所示的检查用焊盘的母玻璃基板上配置多片 19英寸的阵列基板的情况的母玻璃基板的平面图。
图3是表示在具有如图1所示的检查用焊盘的母玻璃基板上配置3 片19英寸的阵列基板的情况的母玻璃基板的平面图。
图4是用于说明本发明的实施形态的光掩模而示意出配置有利用该
光掩模制成的阵列基板的母玻璃基板的简略平面图。 图5是图4中421部分的放大图。 图6是图4中422部分的放大图。
图7是配置12片17英寸的阵列基板的母玻璃基板的概略平面图。
符号说明
101 母玻璃基板
202 膝光区域
203 膝光区域
204 曝光区域 221 阵列基板 281 阵列基板 291 阵列基板 361 检查焊盘
381 上部上下走向的配线
382 上部上下走向的配线
383 上部上下走向的配线
391 下部上下走向的配线
392 下部上下走向的配线
393 下部上下走向的配线 501 面向边界的U转弯部 511 面向中央的U转弯部
具体实施例方式
下面参照附图对本发明的实施形态进行说明。
图4是用于说明本发明的实施形态的光掩模(下面也称为"本光掩 模")而示意出配置有利用该光掩模制成的阵列基板的母玻璃基板的 简略平面图。
图4中，IOI是母玻璃基板，381是利用本光掩模制成的上部上下走 向的配线，391是利用本光掩模制成的下部上下走向的配线。 图5是图4中的421部分的放大图。
图5中，391是通过对啄光区域202曝光形成的下部上下走向的配 线，501是面向边界的U转弯部，511是面向中央的U转弯部，382是 通过对曝光区域203曝光形成的上部上下走向的配线，333是曝光区域 202与膝光区域203的膝光重叠的双重曝光区域。
在双重曝光的区域，在如图5所示的双重曝光区域333那样的情况 下，由于双重曝光，下部上下走向的配线391与上部上下走向的配线 382重叠，其结果是，下部上下走向的配线391与上部上下走向的配线 382得以连接，另外，配线在面向中央的U转弯部511也没有被切断。
下面就配线在面向中央的U转弯部511被切断的情况进行说明。
图6是图4中的422部分的放大图。
图6中，392是通过对曝光区域203啄光而形成的下部上下走向的 配线，383是通过对曝光区域204膝光而形成的上部上下走向的配线， 511是通过对曝光区域203曝光而形成的面向中央的U转弯部。
在图6的情况下也通过对双重曝光区域334双重膝光形成配线，造
成下部上下走向的配线392与上部上下走向的配线383重叠。其结果 是，与图5的情况相同，下部上下走向的配线392与上部上下走向的 配线383得以连接。
但是，双重曝光区域334内的面向中央的U转弯部511利用双重曝 光中的其中一个(曝光)对曝光区域203曝光可以形成配线，但是在 对曝光区域204曝光的时候则无法形成配线。这样，在双重膝光的区 域，由于一膝光可以形成配线而另一膝光无法形成配线，则该区域因 膝光时使用的光刻胶的类型的关系而无法形成配线。
因此，面向中央的U转弯部511通过选择光刻胶的类型能够控制双 重曝光的结果而不让其形成，下部上下走向的配线392缺少存在于与 检查焊盘361连接的路径中的面向中央的U转弯部511，配线被切断。
所以，想让下部上下走向的配线392与检查焊盘361连接时，如图 5所示那样调整双重膝光区域，使双重膝光区域中不包含面向中央的U 转弯部；不想让下部上下走向的配线392与检查焊盘361连接时如图6 所示那样，只要让双重曝光区域包含面向中央的U转弯部即可。
如果这样采用本光掩模，在从l张母玻璃基板制作多片阵列基板的 情况下，通过在利用本光掩模进行的曝光工艺中调整被双重曝光的区 域，能够使在母玻璃基板中央部形成的阵列基板的检查点与其它阵列 基板连接或断开。
因此，如果采用本发明，能够在不同膝光区域的边界自由地连接或 断开配线，将各阵列基板的检查点与配置在母玻璃基板上部或下部的 检查焊盘组内的检查焊盘自由地连接或断开。
其结果是，在把如图7所示的制作12片17英寸的阵列基板时使用 的母玻璃基板用于制作9片19英寸的阵列基板的情下，也可以使用 与17英寸阵列基板的情况相同的检查用焊盘和检查用探针装置进行检 查。
另外，啄光工艺是公知的工艺，无特别的特征，故说明省略。还有， 检查用的探针，检查用探针装置也是公知的，无特别特征，因此其说 明省略。
权利要求
1.一种光掩模，用于制造能多片取得液晶显示装置用的TFT阵列基板、即以下简称为“阵列基板”，其特征在于，所述光掩模具有在阵列基板的上端部形成上下走向的配线、即下述“上部上下走向的配线”的区域、在阵列基板的下端部形成上下走向的配线、即下述“下部上下走向的配线”的区域，以及在所述下部上下走向的配线与所述上部上下走向的配线两者中的至少一配线的任一侧形成转弯部的区域。
2. —种如权利要求l所述的光掩模，其特征在于，所述转弯部为U 型转弯部。
3. —种液晶显示装置用的TFT阵列基板，其特征在于，使用权利要 求l所述的光掩模制作。
4. 一种液晶显示装置用的TFT阵列基板的制造方法，其特征在于， 使用权利要求1所述的光掩模进行曝光处理。
全文摘要
本发明提供一种使用相同的光掩模由母玻璃基板制作多片阵列基板的情况下可以自由地形成或切断连接相邻的曝光区域的配线；即使是在由相同的母玻璃基板制造不同大小的阵列基板的情况下也可以利用相同的检查用探针装置进行检查的光掩模、阵列基板及其制造方法。解决手段是，构成上述光掩模以使得在阵列基板的上端部形成上部上下走向配线，在下端部形成下部上下走向配线；以及在所述下部上下走向配线的左侧或右侧，形成向所述阵列基板下端侧的边界U转弯的“向边界U转弯部”和再次向所述阵列基板中央部U转弯的“向中央部U转弯部”。
文档编号G03F1/00GK101206393SQ20071030503
公开日2008年6月25日 申请日期2007年12月19日 优先权日2006年12月19日
发明者川野英郎, 砂山英树 申请人:龙腾光电(控股)有限公司