高抗蚀胶显影液及其制备方法

专利名称：：高抗蚀胶显影液及其制备方法
技术领域：
：本发明涉及一种显影液，尤其一种高抗蚀胶显影液及其制备方法。二
背景技术：
：显影液(Devel叩er)，为无色透明液体，易挥发，易燃，密度(20°C):0.720g/ml。该产品主要应用于超大规模集成电路工艺技术的生产及分立器件上，使用该产品后显影线条无锯齿形且清晰，分辨率达到lum。目前显影液主要由苯、二甲苯等芳香烃为主要原料或以纯烷烃为主要原料，加入一定量的稳定剂、分散剂及催化剂。该工艺生产的显影液主要存在以下几个缺点①产品采用芳香烃做原料，由于苯类产品是一种致癌物质对员工健康安全危害大，并且产品使用完后的废液及生产工业废水不容易降解对环境产生污染严重，且闪点底对原料及产品的包装、存储及运输带来很大安全隐患；②产品用纯烃如环己烷做原料，由于其价格昂贵无法应用于普通的非精密的集成电路工艺技术生产及分立器件上，无法大规模推广。三、技术内容针对上述缺点，本发明的目的在于提供一种不含致癌物质及生产成本低的高抗蚀胶显影液。本发明的技术内容为，一种高抗蚀胶显影液，其特征为它主要由馏程为80"C12(TC的CeC8混合烷烃和馏程为150'C21(TC的含庚垸的C7d。混合烷烃组成；高抗蚀胶显影液中C6C8混合烷烃的含量为3060重量％，含庚垸的C7U混合烷烃的含量为4070重量％;含庚垸的C7C,。混合垸烃中庚烷的含量为2080重量％。本发明的另一目的在于提供上述高抗蚀胶显影液的制备方法。本发明的技术内容为，一种高抗蚀胶显影液的制备方法，其生产步骤如下(1)、将馏程为8(TC120。C的""混合烷烃和馏程为150。C210。C的含庚烷的C7d。混合垸烃混合，并在常温下搅拌1530分钟；其中使C6CV混合烷烃的含量为3060重量％，含庚烷的C7d。混合垸烃的含量为4070重量％;含庚烷的C7C,。混合烷烃中庚垸的含量为2080重量％;(2)、将上述制得的混合液再经0.2um精密过滤，以去除混合液中粒径大于0.2pm的有害粒子，即得高抗蚀胶显影液。本发明屏弃了用苯、二甲苯或纯烃，采用C6d。的混合烷烃为主要原料；混合烷烃取代芳香烃，避免了芳香烃对环境的污染及对人体的危害，由于C6CW的混合垸烃较芳香烃的闪点普遍高2(TC左右，因此也大大提高了产品的生产、包装、储存及运输上的安全性；馏程为8(rci2(rc的C6(v混合烷烃和馏程为15(TC21(TC的含庚烷的C7C,。混合烷烃的生产成本比纯烃低，所以用在石油产品中易低成本取得的混合烷经取代纯烃，可在不影响显影效果和显影速率下，大大降低生产的原料成本，适用于大规模生产。本发明与现有技术相比所具有的优点是1、本发明采用混合垸烃取代芳香烃降提高了对员工的职业健康安全，同时大大降低了对环境的污染，间接的降低了产品的生产成本。2、本发明采用在石油产品中易低成本取得的混合烷烃取代纯烃，大大降低了生产的原料成本。3、本发明的显影液可适用于中大规模集成电路工艺技术的生产。四、具体实施例下面通过实施例进一步描述本发明，但未限于所举的实施例。馏程为80'C12(TC的C6C8混合烷烃为石化厂生产的石油醚，高纯级，其指标符合表1的要求；馏程为15(TC21(TC的含庚垸的C7d。混合垸烃为高纯级，石化厂生产，其指标符合表2要求。<table>tableseeoriginaldocumentpage5</column></row><table>表2例1、将80L石油醚和100L馏程为15(TC21(TC的含庚垸的C7d。混合烷烃混合加入不锈钢反应釜，其中含庚垸的C7d。混合垸烃中庚烷的含量为30重量％;在常温下充分均匀搅拌20分钟后，将制得的混合液再经0.2ixm精密过滤，以去除混合液中粒径大于0.2txm的有害粒子，即得高抗蚀胶显影液。例2、将100L石油醚和100L馏程为150。C21(TC的含庚烷的C7d。混合垸烃混合加入不锈钢反应釜，其中含庚烷的C7d。混合烷烃中庚垸的含量为50重量％;在常温下充分均匀搅拌20分钟后，将制得的混合液再经0.2um精密过滤，以去除混合液中粒径大于0.2um的有害粒子，即得高抗蚀胶显影液。例3、将130L石油醚和100L馏程为15(TC210'C的含庚烷的C7d。混合垸烃混合加入不锈钢反应釜，其中含庚垸的C7d。混合烷烃中庚烷的含量为60重量％;在常温下充分均匀搅拌20分钟后，将制得的混合液再经0.2um精密过滤，以去除混合液中粒径大于0.2um的有害粒子，即得高抗蚀胶显影液。例4、将150L石油醚和100L馏程为15(TC21(TC的含庚垸的C7d。混合烷烃混合加入不锈钢反应釜，其中含庚垸的C7C,。混合烷烃中庚烷的含量为70重量%;在常温下充分均匀搅拌20分钟后，将制得的混合液再经0.2um精密过滤，以去除混合液中粒径大于0.2ym的有害粒子，即得高抗蚀胶显影液。例14的物理指标数据如表3:<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table>权利要求1、一种高抗蚀胶显影液，其特征为它主要由馏程为80℃～120℃的C6～C8混合烷烃和馏程为150℃～210℃的含庚烷的C7～C10混合烷烃组成；高抗蚀胶显影液中C6～C8混合烷烃的含量为30～60重量％，含庚烷的C7～C10混合烷烃的含量为40～70重量％；含庚烷的C7～C10混合烷烃中庚烷的含量为20～80重量％。2、根据权利要求1所述的高抗蚀胶显影液的制备方法，其生产步骤如下(1)、将馏程为8(TC120'C的CeC8混合烷烃和馏程为15(TC21(TC的含庚垸的C7d。混合垸烃混合，并在常温下搅拌1530分钟；其中使C6Cs混合烷烃的含量为3060重量％，含庚烷的C7C,。混合烷烃的含量为4070重量％;含庚垸的C7C,。混合烷烃中庚烷的含量为2080重量％;(2)、将上述制得的混合液再经0.2um精密过滤，以去除混合液中粒径大于0.2pm的有害粒子，即得高抗蚀胶显影液。全文摘要本发明涉及一种高抗蚀胶显影液，其特征为它主要由馏程为80℃～120℃的C₆～C₈混合烷烃和馏程为150℃～210℃的含庚烷的C₇～C₁₀混合烷烃组成；高抗蚀胶显影液中C₆～C₈混合烷烃的含量为30～60重量％，含庚烷的C₇～C₁₀混合烷烃的含量为40～70重量％；含庚烷的C₇～C₁₀混合烷烃中庚烷的含量为20～80重量％。本发明还涉及该高抗蚀胶显影液的生产方法。本发明具有不含致癌物质及生产成本低的优点。文档编号G03F7/32GK101308334SQ20081012328公开日2008年11月19日申请日期2008年7月9日优先权日2008年7月9日发明者殷福华申请人:殷福华