专利名称：曝光装置和基板的矫正装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种曝光装置和基板的矫正装置。
背景技术：
在制造印刷基板的曝光装置中，采用了这样的结构将由基板搬送 装置搬送来的基板载置并抽吸固定在定位用的曝光工作台上进行曝光。 专利文献1:日本特开2005-370037
但是，印刷布线用的基板与半导体晶片等相比，易发生翘曲和形变 等基板变形，并且变形量也很大，会在基板与曝光工作台之间产生间隙， 其结果为会产生抽吸泄漏，存在吸附不完全或者困难的问题。
发明内容
本发明的目的在于解决上述现有技术的问题。
为了达到上述目的，本发明的曝光装置的特征在于，其包括曝光 工作台，其载置印刷布线用的基板；搬送装置，其将基板搬送至上述曝 光工作台；可升降的板，其设置于上述搬送装置，用于将上述基板压靠 在上述曝光工作台上来矫正变形基板；密封装置，其对上述曝光工作台 和板之间的空间进行密封，以形成密闭空间；以及抽吸装置，其对利用 上述密封装置形成的密闭空间进行抽吸，使该密闭空间成为负压，上述 板依靠上述密闭空间的负压而下降，将上述基板压靠在上述曝光工作台 上，从而矫正基板。
此外，本发明的基板的矫正装置的特征在于，其包括:工作台，其 载置基板；搬送装置，其将基板搬送至上述工作台；可升降的板，其设 置于上述搬送装置，用于将上述基板压靠在上述工作台上来矫正变形基 板；密封装置，其对上述工作台和板之间的空间进行密封，以形成密闭空间；以及抽吸装置，其对利用上述密封装置形成的密闭空间进行抽吸， 使该密闭空间成为负压，上述板依靠上述密闭空间的负压而下降，将上 述基板压靠在上述工作台上，从而矫正基板。
根据本发明的曝光装置和矫正装置，由于生成密闭空间并通过真空 紧贴经板将基板压靠在工作台上，所以能够施加强大的载荷，还能够矫 正基板的因为是厚板而具有强大的反作用力的变形。因此，在曝光装置 中，能够防止基板吸附时的泄漏，能够进行高效率的曝光。
而且，不需要有大型的装置来施加大的载荷，能够实现装置的小型化。
此外还具有以下等效果只要使板的大小与应用的最大的基板尺寸 相一致，则能够与基板尺寸无关地可靠地夹入基板(包括基板的边缘部 在内)，能够对基板的整个面施加均等的载荷。
图1是表示本发明的一个实施方式的示意图。
图2是表示本发明的一个实施方式的动作的说明图。
图3是表示本发明的一个实施方式的动作的流程图。
标号说明
1:曝光工作台；2:搬送装置；3:密封件(packing); 4:真空泵； 5:控制装置；10:抽吸孔；11:抽吸泵；12:压力传感器；20:板；21: 保持抽吸孔；22:保持抽吸泵；25:升降引导件；30:真空泵；31:密 封件泵(packing pump); 40:真空抽吸孔；50:光源；51:掩模；52: 投影透镜；53:搬入输送机；54:搬出输送机；90:密闭空间；99:基 板。
具体实施例方式
以下根据
本发明的印刷布线基板用的曝光装置的实施方式。
在图1中，曝光工作台1载置作为应曝光的被曝光对象的、印刷布线用的基板99，通过光源50、掩模51和投影透镜52对该基板99进行 曝光。曝光工作台l通过驱动装置(未图示)可在XYZ方向上移动，并 且可在9方向上旋转。
在曝光工作台1上设置有抽吸孔IO，从而构成为通过抽吸泵11来抽 吸基板99进行固定。在抽吸泵11上设置有压力传感器12,从而能够检 测抽吸压力，检测抽吸是否正常进行。
在曝光工作台1的进入侧设置有搬送装置2，搬送装置2构成为将 由搬入输送机53从前一工序搬送来的基板99载置在曝光工作台1上。
搬送装置2具有板20,该板20由升降引导件25保持为可在上下方 向上自由升降。在板20上设置有保持抽吸孔21,通过保持抽吸泵22抽 吸基板99，从而构成为对基板99进行悬吊保持。
在板20的周围设置有密封件3，密封件3与曝光工作台1接触，从 而能够在与曝光工作台1和抽吸孔IO之间形成密闭空间90。
密封件3可通过密封件泵31伸縮，当密封件3中填充有空气时，密 封件3胀大，作为密封件发挥作用。
在搬送装置2的板20上，进一步在密封件3的内侧设置有真空抽吸 孔40，该真空抽吸孔40连通至真空泵4。构成为能够通过该真空泵4 的抽吸对上述密闭空间90进行抽吸，使密闭空间卯的内部压力下降至 接近真空的状态。
另外，2'是搬出用的搬送装置，54是搬出输送机。
控制装置5对曝光装置整体进行控制，上述曝光工作台1、保持抽 吸泵22、密封件泵31、真空泵4、抽吸泵11也由控制装置5控制。
根据图2说明动作。
搬送装置2从搬入输送机53接收基板99，通过保持抽吸孔21和保 持抽吸泵22进行抽吸保持，将基板99搬送至曝光工作台1。 (a)
接着，曝光工作台1为了接收基板99而上升，在该曝光工作台1上 升至将板20上顶的位置后，通过抽吸孔10和抽吸泵11抽吸基板99进 行基板吸附。同时从保持抽吸泵22鼓气，解除搬送装置2对基板99的 保持。(b)在基板99发生了变形的情况下，在基板99和曝光工作台1之间出 现间隙，抽吸泵11的抽吸的基板吸附压力不会升高。控制装置5根据来 自压力传感器12的检测信号检测到这种情况，对密封件3施加正压使其 伸展，使密封件3与曝光工作台l接触，从而生成密闭空间卯。(c)
接着，使保持抽吸泵22停止鼓气，通过真空抽吸孔40和真空泵4 对密闭空间90进行抽吸，使密闭空间90内为接近真空的状态。板20可 通过升降引导件25在上下方向上自由升降，所以板20被大气压按压， 通过板20和曝光工作台1对基板99施加载荷，从而矫正基板99。 (d)
由于基板99借助于真空压力而被施加了大的载荷，所以能有效地矫 正变形。
当矫正了基板99的变形、消除了泄漏后，利用抽吸泵11进行的基 板吸附得以正常进行。如果来自压力传感器12的吸附压力达到了预定的 设定值，则停止真空泵4，使密封件3收缩，使密闭空间90开放，并且 使曝光工作台l下降。然后，使搬送装置2退回到搬入输送机53上方。 然后进行位置对准等，执行曝光。(e)
接下来根据图3说明控制装置5的动作。
当搬送装置2将基板99搬送到曝光工作台1并载置于曝光工作台1 上时(步骤Sl)，使抽吸泵11工作，抽吸基板99来进行基板吸附(步骤 S2)。检查来自压力传感器12的检测压力，如果大于等于预定值，则判 断为吸附正常地进行，跳到步骤S7进行曝光动作(步骤S3)。在检测压 力未达到预定值的情况下，判断为吸附没有正常进行，使密封件泵31工 作，向密封件3施加正压使其膨胀，从而生成密闭空间90 (步骤S4)， 通过板20对基板99施加载荷以矫正基板99 (步骤S5)。如果基板99被 矫正、正常地进行吸附、并且来自压力传感器12的检测压力达到了预定 的设定值(步骤S6)，则使真空泵4停止，并使搬送装置2退回，然后执 行曝光处理(步骤S7)。
另外，以上对将本发明提供给曝光装置的情况进行了说明，但是也 可以作为矫正基板99的变形的矫正装置来实现。
权利要求
1. 一种基板的曝光装置，其特征在于，该基板的曝光装置包括曝光工作台，其载置印刷布线用的基板；搬送装置，其将基板搬送至上述曝光工作台；可升降的板，其设置于上述搬送装置，用于将上述基板压靠在上述曝光工作台上来矫正变形基板；密封装置，其对上述曝光工作台和板之间的空间进行密封，以形成密闭空间；以及抽吸装置，其对利用上述密封装置形成的密闭空间进行抽吸，使该密闭空间成为负压，上述可升降的板依靠上述密闭空间的负压而下降，将上述基板压靠在上述曝光工作台上，从而矫正基板。
2. 根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于， 在上述可升降的板上设置有用于保持基板的抽吸装置， 上述搬送装置将基板保持在上述抽吸装置上来进行基板的搬送。
3. —种基板的矫正装置，其特征在于， 该基板的矫正装置包括工作台，其载置基板；搬送装置，其将基板搬送至上述工作台；可升降的板，其设置于上述搬送装置，用于将上述基板压靠在上述 工作台上来矫正变形基板；密封装置，其对上述工作台和板之间的空间进行密封，以形成密闭 空间；以及抽吸装置，其对利用上述密封装置形成的密闭空间进行抽吸，使该 密闭空间成为负压，上述可升降的板依靠上述密闭空间的负压而下降，将上述基板压靠 在上述工作台上，从而矫正基板。
全文摘要
本发明提供一种曝光装置和基板的矫正装置，该曝光装置可进行基板的矫正。对密封件(3)施加正压使其伸展，使其与曝光工作台(1)接触，从而生成密闭空间(90)，通过真空抽吸孔(40)和真空泵(4)对密闭空间(90)进行抽吸，借助于大气压来按压板(20)，通过板(20)和曝光工作台(1)对基板(99)施加载荷，以矫正基板(99)。如果抽吸泵(11)的基板吸附压力达到了预定的设定值，则使真空泵(4)停止，使密封件(3)收缩，使搬送装置(2)退回至搬入输送机(53)之上，然后执行曝光。
文档编号G03F7/20GK101419409SQ20081016802
公开日2009年4月29日 申请日期2008年9月25日 优先权日2007年10月26日
发明者原贵之 申请人:株式会社阿迪泰克工程