专利名称：两面曝光装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种使印刷布线基板的两面曝光的两面曝光装置。
背景技术：
在使印刷布线基板的表面和背面同时曝光的平行光两面同时曝光装 10置中，以往为了使表面和背面分别曝光，而设置了表面用和背面用的两 盏灯作为光源。但是，在现有的装置中，由于有两台光源装置，所以有时要根据各 个装置和灯的个体差异来改变表面和背面的曝光条件，存在用于在表面 和背面进行相同曝光的调整和控制困难、非常麻烦的问题。
此外，由于要对1台曝光装置安装2台光源装置，因此存在成本高、装置大型化的问题。发明内容本发明的目的在于解决上述现有技术存在的问题。
为了达到上述目的，本发明的两面曝光装置的特征在于，其包括一个光源；分光体，其将上述光源的光的一半反射，使另一半透射；第一准直镜，其使上述分光体所反射的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；第二准直镜，其使透过了上述分光体的光照射向作为曝 光对象的印刷布线基板的一面侧；第一光源光闸，其设置在上述分光体 25与第一准直镜之间，用于调节来自分光体的光量；以及第二光源光闸， 其设置在上述分光体与第二准直镜之间，用于调节来自分光体的光量。在以上的结构中，采用单一的光源，利用使从该光源入射的光的一 半反射、并使另一半透射的分光体来将光分成两个光束，由此，能够实 现两面同时曝光。根据本发明的两面曝光装置，由于光源单一，所以易于维修保管。 此外縮短了更换作业时间，不存在因灯的个体差异等而导致的表面和背 面的曝光条件的变化等。此外，具有装置小型化、设置空间小而好、可 使维护空间等增大的效果。而且还具有能够实现装置结构的简化、装置 5成本和运行成本的降低等的效果。
图1是表示本发明的一个实施方式的示意图。 标号说明10 1:光源部；2:分光单元；3:准直镜；10:光源灯；11:椭圆镜；12:反射镜；13:复眼透镜；20:分光镜；21、 21:光源光闸；50:基 板；5h光掩模；52:光掩模。
具体实施方式
15 以下根据
本发明的实施方式。在图l中构成为，作为曝光对象的基板50载置于光掩模52上，在 位于基板50上方的光掩模51和光掩模52上所描绘的图案被曝光在基板 50的表面和背面上。该两面曝光装置的光源装置包括单一的光源部l;分光单元2;以 20及分别设置在基板50的表面侧和背面侧的准直镜3、 3。光源部1具有光源灯10、椭圆镜11、反射镜12以及复眼透镜13， 其构成为从光源灯10发出的光在通过椭圆镜11会聚、并通过反射镜 12折回之后，在复眼透镜(flyeyelens) 13部分聚焦。分光单元2具有分光镜20和光源光闸21、 21，从复眼透镜13射出 25的光由分光镜20分成反射光和透射光，从而分别成为基板50的表面和 背面的曝光用的光。分光单元2构成为在分光镜20的两侧分别设置有光源光闸21、 21，通过这些光源光闸21来控制光量。虽然分光镜20有多种，例如一般有在玻璃上形成了 Si02(二氧化硅)和化205 (五氧化二钽)等多层膜的分光镜，或者呈方格状地蒸镀有铝的 分光镜等，但是这些结构都可以采用。准直镜3 (collimation mirror)分别配设在基板50的表面侧和背面侧 两侧。在分光镜20反射的光通过基板50的表面侧(上侧)的准直镜3 5反射而成为平行光，并透过光掩模51照射在基板50的表面侧上。另一方面，透过了分光镜20的光通过基板50的背面侧(下侧)的 准直镜3反射而同样成为平行光，并透过光掩模52照射在基板50的背 面侧上。另外构成为在准直镜3、 3上设置有累积光量计(未图示)，根据该 io累积光量计的光量测量来进行光源光闸21、 21的控制，从而进行光量的 调节。通过以上的结构，单一的光源部l的曝光光在分光镜20处分开，并 通过准直镜3、 3在基板50的表面和背面曝光，所以能够通过单一的光 源部1进行两面曝光。 15 因此，不存在光源部1或光源灯10的个体差异，不用进行麻烦的调整和控制就能够使基板50的表面和背面的曝光条件相同。另外，能够实 现成本的降低和装置的小型化。
权利要求
1.一种两面曝光装置，其特征在于，该两面曝光装置包括一个光源；分光体，其将上述光源的光的一半反射，使另一半透射；第一准直镜，其使上述分光体所反射的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；第二准直镜，其使透过了上述分光体的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；第一光源光闸，其设置在上述分光体与第一准直镜之间，用于调节来自分光体的光量；以及第二光源光闸，其设置在上述分光体与第二准直镜之间，用于调节来自分光体的光量。
全文摘要
本发明提供一种两面曝光装置，其不用进行麻烦的调整和控制就能够使基板的表面和背面在相同的曝光条件下曝光。从光源灯(10)发出的光在通过椭圆镜(11)会聚、并通过反射镜(12)折回之后，在复眼透镜(13)部分聚焦，并通过分光镜(20)分成反射光和透射光，通过光源光闸(21)控制光量，进而由准直镜(3)反射而成为平行光，并透过光掩模(51)、光掩模(52)照射到基板(50)的表面侧和背面侧。
文档编号G02B27/00GK101403863SQ20081016802
公开日2009年4月8日 申请日期2008年9月25日 优先权日2007年10月4日
发明者浅见正利 申请人:株式会社阿迪泰克工程