专利名称：取向膜摩擦工艺及设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示器件的加工工艺和设备，尤其涉及在制备液晶显示器件过程
中对已涂敷好的薄膜进行摩擦的工艺，以及摩擦工艺所采用的设备。
背景技术：
液晶显示器件的工作原理为通过改变施加在液晶上的电压改变液晶分子的偏转 角度，从而控制偏振光旋转方向和偏振状态，进而控制偏振光能够透过偏振片或者不能透 过偏振片，以实现液晶显示器件显示状态的改变。例如TFT(Thin Film Transistor,薄膜 场效应晶体管)液晶显示面板主要包括彩色滤光片基板(CF)、TFT阵列基板、以及滴注在彩 色滤光片基板和TFT阵列基板之间的液晶，在通过TFT阵列基板上的TFT电路施加电压后， 所述液晶分子发生偏转，从而控制偏振光的旋转方向与偏振状态。 在一般情况下，液晶分子长轴方向的排列是随机取向且分布是杂乱无章的，为了 使大部分液晶分子的长轴方向能够沿着一个方向排列，需要在两个基板上形成取向膜，该 取向膜上形成具有一定方向性的沟痕，使得液晶分子的长轴方向能够沿着沟痕的方向有规 律地排列。对于TFT液晶显示面板而言，需要在彩色滤光片基板和TFT阵列基板上形成取 向膜。 取向膜的形成包括涂敷工艺和摩擦工艺其中涂敷工艺是在清洗后的基板上通过 旋转涂敷和印制方式制出用于形成取向膜的薄膜，其中薄膜的材料为聚酰亚胺；摩擦工艺 是对制出的薄膜进行摩擦取向。 现有技术中摩擦工艺为在圆辊上缠有布满细小绒毛的摩擦布形成一个摩擦辊， 通过摩擦辊与涂敷有薄膜的基板之间的相对运动，使得摩擦辊上的绒毛对薄膜表面进行摩 擦，从而在薄膜上形成了具有一定方向的沟痕，这种具有沟痕的薄膜可称为取向膜。
在实现上述摩擦工艺的过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题
随着液晶显示器件基板的尺寸不断增大，由于基板的尺寸较大，使得摩擦辊与基 板之间相对运动距离较长，这样可能导致摩擦过程中，摩擦辊相对于基板的运动角度发生 变化，造成取向膜沟痕方向的均匀性难以保证；同时，由于摩擦辊运动的距离变长了，在不 改变摩擦辊相对于基板的运动速度的情况下，需要加长摩擦工艺的时间，造成了生产效率 的降低。
发明内容
本发明的实施例提供一种取向膜摩擦工艺及设备，以保证取向膜沟痕方向的均匀 性，并提高生产效率。 为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案
—种取向膜摩擦工艺，包括 在固定装置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承载装置上承载摩擦 布，所述基板与摩擦布表面之间为平行相对的状态；
4
该工艺还包括 (1)在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运动； (2)在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触； (3)分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。 —种取向膜摩擦设备，包括 承载装置，用于承载摩擦布； 固定装置，用于固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，所述基板与摩擦布表 面之间为平行相对的状态； 动力系统，用于在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运
动；该动力系统还用于在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触，并分离所述 薄膜与所述摩擦布的平整表面。 本发明实施例提供的取向膜摩擦工艺及设备，在进行摩擦时，基板上的薄膜与摩 擦布之间是面接触，并且摩擦布的表面是平整的，这样基板上的薄膜就可以一次性地被摩 擦出沟痕来，进而形成取向膜。这种薄膜与摩擦布之间采用面接触的方式，可以确保在进行 摩擦的瞬间，基板上的薄膜所承受的摩擦的相对运动方向和速度是相同的；而上述摩擦布 的平整表面能够保证薄膜的摩擦深度是相同的。由于在本发明实施例提供的摩擦工艺和设 备中，进行摩擦的相对运动方向和速度相同，并且摩擦深度相同，能够较好地保证最后摩擦 出的沟痕方向和深度的均匀性。 同时，由于本发明实施例提供的取向膜摩擦工艺及设备，能够在摩擦布和薄膜的 一次接触中完成整个基板上薄膜的摩擦，相对于现有技术中需要摩擦辊运动较长的距离才 能完成一次摩擦而言，本发明实施例具有更高的摩擦效率，从而提高了生产效率。
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本 发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可 以根据这些附图获得其他的附图。 图1为本发明实施例1中取向膜摩擦工艺的流程图；
图2为本发明实施例1中取向膜摩擦设备的原理图；
图3为本发明实施例1中调整装置的截面图；
图4为本发明实施例2中取向膜摩擦工艺的流程图；
图5为本发明实施例2中取向膜摩擦设备的原理图；
图6为本发明实施例2中取向膜摩擦设备的动力原理图；
图7为本发明实施例2中另一种取向膜摩擦设备的原理图。
具体实施例方式
本发明提供一种取向膜摩擦工艺，在摩擦布与薄膜发生摩擦之前，需要在承载装 置上承载摩擦布，并且要将涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板固定成其薄膜与摩擦布表 面平行相对的状态；在具体生产过程中，先要在摩擦布和基板之间形成沿基板表面方向的摩擦布的平整表面接触后分 离薄膜和摩擦布的平整表面。 —般来说，上述移动薄膜与摩擦布的平整表面的接触、以及分离薄膜和摩擦布的 平整表面都是一个迅速移动的过程。 本发明提供一种取向膜摩擦设备，该设备包括承载装置、固定装置和动力系统。
所述的承载装置用于承载摩擦布，并且在摩擦布与薄膜发生摩擦之前，将摩擦布在承载装
置上要形成表面平整的状态，并且通过固定装置将涂敷有薄膜的基板固定成其薄膜与摩擦
布的表面平行相对的状态；在具体生产过程中，通过动力系统在摩擦布和基板之间形成沿
基板表面方向相对运动，然后通过动力系统让薄膜与摩擦布的平整表面相接触，在薄膜与
摩擦布的平整表面接触后，通过动力系统分离薄膜和摩擦布的平整表面。 上述动力系统完成薄膜与摩擦布的平整表面相接触、以及分离薄膜和摩擦布的平
整表面都是一个迅速移动的过程，使得摩擦布的平整表面与薄膜的接触控制在一个较短的
时间范围内。 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完 整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于 本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他 实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1 : 本实施例中承载摩擦布的为第二基台，并通过设有真空吸附结构的第一基台将涂
敷有薄膜的基板固定好。如图l所示，本发明实施例的取向膜摩擦工艺包括 101、将一整张摩擦布贴附在第二基台的台面上，并且贴附后的摩擦布表面是平整
的，形成了摩擦布的平整表面；由于第一基台上设有真空吸附结构，所以可以通过真空吸附
的方式将涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板固定到第一基台的台面上，该第一基台的台
面与所述摩擦布表面平行相对，这样就可以使得所述基板的薄膜与摩擦布表面处于平行相
对的状态。 102、在实际进行摩擦工艺时通过预先设定第二基台与第一基台相对运动方向来 决定基板和摩擦布之间的相对运动方向，为了得到沟痕方向不同的取向膜，本实施例中还 需要调整所述基板的侧边与所述相对运动方向的夹角，一般通过调整第一基台的角度即可 实现上述夹角的调整。 如果在一次摩擦工艺中，所要求的取向膜沟痕方向是与当前第一基台角度相应 的，则可以不用调整基板的侧边与所述相对运动运动方向的夹角，就可以省去102过程。
103、并通过驱动所述第二基台沿着基板表面的方向运动，以带动所述摩擦布运 动，从而使得表面平整的摩擦布沿着基板表面的方向运动，以形成基板和摩擦布之间的相 对运动。 —般而言，上述运动的应该是一个匀速直线运动，以确保后续摩擦中得到均匀性 较好取向膜，并且该匀速直线运动的速率可以取8m/s左右。 104、为了提高摩擦质量，摩擦布的面积需要大于基板上薄膜的面积，当第二基台 运动到摩擦布能够完全覆盖基板上的薄膜的位置时，迅速移动第一基台，使得第一基台上 移从而使所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相接触。
105、在薄膜与摩擦布的平整表面接触后，再次迅速移动第一基台，分离所述薄膜 与所述摩擦布的平整表面。 在实际加工时，也可以先驱动第一基台沿着基板表面的方向运动，从而使得基板 沿着基板表面的方向运动，以形成基板和摩擦布之间的相对运动；然后当第一基台运动到 摩擦布能够完全覆盖基板上的薄膜的位置时，迅速移动第二基台，使得第二基台上的摩擦 布移动到所述摩擦布的平整表面与所述薄膜接触的状态；并且在薄膜与摩擦布的平整表面 接触后，再次迅速移动第二基台，分离所述摩擦布的平整表面与所述薄膜。
对应于上述取向膜摩擦工艺，本发明实施例还提供一种取向膜摩擦设备，如图2 所示，该设备包括实现固定装置功能的第一基台21、调整装置22、完成动力系统功能的第 一动力装置23和第二动力装置24、以及实现承载装置功能的第二基台25，本实施例提供的 取向膜摩擦设备使用方式如下 在按照摩擦工艺进行加工时，先要将一整张摩擦布1贴附在第二基台25的台面 上，并且贴附后的摩擦布1表面是平整的，得到摩擦布的平整表面，然后通过实现固定装置 功能的第一基台21固定涂敷有薄膜的基板2，并且该第一基台的台面与所述摩擦布的平整 表面平行相对，以保证薄膜与摩擦布的平整表面平行相对。本实施例中第一基台21上可以 设置真空吸附结构，然后通过真空吸附的方式将所述涂敷有薄膜的基板2固定到第一基台 21的台面上。 为了得到沟痕方向不同的取向膜，本实施例中还需要调整所述基板2的侧边与所 述摩擦布1和基板之间相对运动方向的夹角，一般通过调整第一基台21的角度即可实现上 述夹角的调整，本实施例中的调整装置22就是用于调整所述基板的侧边与所述摩擦布运 动方向的夹角，并且调整装置22是通过调整第一基台的角度即可实现上述夹角调整的。具 体实现时，可以将支撑第一基台21的支架设计成可旋转的，所述调整装置22的功能就可以 通过支架的旋转结构来完成。 本实施例中的调整装置22安装在第二运动装置中的连杆243上，并且调整装置通 过一个圆柱杆实现，该圆柱杆与连杆243之间采用轴向连接的方式，具体如图3所示，在实 现调整装置22功能的圆柱杆31上设有一个固定孔32，并在连杆243上设有多个定位孔33， 定位孔32和固定孔33之间采用固定销34连接，通过定位销34穿过连杆243上不同的定 位孔33来改变圆柱杆31的旋转角度，这样就能改变固定在圆柱杆31上的第一基台21的 旋转角度，实现调整基板2的侧边与所述摩擦布1运动方向的夹角。 在做好上述准备工作以后，利用所述的第一动力装置23驱动表面平整的摩擦布 沿着基板表面的方向运动，以形成摩擦布表面与基板之间的相对运动。由于本实施例中的 摩擦布贴附在第二基台25的台面上，所以，所述第一动力装置23可以通过驱动所述第二基 台25运动带动所述摩擦布运动。当第二基台运动到摩擦布能够完全覆盖基板上的薄膜的 位置时，通过第二动力装置24迅速移动第一基台21 ，使得第一基台21上的基板移动到所述 薄膜与所述摩擦布的平整表面接触的状态。在薄膜与摩擦布接触后，再次通过第二动力装 置24迅速移动第一基台，以便分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。
本发明实施例并不限定第一基台和第二基台具体的相对位置，一般而言，其相对 位置包括但不限于如下两种第一基台在上方、第二基台在下方；或者第一基台在下方、第 二基台在上方。
如图2所示本发明实施例中所采用的第一动力装置23具体可以为但不限定于如下实现方式由电机231提供动力源，然后通过丝杠232将电机的圆周运动转化成直线运动，将需要被驱动的第二基台以螺纹方式通过连杆233连接到丝杠232，如此一来，电机231带动丝杠232转动时，丝杠232的转动使得第二基台沿着丝杠122做直线运动，完成上述实施例中第二基台所需要的运动方式。 本发明实施例中所采用的第二动力装置24都可以采用实现直线运动的设备，具体可以为但不限定于如下实现方式由电机241提供动力源，然后通过丝杠242将电机的圆周运动转化成直线运动，将需要被驱动的第一基台以螺纹方式通过连杆243连接到丝杠242，如此一来，电机带动丝杠242转动时，丝杠242的转动使得第一基台沿着丝杠做直线运动，完成上述实施例中第一基台所需要的运动方式。 上述实现方式中均可以通过电机的正转和反转来改变第一基台和第二基台的运动方向。 本发明实施例提供的取向膜摩擦工艺及设备，在进行摩擦时，薄膜与摩擦布之间
采用面接触的方式，可以确保在进行摩擦的瞬间，基板上的薄膜所承受的摩擦的相对运动
方向和速度是相同的；并且上述摩擦布的平整表面能够保证薄膜的摩擦深度是相同的。由
于在本发明实施例提供的摩擦工艺和设备中，进行摩擦的相对运动方向和速度相同，并且
摩擦深度相同，能够较好地保证最后摩擦出的沟痕方向和深度的均匀性。 除了保证取向膜的沟痕方向和深度的均匀性外，本发明实施例提供的取向膜摩擦
工艺及设备相对于现有技术还具有如下效果 第一、由于本发明实施例提供的取向膜摩擦工艺及设备，能够在摩擦布和薄膜的一次接触中完成整个基板上薄膜的摩擦，相对于现有技术中需要摩擦辊运动较长的距离才能完成一次整个基板上薄膜的摩擦而言，本发明实施例具有更高的摩擦效率，从而提高了生产效率。 第二、按照现有技术的摩擦工艺进行取向膜的摩擦时，根据不同的需要调节如下参数摩擦次数、摩擦深度、摩擦辊转速、摩擦辊半径和基板相对于摩擦辊轴心的移动速度；采用本发明提供的取向膜摩擦工艺和设备进行取向膜的摩擦时，需要调节如下参数摩擦次数、摩擦深度、摩擦布的运动速度；故而本发明需要调节的参数相对于现有技术要少，使得摩擦工艺的调节较为简单。 第三、如果采用现有技术中的摩擦辊，在对较大尺寸基板的进行摩擦工艺时，每完
成一次摩擦，摩擦辊上的摩擦布需要与薄膜有多次接触，造成摩擦布损耗较大，而本发明实
施例中的取向膜摩擦工艺和设备，每完成一次摩擦，摩擦布只需与薄膜接触一次，减少了摩
擦布的损耗，这样也可以减少更换摩擦布的次数，进一步减少摩擦工艺的调节时间。 作为一种可变换的实现方式，本发明实施例中取向膜摩擦设备中的动力系统还可
以通过第三动力装置和第四动力装置实现，取代现有的第一动力装置和第二动力装置。
具体的摩擦工艺为在第二基台上贴附表面平整摩擦布；在第一基台上固定涂敷
有用于形成取向膜的薄膜的基板，所述基板与摩擦布表面之间为平行相对的状态；然后通
过调整装置调整所述基板的侧边与摩擦布和基板之间相对运动方向的夹角。在完成这些准
备工作以后，通过第三动力装置驱动所述第一基台使得基板沿基板表面的方向运动；当第
二基台运动到摩擦布能够完全覆盖基板上的薄膜的位置时，通过第四动力装置移动所述第
8二基台使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相接触，在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相接触后，通过第四动力装置移动所述第二基台以分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。其中，第三动力装置可以参考第二动力装置的实现方式，第四动力装置可以参考第一动力装置的实现方式。 显而易见的，为了现实工艺的需要，可以将第一动力装置和第四动力装置都和承载装置相连，将第二动力装置和第三动力装置都和固定装置相连，根据实际需要选择动力装置。
实施例2 : 由于本实施例主要采用了带传动的方式来实现摩擦工艺，为了有助于理解本实施例的技术方案，先简单介绍一下带传动。带传动的系统由至少两个带轮(相当于下述实施例中的转辊)和紧套在带轮上的环形传动带组成，其中一个带轮为主动轮(即动力施加在该带轮上)，位于主动轮运动方向的相反方向的传动带的一边被称为紧边(下述实施例中称为绷紧平整边)，实施例中提到的摩擦布的平整面为绷紧平整边；位于主动轮运动方向的相同方向的传动带的一边被称为松边。 本发明实施例提供一种取向膜摩擦工艺，如图4所示，该工艺包括 401、将一整张摩擦布绕在两个转辊上，，本实施例中转辊的直径可以取为130mm ;
通过第一基台上真空吸附结构将涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板固定到第一基台的
台面上，该第一基台的台面与摩擦布表面平行相对，这样就可以使得所述基板的薄膜与摩
擦布表面处于平行相对的状态。本过程中提到的摩擦布表面是指和基板平行的上下表面。 402、为了得到沟痕方向不同的取向膜，本实施例中还需要调整所述基板的侧边与
摩擦布的平整面与基板的相对运动方向的夹角，一般通过调整第一基台的角度即可实现上
述夹角的调整。 如果在一次摩擦工艺中，所要求的取向膜沟痕方向是与当前第一基台角度相应的，则可以不用调整基板的侧边与所述绷紧平整边摩擦布运动方向的夹角，就可以省去402过程。 本过程中绷紧平整边摩擦布的运动方向为沿着基板表面的方向。 403、并通过驱动其中一个转辊转动以带动所述摩擦布运动，从而使得绷紧平整边
的摩擦布沿着基板表面的方向运动，在转辊转动起来后，摩擦布的绷紧平整边就是一个平
整表面，形成了摩擦布的平整表面。 —般而言，上述绷紧平整边的摩擦布的运动是匀速直线运动，以确保后续摩擦中得到均匀性较好取向膜。在本实施例中通过驱动转辊以iooo转每分钟的速率匀速转动，即可实现绷紧平整边的摩擦布的匀速直线运动。 404、迅速移动第一基台，使得第一基台上的基板移动到所述薄膜与所述绷紧平整边的摩擦布面接触的状态。 405、在薄膜与摩擦布接触后，再次迅速移动第一基台，使得第一基台上的基板移动到所述薄膜与所述绷紧平整边的摩擦布分开的状态。 对应于上述取向膜摩擦工艺，本发明实施例还提供一种取向膜摩擦设备，如图5和图6所示，该设备包括实现固定装置功能的第一基台41、调整装置42、实现动力系统功能的第一动力装置43和第二动力装置44、以及用于完成承载装置功能的两个转辊45，本实
9施例提供的取向膜摩擦设备使用方式如下 在按照摩擦工艺进行加工时，先要将一整张摩擦布3绕在两个转辊45上，然后通过第一基台41上的真空吸附结构在所述第一基台41固定涂敷有薄膜的基板4，并且在预先设定了主动转辊以及转动方向后，可以得知转辊转动起来后摩擦布的绷紧平整边，所以本实施例中基板的薄膜需要与摩擦布3的绷紧平整边的表面平行相对。 为了得到沟痕方向不同的取向膜，本实施例中还需要调整所述基板的侧边与所述摩擦布3运动方向的夹角，一般通过调整第一基台的角度即可实现上述夹角的调整，本实施例中的调整装置42就是用于调整所述基板的侧边与所述摩擦布绷紧平整边和基板相对运动方向的夹角，并且调整装置42是通过调整第一基台的角度即可实现上述夹角调整的。具体实现时，可以采用实施例1中图3所表示的方式实现调整装置42。
在做好上述准备工作以后，利用所述的第一动力装置43驱动表面平整的摩擦布沿着基板表面的方向运动，由于本实施例中的摩擦布绕在两个转辊45上，所以，所述第一动力装置43还可以通过驱动其中一个转辊转动以带动所述摩擦布运动，从而使得绷紧平整边的摩擦布沿着基板表面的方向运动。所述第二动力装置44用于迅速移动第一基台，使得第一基台上的基板移动到所述薄膜与所述绷紧平整边的摩擦布表面接触的状态。在薄膜与摩擦布接触后，再次通过第二动力装置44迅速移动第一基台，使得第一基台上的基板移动到所述薄膜与所述绷紧平整边的摩擦布表面分开的状态。 本发明实施例并不限定第一基台和绷紧平整边摩擦布具体的相对位置，一般而言，其相对位置包括但不限于如下两种第一基台在上方、绷紧平整边摩擦布在下方；或者第一基台在下方、绷紧平整边摩擦布在上方。 为了使得与取向膜相对的绷紧平整边的摩擦布表面更加平整，本实施例取向膜摩擦设备还包括抵触板46，如图5所示，该抵触板46设置在在所述摩擦布的绷紧平整边和松边之间，并且该抵触板46与所述摩擦布的绷紧平整边相抵触。这个抵触板46可以只是与绷紧平整边相抵触，也可以同时与绷紧平整边和松边都相抵触。 为了使得与取向膜相对的绷紧平整边的摩擦布表面更加平整，本实施例还可以采
用另外的实现方式，如图7所示，在所述摩擦布的绷紧平整边和松边之间还设置有至少一
个转辊47，通过这些转辊47来撑起绷紧平整边的摩擦布，使其更加平整。 本实施例中的第一动力装置43的可以采用但不限于如下实现方式通过电机转
动直接带动转辊45的转动，转辊45的转动可以直接形成摩擦布局部的直线运动。 本实施例中的第二动力装置44的可以采用但不限于如下实现方式由电机441提
供动力源，然后通过丝杠442将电机441的圆周运动转化成直线运动，将需要被驱动的第一
基台以螺纹方式通过连杆443连接到丝杠，如此一来，电机带动丝杠转动时，丝杠的转动使
得第一基台沿着丝杠做直线运动，完成本实施例中第一基台运动方式。 本发明实施例提供的取向膜摩擦工艺及设备，在进行摩擦时，薄膜与摩擦布之间
采用面接触的方式，可以确保在进行摩擦的瞬间，基板上的薄膜所承受的摩擦的相对运动
方向和速度是相同的；并且上述摩擦布的平整表面能够保证薄膜的摩擦深度是相同的，这
样能够较好地保证最后摩擦出的沟痕方向和深度的均匀性。 除了保证取向膜的沟痕方向和深度的均匀性外，本发明实施例提供的取向膜摩擦工艺及设备相对于现有技术还具有如下效果
第一、由于本发明实施例提供的取向膜摩擦工艺及设备，在摩擦布和薄膜的一次接触中完成整个基板上薄膜的摩擦，相对于现有技术中需要摩擦辊运动较长的距离才能完成一次整个基板上薄膜的摩擦而言，本发明实施例具有更高的摩擦效率，从而提高了生产效率。 第二、按照现有技术的摩擦工艺进行取向膜的摩擦时，根据不同的需要调节如下参数摩擦次数、摩擦深度、摩擦辊转速、摩擦辊半径和基板相对于摩擦辊轴心的移动速度；采用本发明提供的取向膜摩擦工艺和设备进行取向膜的摩擦时，需要调节如下参数摩擦次数、摩擦深度、摩擦布的运动速度(即转辊的转动速率)；故而本发明需要调节的参数相对于现有技术要少，使得摩擦工艺的调节较为简单。 第三、如果采用现有技术中的摩擦辊，在对较大尺寸基板的进行摩擦工艺时，每完
成一次摩擦，摩擦辊上的摩擦布需要与薄膜有多次接触，造成摩擦布损耗较大，而本发明实
施例中的取向膜摩擦工艺和设备，每完成一次摩擦，摩擦布只需与薄膜接触一次，减少了摩
擦布的损耗，这样也可以减少更换摩擦布的次数，进一步减少摩擦工艺的调节时间。 本发明实施例主要用于在液晶显示器件加工过程中，对薄膜进行摩擦得到取向膜
的工艺中，例如在彩色滤光片基板和TFT阵列基板形成取向膜的工艺。 以上所述，仅为本发明的具体实施方式
，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
权利要求
一种取向膜摩擦工艺，其特征在于，包括在固定装置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承载装置上承载摩擦布，所述基板与摩擦布表面之间为平行相对的状态；该工艺还包括(1)在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运动；(2)在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触；(3)分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。
2. 根据权利要求1所述的取向膜摩擦工艺，其特征在于，在(2)之前，该工艺还包括 调整所述基板的侧边与所述相对运动方向的夹角。
3. 根据权利要求l所述的取向膜摩擦工艺，其特征在于，所述(1)为驱动所述承载装置使得摩擦布沿基板表面的方向运动；所述(2)为移动所述固定装置使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相接触；所述(3)为移动所述固定装置使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相分离；或者所述(1)为驱动所述固定装置使得基板沿基板表面的方向运动；所述(2)为移动所述承载装置使得所述摩擦布的平整表面与所述薄膜相接触；所述(3)为移动所述承载装置使得所述摩擦布的平整表面与所述薄膜相分离。
4. 根据权利要求1所述的取向膜摩擦工艺，其特征在于，所述在固定装置上固定涂敷 有用于形成取向膜的薄膜的基板为在设有真空吸附结构的第一基台上固定涂敷有用于形 成取向膜的薄膜的基板。
5. 根据权利要求1所述的取向膜摩擦工艺，其特征在于，在承载装置上承载摩擦布为 在第二基台的台面上贴附表面平整的摩擦布。
6. 根据权利要求1所述的取向膜摩擦工艺，其特征在于，在承载装置上承载摩擦布为 在两个转辊上缠绕摩擦布；所述(1)为驱动其中一个转辊转动带动所述摩擦布运动使得 摩擦布形成绷紧平整边和松边，所述摩擦布的平整表面为所述绷紧平整边。
7. 根据权利要求6所述的取向膜摩擦工艺，其特征在于，该工艺还包括在所述绷紧平 整边和松边之间设置抵触板，并且所述抵触板抵触到所述绷紧平整边。
8. 根据权利要求6所述的取向膜摩擦工艺，其特征在于，该工艺还包括在所述绷紧平 整边和松边之间还设置至少一个转辊，并且所述至少一个转辊抵触到所述绷紧平整边和松 边。
9. 一种取向膜摩擦设备，其特征在于，包括 承载装置，用于承载摩擦布；固定装置，用于固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，所述基板与摩擦布表面之 间为平行相对的状态；动力系统，用于在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运动；该 动力系统还用于在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触，并分离所述薄膜与 所述摩擦布的平整表面。
10. 根据权利要求9所述的取向膜摩擦设备，其特征在于，该设备还包括 调整装置，用于调整所述基板的侧边与所述相对运动方向的夹角。
11. 根据权利要求9所述的取向膜摩擦设备，其特征在于，所述动力系统包括第一动力装置，用于驱动所述承载装置使得摩擦布沿基板表面的方向运动；第二动力 装置，用于移动所述固定装置使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相接触；该第二动力 装置还用于移动所述固定装置使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相分离；或者 第三动力装置，用于驱动所述固定装置使得基板沿基板表面的方向运动； 第四动力装置，用于移动所述承载装置使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相接 触；该第四动力装置还用于移动所述承载装置使得所述薄膜与所述摩擦布的平整表面相分 离。
12. 根据权利要求9所述的取向膜摩擦设备，其特征在于，所述固定装置为设有真空吸 附结构的第一基台。
13. 根据权利要求9所述的取向膜摩擦设备，其特征在于，所述承载装置为第二基台， 所述摩擦布贴附在第二基台的台面上形成摩擦布的平整表面。
14. 根据权利要求11所述的取向膜摩擦设备，其特征在于，所述承载装置包括两个转 辊，所述摩擦布缠绕在所述两个转辊上，所述第一动力装置通过驱动其中一个转辊转动带 动所述摩擦布运动使得摩擦布形成绷紧平整边和松边，所述摩擦布的平整表面为所述绷紧 平整边。
15. 根据权利要求14所述的取向膜摩擦设备，其特征在于，所述绷紧平整边和松边之 间还设置有抵触板，并且所述抵触板抵触到所述绷紧平整边。
16. 根据权利要求14所述的取向膜摩擦设备，其特征在于，所述绷紧平整边和松边之 间还设置有至少一个转辊，并且所述至少一个转辊抵触到所述绷紧平整边和松边。
全文摘要
本发明公开了一种取向膜摩擦工艺及设备，涉及液晶显示器件的加工工艺和设备，解决了现有取向膜摩擦工艺中会出现取向膜沟痕不均匀、生产效率低的情况。本发明实施例包括在固定装置上固定涂敷有用于形成取向膜的薄膜的基板，在承载装置上承载摩擦布，所述基板与摩擦布表面之间为平行相对的状态；然后在所述摩擦布与所述基板之间形成沿基板表面的方向的相对运动；并且在所述薄膜与所述摩擦布的平整表面之间形成面接触；最后分离所述薄膜与所述摩擦布的平整表面。本发明实例主要用于液晶显示器件加工过程中，对薄膜进行摩擦得到取向膜的工艺中，例如在彩色滤光片基板和TFT阵列基板形成取向膜的工艺。
文档编号G02F1/1337GK101770115SQ20081024754
公开日2010年7月7日 申请日期2008年12月30日 优先权日2008年12月30日
发明者车春城 申请人:北京京东方光电科技有限公司