专利名称：全自动双面曝光机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种曝光机，尤其涉及一种全自动双面曝光机。
背景技术：
现有的全自动双面曝光机，通常是将各作业流程设计于同一平面及同一轴线进 行，而基本的作业流程就有入料一第一面曝光一翻板一第二面曝光一出料等流程；故全自 动双面曝光机仅装设基本流程的作业装置，就已经有相当程度的机台长度，若要进一步加 装提升曝光品质的额外装置(诸如清洁装置)，则必须加长机台长度，不然就是受限于机台 长度而舍弃安装。然而，全自动双面曝光机所需的曝光光束，通常可由双光源或是单光源搭 配光路切换模组予以提供；而如图1所示的单光源曝光模组IO，是将单一光源11的光束于 镜碗12中集光后，向上投射至一可切换偏转向的冷光镜13，反射后经由第一聚焦镜14a照 射于第一平面反射镜15a，再反射至第一曲面反射镜16a，而反射成平行光束照射于第一曝 光区；再者，将该冷光镜13切换偏转向，则可经第二聚焦镜14b、第二平面反射镜15b与第 二曲面反射镜16b，而由第二光路照射于第二曝光区。 次按，若将上述的单光源曝光模组10应用于现有的全自动双面曝光机，现有的设 计方式是将单一光源11及其镜碗12设置于曝光机台的后侧，避开曝光机各作业装置的设 置轴线，以压低单光源曝光模组10的设置高度，以免曝光机台的整体高度过高。但如此一 来，最终所形成的平行光束照射面相对于曝光区并未完全重合(具有偏斜角度)，故必须加 大平行光束的照射面积才能照射到整个曝光区，但加大照射面积势必会降低照射强度，亦 即必须增长曝光时间而降低产速。
实用新型内容本实用新型所要解决的主要技术问题在于，克服现有技术存在的上述缺陷，而提
供一种全自动双面曝光机，具有不增加机台长度即可加装品质提升装置的功效，和具有平
行光束照射面与曝光区完全重合的功效。 本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是 —种全自动双面曝光机，其特征在于，包括一机台，于同一轴线上至少设置有入
料区、第一面曝光区、下降翻板区、上升供板区、第二面曝光区与出料区；一入料移载装置，
跨设于该机台的入料区、第一面曝光区与下降翻板区的上方，而将板件由入料区移载至第
一面曝光区，再由第一面曝光区移载至下降翻板区；第一曝光装置，设置于该机台的第一面
曝光区，而以搭配有升降机构的第一顶升平台，承接该入料移载装置自入料区移载过来的
板件，再由该第一顶升平台将板件顶升贴靠于第一曝光平台的下缘；一下降翻板装置，设置
于该机台的下降翻板区，而以一搭配有升降机构及翻转机构的吸板平台，吸着住该入料移
载装置自第一面曝光区移载过来的板件，并下降且将板件翻面，而由第一输送平台承接板
件；一上升供板装置，设置于该机台的上升供板区，而以搭配有升降机构的第二输送平台，
承接自第一输送平台输送过来的板件且上升供板；一出料移载装置，跨设于该机台的上升供板区、第二面曝光区与出料区的上方，而将由该上升供板装置供板的板件移载至第二面 曝光区，再由第二面曝光区移载至与出料区；第二曝光装置，设置于该机台的第二面曝光 区，而以搭配有升降机构的第二顶升平台，承接该出料移载装置自上升供板区移载过来的 板件，再由该第二顶升平台将板件顶升贴靠于第二曝光平台的下缘；一单光源曝光模组，设 置于该机台的上方且与各工作区位于同一轴线上，而将单一光源的光束于镜碗中集光后， 向上投射至一可切换偏转向的冷光镜，反射后经由第一或第二聚焦镜照射于第一或第二平 面反射镜，再反射至第一或第二曲面反射镜，而反射成平行光束照射于第一或第二曝光平
台o 前述的全自动双面曝光机，其中机台于下降翻板区与上升供板区间进一步设置有 清洁区，而将一清洁装置设置于该清洁区，该清洁装置乃对自第一输送平台输送至第二输 送平台的板件，进行板件表面的清洁工作。 前述的全自动双面曝光机，其中单光源曝光模组的冷光镜，以伺服马达切换其偏 转向。 本实用新型的有益效果是，具有不增加机台长度即可加装品质提升装置的功效， 和具有平行光束照射面与曝光区完全重合的功效。
[0010]
以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。图1是本实用新型的结构主视图。图2是本实用新型的结构右侧视图。图中标号说明10单光源曝光模组11单一光源12镜碗13冷光镜131伺服马达14a第一聚焦镜14b第二聚焦镜15a第一平面反射镜15b第二平面反射镜16a第一曲面反射镜16b第二曲面反射镜20机台20a入料区20b第一面曝光区20c下降翻板区20d上升供板区20e第二面曝光区20f出料区[0032]20g清洁区[0033]30入料移载装置40第一曝光装置41第一顶升平台42第一曝光平台50下降翻板装置51升降机构52反转机构53吸板平台54第一输送平台60上升供板装置61升降机构62第二输送平台70出料移载装置80第二曝光装置81第二顶升平台82第二曝光平台90清洁装置
具体实施方式首先，请参阅图1 、图2所示，本实用新型包括 —机台20，于同一轴线上至少设置有入料区20a、第一面曝光区20b、下降翻板区 20c、上升供板区20d、第二面曝光区20e与出料区20f ; —入料移载装置30，跨设于该机台20的入料区20a、第一面曝光区20b与下降翻 板区20c的上方，而将板件由入料区20a移载至第一面曝光区20b，再由第一面曝光区20b 移载至下降翻板区20c ; 第一曝光装置40，设置于该机台20的第一面曝光区20b，而以搭配有升降机构 (图中未示)的第一顶升平台41，承接该入料移载装置30自入料区20a移载过来的板件， 再由该第一顶升平台41将板件顶升贴靠于第一曝光平台42的下缘，进行板件第一面的曝 光工作； —下降翻板装置50，设置于该机台20的下降翻板区20c，而以一搭配有升降机构 51及翻转机构52的吸板平台53，吸着住该入料移载装置30自第一面曝光区20b移载过来 的板件，并下降且将板件翻转，而由第一输送平台54承接板件； —上升供板装置60，设置于该机台20的上升供板区20d，而以搭配有升降机构61 的第二输送平台62，承接自第一输送平台54输送过来的板件且上升供板； —出料移载装置70，跨设于该机台20的上升供板区20d、第二面曝光区20e与出 料区20f的上方，而将由该上升供板装置60供板的板件移载至第二面曝光区20e，再由第二 面曝光区20e移载至与出料区20f ; 第二曝光装置80，设置于该机台20的第二面曝光区20e，而以搭配有升降机构
5(图中未示)的第二顶升平台81，承接该出料移载装置70自上升供板区20d移载过来的板 件，再由该第二顶升平台81将板件顶升贴靠于第二曝光平台82的下缘，进行板件第二面的 曝光工作； —单光源曝光模组IO，设置于该机台20的上方且与各工作区位于同一轴线上，而 将单一光源11的光束于镜碗12中集光后，向上投射至一可切换偏转向的冷光镜13，反射后 经由第一或第二聚焦镜14a、14b照射于第一或第二平面反射镜15a、15b，再反射至第一或 第二曲面反射镜16a、16b，而反射成平行光束照射于第一或第二曝光平台42、82。 此外，该机台20于下降翻板区20c与上升供板区20d间进一步设置有清洁区20g， 而将一清洁装置90设置于该清洁区20g，该清洁装置90乃对自第一输送平台54输送至第 二输送平台62的板件，进行板件表面的清洁工作；又，该单光源曝光模组10的冷光镜13， 以伺服马达131切换其偏转向。 基于如上构成，本实用新型将板件的翻板工作下潜至机台内部进行，将现有技术 把各种作业装置设置于同一平面的设计，改变成立体化设置的设计，节省下来的机台长度， 则可用以加装提升曝光品质的额外装置(诸如清洁装置)，而具有不增加机台长度即可加 装品质提升装置的功效；另，由于各种作业装置立体化设置的设计，遂可腾出空间，让该单 光源曝光模组10的单一光源11及其镜碗12，与各种作业装置设置于同一轴线，致使所形成 的照射面不会相对于曝光区有所偏斜，则具有平行光束照射面与曝光区完全重合的功效。 以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上 的限制，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与 修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。 综上所述，本实用新型在结构设计、使用实用性及成本效益上，完全符合产业发展 所需，且所揭示的结构亦是具有前所未有的创新构造，具有新颖性、创造性、实用性，符合有 关新型专利要件的规定，故依法提起申请。
权利要求一种全自动双面曝光机，其特征在于，包括一机台，于同一轴线上至少设置有入料区、第一面曝光区、下降翻板区、上升供板区、第二面曝光区与出料区；一入料移载装置，跨设于该机台的入料区、第一面曝光区与下降翻板区的上方，而将板件由入料区移载至第一面曝光区，再由第一面曝光区移载至下降翻板区；第一曝光装置，设置于该机台的第一面曝光区，而以搭配有升降机构的第一顶升平台，承接该入料移载装置自入料区移载过来的板件，再由该第一顶升平台将板件顶升贴靠于第一曝光平台的下缘；一下降翻板装置，设置于该机台的下降翻板区，而以一搭配有升降机构及翻转机构的吸板平台，吸着住该入料移载装置自第一面曝光区移载过来的板件，并下降且将板件翻面，而由第一输送平台承接板件；一上升供板装置，设置于该机台的上升供板区，而以搭配有升降机构的第二输送平台，承接自第一输送平台输送过来的板件且上升供板；一出料移载装置，跨设于该机台的上升供板区、第二面曝光区与出料区的上方，而将由该上升供板装置供板的板件移载至第二面曝光区，再由第二面曝光区移载至与出料区；第二曝光装置，设置于该机台的第二面曝光区，而以搭配有升降机构的第二顶升平台，承接该出料移载装置自上升供板区移载过来的板件，再由该第二顶升平台将板件顶升贴靠于第二曝光平台的下缘；一单光源曝光模组，设置于该机台的上方且与各工作区位于同一轴线上，而将单一光源的光束于镜碗中集光后，向上投射至一可切换偏转向的冷光镜，反射后经由第一或第二聚焦镜照射于第一或第二平面反射镜，再反射至第一或第二曲面反射镜，而反射成平行光束照射于第一或第二曝光平台。
2. 根据权利要求1所述的全自动双面曝光机，其特征在于所述机台于下降翻板区与 上升供板区间进一步设置有清洁区，而将一清洁装置设置于该清洁区，该清洁装置乃对自 第一输送平台输送至第二输送平台的板件，进行板件表面的清洁工作。
3. 根据权利要求1或2所述的全自动双面曝光机，其特征在于所述单光源曝光模组 的冷光镜，以伺服马达切换其偏转向。
专利摘要一种全自动双面曝光机，包括机台，于同一轴线上至少设置有入料区、第一面曝光区、下降翻板区、上升供板区、第二面曝光区与出料区；入料移载装置跨设于机台的入料区、第一面曝光区与下降翻板区的上方；第一曝光装置设置于机台的第一面曝光区，而以搭配有升降机构的第一顶升平台；一下降翻板装置设置于机台的下降翻板区；上升供板装置设置于机台的上升供板区；出料移载装置跨设于机台的上升供板区、第二面曝光区与出料区的上方；第二曝光装置设置于机台的第二面曝光区，而以搭配有升降机构的第二顶升平台；单光源曝光模组设置于机台的上方且与各工作区位于同一轴线上。本实用新型具有不增加机台长度即可加装品质提升装置的功效。
文档编号G03F7/20GK201532523SQ20092021623
公开日2010年7月21日 申请日期2009年9月18日 优先权日2009年9月18日
发明者张鸿明 申请人:川宝科技股份有限公司