专利名称：光刻胶组合物和使用其制造显示基板的方法
技术领域：
本申请涉及光刻胶组合物和使用该光刻胶组合物制造显示基板的方法。更具体而 言，本申请涉及可用于显示装置的光刻胶组合物、以及使用该光刻胶组合物制造显示基板 的方法。
背景技术：
通常，液晶显示器(“IXD”)面板包括显示基板、面对显示基板的对向基板以及置 于显示基板与对向基板之间的液晶层。显示基板包括顺序形成于基础基板之上的栅极图 案、半导体图案、源极图案和像素电极。栅极图案、半导体图案、源极图案和像素电极可通过 用光刻法将薄膜层图案化而形成。经由常规方法通过使用两个掩模图案化的两个不同的层也可通过使用单个掩模 图案化。例如，在依次顺序形成的第一薄膜层和第二薄膜层上形成具有不同厚度的光刻胶 图案。此后，通过使用光刻胶图案作为掩模进行蚀刻而将第一和第二薄膜层图案化。在将 第一薄膜层图案化之后，除去光刻胶图案的一部分以形成剩余图案，并且使用该剩余图案 作为掩模将第二薄膜层图案化。这样，可减少所需掩模的数量，由此降低与使用多重掩模的 花费有关的成本。然而，当使用剩余图案作为掩模将第二薄膜层图案化时，该剩余图案可被用于将 第二薄膜层图案化的蚀刻剂损坏，或者可经历回流并由此经历分辨率的损失或图案坍塌。 结果，当与第一薄膜层相比时，第二薄膜层可被更高度地蚀刻，使得第一薄膜层具有突出穿 过第二薄膜层的形状。当第二薄膜层为源极金属层且第一薄膜层为硅层时，基本上用作电 极或信号线的第二薄膜层可具有比第一薄膜层小的尺寸。因而，显示基板中开口的尺寸的 比例可降低。因此，光刻胶图案需要具有高的耐热性以形成精细的光刻胶图案。此外，要求在低 温下或通过化学物质在光刻胶图案表面不产生裂纹，并且光刻胶图案通过剥离剂容易地除 去。然而，当光刻胶图案的耐热性提高时，光刻胶图案不可通过剥离剂容易地除去。此外， 当降低制造(加工)温度以容易地除去光刻胶图案时，可产生裂纹。因而，对开发能够解决 那些问题的光刻胶组合物有越来越多的需要。
发明内容
在一个实施方式中，提供能够改善光刻胶图案的可靠性的光刻胶组合物。在另一实施方式中，提供使用上述光刻胶组合物制造显示基板的方法。根据示例性实施方式的光刻胶组合物包含碱溶性树脂、包括醌重氮化物(quinone diazide)化合物的溶解抑制剂、包括由下列化学式1表示的羟基苯(benzenol)化合物的第 一添加剂、包括由下列化学式2表示的丙烯酸类共聚物的第二添加剂、以及有机溶剂。化学式1
化学式权利要求
1.光刻胶组合物，包含 碱溶性树脂；溶解抑制剂，包括醌重氮化物化合物；第一添加剂，包括由下列化学式1表示的羟基苯化合物；第二添加剂，包括由下列化学式2表示的丙烯酸类共聚物；和有机溶剂，化学式1
2.权利要求1的光刻胶组合物，其中所述碱溶性树脂包括分级酚醛清漆树脂。
3.权利要求2的光刻胶组合物，其中所述分级酚醛清漆树脂的玻璃化转变温度为 120 150 。
4.权利要求2的光刻胶组合物，其中所述分级酚醛清漆树脂的重均分子量为20，000 30，000g/mol。
5.权利要求1的光刻胶组合物，其中所述溶解抑制剂包括通过具有至少一个羟基的酚 化合物和醌重氮磺酰卤化合物的反应制备的磺酸酯化合物。
6.权利要求1的光刻胶组合物，其中所述第二添加剂的重均分子量为5，000 10，000g/mol。
7.权利要求1的光刻胶组合物，其中所述第二添加剂是通过使不饱和羧酸与选自以下 的至少一种共聚而制备的(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、 (甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸2-甲 氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三甘醇酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯 酸乙基卡必醇酯、和苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯。
8.权利要求1的光刻胶组合物，其中所述碱溶性树脂包括由包含重量比为60 40的间甲酚和对甲酚的酚混合物制备的第一分级酚醛清漆树 脂；和由包含重量比为50 50的间甲酚和对甲酚的酚混合物制备的第二分级酚醛清漆树脂。
9.权利要求1的光刻胶组合物，包含10重量％ 25重量％的所述碱溶性树脂、1重 量％ 10重量％的所述溶解抑制剂、0. 1重量％ 10重量％的所述第一添加剂、0. 1重 量％ 10重量％的所述第二添加剂和余量的所述有机溶剂。
10.制造显示基板的方法，该方法包括在基础基板的表面上形成栅极图案，所述栅极图案包括栅极线和栅电极；在具有所述栅极图案的所述基础基板上顺序形成栅绝缘层、半导体层、欧姆接触层和 源极金属层以形成多层堆；在具有所述源极金属层的所述基础基板上涂覆权利要求1-9任一项的光刻胶组合物 以形成光刻胶图案；将具有所述光刻胶图案作为掩模的所述源极金属层图案化以形成源极图案和有源图 案，所述源极图案包括数据线、源电极和漏电极，所述有源图案形成于所述源电极和漏电极 与所述基础基板之间；和在具有所述源极图案和所述有源图案的基础基板上形成与所述漏电极电连接的像素 电极。
全文摘要
本发明涉及光刻胶组合物和使用其制造显示基板的方法。所述光刻胶组合物包含碱溶性树脂、包括醌重氮化物化合物的溶解抑制剂、包括由下列化学式1表示的羟基苯化合物的第一添加剂、包括由下列化学式2表示的丙烯酸类共聚物的第二添加剂以及有机溶剂。因此，可改善光刻胶图案的耐热性，并且可容易地剥离所述光刻胶图案。结果，可减少和/或防止所述光刻胶图案中的裂纹形成。化学式1化学式文档编号G03F7/022GK102096319SQ201010524619
公开日2011年6月15日 申请日期2010年10月26日 优先权日2009年10月27日
发明者刘仁浩, 张元荣, 朴廷敏, 李政洙, 李殷相, 金晟贤 申请人:三星电子株式会社, 东友Fine-Chem股份有限公司