专利名称：曝光装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及曝光领域，尤其涉及曝光装置。
背景技术：
曝光是光刻工艺中重要的步骤，曝光的过程包括以下步骤1. Glass change (基板交换)过程，即在一次曝光结束后，下一张基板开始曝光 前，将基台移动到起始位置，Lift Pin把已经曝光的基板顶起，机械手取走已经曝光的基 板，然后把下一张待曝光基板放置在基台上，Lift pin落下，本步骤时间通常在8S，占全过 程总时间的12. 5%左右；2.对位过程，即在基板交换完成后，为了曝光的精确性，会进行基台与掩模板的位 置确认，以保证曝光的置的准确性，本步骤通常在6S，占全过程总时间的9. 4%。3.曝光过程，即通过基台与掩模板的相对位置移动，使基板上感光材料感光的过 程，本步骤在50S，占全过程总时间的78%左右。从以上步骤可以看出，由于曝光过程比较复杂，要完成一次曝光，需要的时间较长。目前，可以通过提高曝光灯的照度、更改产品CD设计等方法、节约对位步骤等措 施来提高曝光的速度，进而提高曝光设备的产能。但是，一系列措施后，曝光速度的提高都 非常有限，产能只提高了 _3%，曝光设备的产能的提高也非常有限。
实用新型内容本实用新型的实施例提供一种曝光装置，能够提高曝光工艺流程的速度。为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案一种曝光装置，包括两个基台和基台位置互换机构，所述基台位置互换机构用于 互换两个基台的位置。本实用新型实施例提供的曝光装置，设置两个基台，在曝光工艺过程中一个基台 用来进行曝光操作，一个基台用来对位操作。在对一个基板进行曝光操作的同时，对下一个 待曝光基板进行对位操作，在对一个基板曝光完毕后，直接对已经做好对位操作的待曝光 基板进行曝光操作，省去了进行下一个待曝光基板对位操作的时间，于是能够提高曝光工 艺流程的速度。
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例 或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅 是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前 提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本实用新型曝光装置中的两个基台和基台位置互换机构的结构图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行 清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的 实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下 所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。本实用新型实施例提供了一种曝光装置，包括两个基台和基台位置互换机构，所 述基台位置互换机构用于互换两个基台的位置。本实施例提供的曝光装置，设置两个基台，在曝光工艺过程中一个基台用来进行 曝光操作，一个基台用来对位操作。在对一个基板进行曝光操作的同时，对下一个待曝光基 板进行对位操作，在对一个基板曝光完毕后，直接对已经做好对位操作的待曝光基板进行 曝光操作，省去了进行下一个待曝光基板对位操作的时间，于是，能够提高曝光工艺流程的 速度。作为本实施例的一种改进，本实用新型实施例提供了另一种曝光装置，如图1所 示，包括基台1、基台2和用于互换两个基台位置的基台位置互换机构。其中，基台位置互换机构包括基台支撑体3和控制基台支撑体3升降的升降机构 4。在曝光工艺过程中，具体实施过程为在基台1完成基板曝光后，升降机构4上升，升降机构4在上升的过程中推动支撑 体3上升，基台支撑体3上升至与基台1和基台2相接触，支撑体3继续上升一段距离，至 支撑起基台1和基台2。在基台1和基台2被支撑体3支撑起来后，支撑体3水平旋转180 度，使基台1和基台2互换位置。在基台1和基台2互换位置后，升降机构4开始下降，升降机构4下降到基台1和 基台2的支撑结构上，升降机构4继续下降一段距离，直至支撑体3与基台1和基台2分离。曝光装置对基台2上的基板进行曝光。在曝光装置对基台2上的基板进行曝光的 同时，机械手将基台1上已经完成曝光操作的基板取走，将下一张待曝光的基板放置在基 台1上，进行对位操作，即进行基台1与掩模板的位置确认过程。在基台2完成基板曝光后，升降机构4上升，升降机构4在上升的过程中推动支撑 体3上升，基台支撑体3上升至与基台1和基台2相接触，支撑体3继续上升一段距离，至 支撑起基台1和基台2。在基台1和基台2被支撑体3支撑起来后，支撑体3水平旋转180 度，使基台1和基台2互换位置。在基台1和基台2互换位置后，升降机构4开始下降，升降机构4下降到基台1和 基台2的支撑结构上，升降机构4继续下降一段距离，直至支撑体3与基台1和基台2分离。曝光装置对基台1上的基板进行曝光。在曝光装置对基台1上的基板进行曝光的 同时，机械手将基台2上已经完成曝光操作的基板取走，将下一张待曝光的基板放置在基 台2上，进行对位操作，即进行基台2与掩模板的位置确认过程。循环执行上述步骤。本实施例提供的曝光装置，设置两个基台，在曝光工艺过程中一个基台用来进行 曝光操作，一个基台用来对位操作。在对一个基板进行曝光操作的同时，对下一个待曝光基板进行对位操作，在对一个基板曝光完毕后，直接对已经做好对位操作的待曝光基板进行 曝光操作，省去了进行下一个待曝光基板对位操作的时间，于是，能够提高曝光工艺流程的 速度。作为本实施例的另一种改进，如图1所示，曝光装置还包括用于分别支撑基台1和 基台2的两个平行设置的第一导轨5和第一导轨6，和用于支撑平行设置的第一导轨5和第 一导轨6的平行设置的第二导轨7和第二导轨8，第一导轨5和第一导轨6垂直设置在第二 导轨7和第二导轨8上。第一导轨可以用于基台1和基台2的对位操作，第二导轨可以辅助基台1和基台 2完成扫描曝光。作为本实施例的另一种改进，基台支撑体3的旋转由线性马达9驱动。使用线性马达驱动支撑体3的旋转，可以较精确的控制支撑体3旋转的角度。为 保证支撑体3的旋转精度，在曝光装置的日常维护工作中，需要对线性马达180度旋转精度 进行确认。作为本实施例的另一种改进，升降机构4可以为气缸，也可以为液压结构，即液压 升降机构，或者也可以为机械升降结构。作为本实施例的另一种改进，在升降机构4控制基台支撑体3上升至支撑起基台 1和基台2的过程中，基台支撑体3上升至与基台1和基台2相接触后，还可以包括下面的 步骤升降机构4控制基台支撑体3与基台1和基台2咬合固锁，在支撑体3与基台1和基 台2咬合固锁后，升降机构4继续控制基台支撑体3上升至支撑起基台1和基台2。作为本实施例的另一种改进，支撑体通过卡扣与所述基台咬合固锁。作为本实施例的另一种改进，基台位置互换机构设置在平行设置的第二导轨7和 第二导轨8之间，并与基台1和基台2距离相等的位置上。将基台位置互换机构设置在第二导轨7和第二导轨8之间，并与基台1和基台2 距离相等的位置，在互换基台1和基台2的位置的过程中，支撑体3对基台1和基台2的支 撑力较均衡，使互换基台1和基台2的位置更准确，更容易将基台1和基台2互换到对方的 位置上。作为本实施例的另一种改进，第一导轨5、第一导轨6、第二导轨7、第二导轨8可以 为气悬浮导轨。升降机构4控制基台支撑体3上升至支撑起基台1和基台2的过程可以为升降 机构4控制所述基台支撑体3支撑基台1和基台2上升至离开第一导轨5和第二导轨6所 在的屏幕3-8厘米的位置。现有技术中，曝光工艺包括以下步骤步骤l.Glass change过程，即在一次曝光结束后，下一张基板开始曝光前，将基台 移动到起始位置，Lift Pin把已经曝光的基板顶起，机械手取走已经曝光的基板，然后把下 一张待曝光基板放置在基台上，Lift pin落下，本步骤时间通常在8S，占全过程总时间的 12. 5%左右；步骤2.对位过程，即在基板交换完成后，为了曝光的精确性，会进行基台与掩模 板的位置确认，以保证曝光的置的准确性，本步骤通常在6S，占全过程总时间的9. 4%。步骤3.曝光过程，即通过基台与掩模板的相对位置移动，使基板上感光材料感光的过程，本步骤大约50S，占全过程总时间的78%左右。采用本实用新型提供的曝光装置，在曝光工艺过程中，在一个基台执行步骤3的 同时，另外一个基台执行步骤1和步骤2。执行步骤3大约需要50S，执行步骤1和步骤2需要8S+6S = 14S，由于采用本实 用新型所述曝光装置步骤3同步骤1和步骤2同时执行，则相当于省去了步骤1和步骤2 的执行时间，整个曝光过程所需时间为50S。而现有技术中，整个曝光过程所需时间为50S+8S+6S = 64S。通过计算可知采用本实用新型所述曝光装置完成一块基板的曝光过程所需要的 时间，与现有技术中完成一块基板的曝光过程所需要的时间相比较，采用本实用新型所述 曝光装置完成一块基板的曝光过程节约大约22%的时间。以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式
，但本实用新型的保护范围并不局限 于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化 或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权 利要求的保护范围为准。
权利要求1.一种曝光装置，其特征在于，包括两个基台和基台位置互换机构，所述基台位置互换 机构用于互换两个基台的位置。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基台位置互换机构包括基台支 撑体和控制基台支撑体升降的升降机构，所述升降机构控制所述基台支撑体上升至支撑起 两个基台，并旋转180度，使两个基台互换位置，所述升降机构控制所述基台支撑体下降至 脱离两个基台。
3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括用于分别支撑 所述两个基台的两个平行设置的第一导轨和用于支撑所述两个平行设置的第一导轨的平 行设置的两个第二导轨，所述第一导轨垂直设置在所述第二导轨上。
4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述基台支撑体的旋转由线性马达 驱动。
5.根据权利要求2至4任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述升降机构为气缸或者 为液压结构，或者为机械升降结构。
6.根据权利要求2至4任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述升降机构控制所述基 台支撑体上升至支撑起两个基台为所述升降机构控制所述基台支撑体上升至与所述基台 咬合固锁，并继续控制所述基台支撑体上升至支撑起两个基台。
7.根据权利要求3至4任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述基台位置互换机构设 置在所述平行设置的两个第二导轨之间，并与两个基台距离相等的位置上。
8.根据权利要求3至4任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述第一导轨、第二导轨 为气悬浮导轨。
9.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述支撑体通过卡扣与所述基台咬 合固锁。
10.根据权利要求2至4任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述升降机构控制所 述基台支撑体上升至支撑起两个基台为升降机构控制所述基台支撑体支撑两个基台上升 3-8厘米。
专利摘要本实用新型公开了一种曝光装置，涉及曝光领域，能够提高曝光工艺流程的速度。一种曝光装置，包括两个基台和基台位置互换机构，所述基台位置互换机构用于互换两个基台的位置。主要应用于曝光工艺，尤其应用于扫描曝光工艺流程中。
文档编号G03F7/20GK201917775SQ20102068575
公开日2011年8月3日 申请日期2010年12月28日 优先权日2010年12月28日
发明者董云 申请人:北京京东方光电科技有限公司